【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本申請涉及蒸鍍領域，特別涉及一種蒸鍍方法、fmm?sheet的制作方法及掩膜版。
技術介紹
1、有機電致發(fā)光器件(oled)由于具有亮度高、色彩飽和、輕薄、可彎曲等優(yōu)點在顯示面板領域占比逐漸增大。
2、oled、amoled等制程工藝中，蒸鍍?yōu)闆Q定oled或amoled性能關鍵的工藝之一，與蒸鍍系統(tǒng)配合的掩膜版(mask)是決定蒸鍍系統(tǒng)性能的關鍵，掩膜版(mask)的結構如圖1，掩膜版(mask)包括frame(框架)1、fmask?sheet2和fmm?sheet3，其中，frame1為金屬框架，起結構穩(wěn)定作用，fmm?sheet3起掩膜，形成小孔蒸鍍像素的作用，fmask?sheet2起間隔作用。fmask?sheet2包括howllin?g21和cover22,掩膜版(mask)組裝時，先將每根howlling21焊到frame1上，再將cover22焊到frame1上，最后將fmm?sheet3焊到frame1上，形成如圖1的結構。fmm?sheet3的結構如圖2，fmm?sheet3包括兩端頭31，兩端頭31之間設置有蒸鍍作業(yè)區(qū)32，該蒸鍍作業(yè)區(qū)32由若干網格形的蒸鍍單元321組成，相鄰兩個蒸鍍單元321之間設置有分隔區(qū)322。
3、早期的fmm?sheet3的蒸鍍單元321的尺寸大小與客戶要求的產品屏幕的尺寸大小相同，以手機屏幕來說，蒸鍍單元321的尺寸大小＝手機屏幕的尺寸大小，但是在實際生產中，這樣大小的蒸鍍單元321用于蒸鍍中，蒸鍍工序后的基板最終形成的產品在屏幕發(fā)光時出現(xiàn)彩斑或者局部區(qū)域
4、經過上述預變形的fmm?sheet3用于蒸鍍中，蒸鍍工序后的基板最終形成的產品能夠成為良品供一般客戶使用，但是，這樣的fmm?sheet3用于蒸鍍工序后，沉積在基板上的蒸鍍膜的膜厚及大小也并不均勻，呈現(xiàn)圍繞fmm?sheet3水平軸線方向(howlling21方向)為中心，在中心位置的蒸鍍膜的膜厚及大小與客戶要求的膜厚及大小基本相同，遠離中心位置的蒸鍍膜的膜厚較中心位置的膜厚要厚，膜大小卻較中心位置的要小，具體呈現(xiàn)離中心位置的越遠，膜厚度越厚，膜大小越小，無法滿足高端客戶的要求。
5、上述
技術介紹
是為了便于理解本專利技術，并非是申請本專利技術之前已向普通公眾公開的公知技術。
技術實現(xiàn)思路
1、基于上述問題，本申請?zhí)峁┮环N蒸鍍方法，該蒸鍍方法蒸鍍后，基板上形成厚度及大小均基本均勻的沉積蒸鍍膜，從而提高了產品的質量性能，生產出的產品可供高端客戶使用。
2、一種蒸鍍方法，該蒸鍍方法在蒸鍍時抵消或補償蒸鍍系統(tǒng)內熱應力。
3、可選地，所述抵消或補償蒸鍍系統(tǒng)內熱應力通過采用抵消或補償掩膜版蒸鍍時熱應力的掩膜版。
4、可選地，所述掩膜版為帶有可以在蒸鍍時抵消或補償熱應力的fmm?sheet。
5、本專利技術還提供一種fmm?sheet的制作方法。
6、一種fmm?sheet的制作方法，包括以下步驟：
7、s1:取fmm?sheet粗件；
8、s2:在fmm?sheet粗件上涂覆光阻膜，曝光，顯影，蝕刻后形成fmm?sheet精件，該fmm?sheet精件包括兩端頭，兩端頭之間設置有蒸鍍作業(yè)區(qū)，該蒸鍍作業(yè)區(qū)由若干網格形的蒸鍍單元組成，相鄰兩個蒸鍍單元之間設置有分隔區(qū)，該分隔區(qū)的數目為單數，該分隔區(qū)包括中間分隔區(qū)和以該中間分隔區(qū)為對稱分布的上分隔區(qū)和下分隔區(qū)，兩端頭與蒸鍍單元臨近位置設置有雙面減薄區(qū)，雙面減薄區(qū)的厚度<上分隔區(qū)的厚度<中間分隔區(qū)厚度，上分隔區(qū)中，遠離中間分隔區(qū)的厚度<臨近中間分隔區(qū)的厚度，逐漸變薄。雙面減薄區(qū)的厚度<下分隔區(qū)的厚度<中間分隔區(qū)厚度，下分隔區(qū)中，遠離中間分隔區(qū)的厚度<臨近中間分隔區(qū)的厚度，逐漸變薄。
9、可選地，所述分隔區(qū)的數目為3個，上分隔區(qū)的下表面、下分隔區(qū)的下表面、中間分隔區(qū)的下表面在同一平面，上分隔區(qū)的上表面與下分隔區(qū)的上表面在同一平面，上分隔區(qū)的上表面與下分隔區(qū)的上表面低于中間分隔區(qū)的上表面。
10、本專利技術還提供一種fmm?sheet的制作方法。
11、一種fmm?sheet的制作方法，包括以下步驟：
12、一種fmm?sheet的制作方法，包括以下步驟：
13、s1:取fmm?sheet粗件；
14、s2:在fmm?sheet粗件上涂覆光阻膜，曝光，顯影，蝕刻后形成fmm?sheet精件，該fmm?sheet精件包括兩端頭，兩端頭之間設置有蒸鍍作業(yè)區(qū)，該蒸鍍作業(yè)區(qū)由若干網格形的蒸鍍單元組成，相鄰兩個蒸鍍單元之間設置有分隔區(qū)，分隔區(qū)的數目為雙數，該分隔區(qū)包括對稱分布的上分隔區(qū)和下分隔區(qū)，兩端頭與蒸鍍單元臨近位置設置有雙面減薄區(qū)，雙面減薄區(qū)的厚度<上分隔區(qū)的厚度，雙面減薄區(qū)的厚度<下分隔區(qū)的厚度，上分隔區(qū)中，遠離fmmsheet3軸線的厚度<臨近fmm?sheet3軸線的的厚度，逐漸變薄，下分隔區(qū)中，遠離fmmsheet3軸線的厚度<臨近fmm?sheet3軸線的厚度，逐漸變薄。
15、可選地，所述分隔區(qū)的數目為2個，上分隔區(qū)的下表面、下分隔區(qū)的下表面在同一平面，上分隔區(qū)的上表面與下分隔區(qū)的上表面在同一平面，雙面減薄區(qū)的下表面低于上分隔區(qū)的下表面，雙面減薄區(qū)的上表面與上分隔區(qū)的上表面齊平。
16、本專利技術還提供一種掩膜版。
17、一種掩膜版，該掩膜版包括frame、fmask?sheet和fmm?sheet，該fmm?sheet包括兩端本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種蒸鍍方法，其特征在于，該蒸鍍方法在蒸鍍時抵消或補償蒸鍍系統(tǒng)內熱應力。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述抵消或補償蒸鍍系統(tǒng)內熱應力通過采用抵消或補償掩膜版蒸鍍時熱應力的掩膜版。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述掩膜版為帶有可以在蒸鍍時抵消或補償熱應力的FMM?Sheet。
4.一種FMM?Sheet的制作方法，包括以下步驟：
5.根據權利要求4所述的FMM?Sheet的制作方法，其特征在于，所述分隔區(qū)(322)的數目為3個，上分隔區(qū)(3222)的下表面、下分隔區(qū)(3223)的下表面、中間分隔區(qū)(3221)的下表面在同一平面，上分隔區(qū)(3222)的上表面與下分隔區(qū)(3223)的上表面在同一平面，上分隔區(qū)(3222)的上表面與下分隔區(qū)(3223)的上表面低于中間分隔區(qū)(3221)的上表面。
6.一種FMM?Sheet的制作方法，包括以下步驟：
7.根據權利要求6所述的FMM?Sheet的制作方法，其特征在于，所述分隔區(qū)(322)的數目為2個，上分隔區(qū)(3222)的下表面、
8.一種掩膜版，該掩膜版包括Frame、FMASK?Sheet和FMM?Sheet，該FMM?Sheet包括兩端頭(31)，兩端頭(31)之間設置有蒸鍍作業(yè)區(qū)(32)，該蒸鍍作業(yè)區(qū)(32)由若干網格形的蒸鍍單元(321)組成，相鄰兩個蒸鍍單元(321)之間設置有分隔區(qū)(322)，該分隔區(qū)(322)的數目為單數，該分隔區(qū)(322)包括中間分隔區(qū)(3221)和以該中間分隔區(qū)(3221)為對稱分布的上分隔區(qū)(3222)和下分隔區(qū)(3223)，其特征在于，所述兩端頭(31)與蒸鍍單元(321)臨近位置設置有雙面減薄區(qū)(33)，雙面減薄區(qū)(33)的厚度<上分隔區(qū)(3222)的厚度<中間分隔區(qū)(3221)厚度，上分隔區(qū)(3222)中，遠離中間分隔區(qū)(3221)的厚度<臨近中間分隔區(qū)(3221)的厚度，逐漸變薄。雙面減薄區(qū)(33)的厚度<下分隔區(qū)(3223)的厚度<中間分隔區(qū)(3221)厚度，下分隔區(qū)(3223)中，遠離中間分隔區(qū)(3221)的厚度<臨近中間分隔區(qū)(3221)的厚度，逐漸變薄。
9.根據權利要求8所述的掩膜版，其特征在于，所述分隔區(qū)(322)的數目為3個，上分隔區(qū)(3222)的下表面、下分隔區(qū)(3223)的下表面、中間分隔區(qū)(3221)的下表面在同一平面，上分隔區(qū)(3222)的上表面與下分隔區(qū)(3223)的上表面在同一平面，上分隔區(qū)(3222)的上表面與下分隔區(qū)(3223)的上表面低于中間分隔區(qū)(3221)的上表面。
10.一種掩膜版，該掩膜版包括Frame、FMASK?Sheet和FMM?Sheet，該FMM?Sheet包括兩端頭(31)，兩端頭(31)之間設置有蒸鍍作業(yè)區(qū)(32)，該蒸鍍作業(yè)區(qū)(32)由若干網格形的蒸鍍單元(321)組成，相鄰兩個蒸鍍單元(321)之間設置有分隔區(qū)(322)，分隔區(qū)(322)的數目為雙數，該分隔區(qū)(322)包括對稱分布的上分隔區(qū)(3222)和下分隔區(qū)(3223)，其特征在于，所述兩端頭(31)與蒸鍍單元(321)臨近位置設置有雙面減薄區(qū)(33)，雙面減薄區(qū)(33)的厚度<上分隔區(qū)(3222)的厚度，雙面減薄區(qū)(33)的厚度<下分隔區(qū)(3223)的厚度，上分隔區(qū)(3222)中，遠離FMM?Sheet3軸線的厚度<臨近FMM?Sheet3軸線的的厚度，逐漸變薄，下分隔區(qū)(3223)中，遠離FMM?Sheet3軸線的厚度<臨近FMM?Sheet3軸線的厚度，逐漸變薄；作為優(yōu)選，所述分隔區(qū)(322)的數目為2個，上分隔區(qū)(3222)的下表面、下分隔區(qū)(3223)的下表面在同一平面，上分隔區(qū)(3222)的上表面與下分隔區(qū)(3223)的上表面在同一平面，雙面減薄區(qū)(33)的下表面低于上分隔區(qū)(3222)的下表面，雙面減薄區(qū)(33)的上表面與上分隔區(qū)(3222)的上表面齊平。
...【技術特征摘要】
1.一種蒸鍍方法，其特征在于，該蒸鍍方法在蒸鍍時抵消或補償蒸鍍系統(tǒng)內熱應力。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述抵消或補償蒸鍍系統(tǒng)內熱應力通過采用抵消或補償掩膜版蒸鍍時熱應力的掩膜版。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述掩膜版為帶有可以在蒸鍍時抵消或補償熱應力的fmm?sheet。
4.一種fmm?sheet的制作方法，包括以下步驟：
5.根據權利要求4所述的fmm?sheet的制作方法，其特征在于，所述分隔區(qū)(322)的數目為3個，上分隔區(qū)(3222)的下表面、下分隔區(qū)(3223)的下表面、中間分隔區(qū)(3221)的下表面在同一平面，上分隔區(qū)(3222)的上表面與下分隔區(qū)(3223)的上表面在同一平面，上分隔區(qū)(3222)的上表面與下分隔區(qū)(3223)的上表面低于中間分隔區(qū)(3221)的上表面。
6.一種fmm?sheet的制作方法，包括以下步驟：
7.根據權利要求6所述的fmm?sheet的制作方法，其特征在于，所述分隔區(qū)(322)的數目為2個，上分隔區(qū)(3222)的下表面、下分隔區(qū)(3223)的下表面在同一平面，上分隔區(qū)(3222)的上表面與下分隔區(qū)(3223)的上表面在同一平面，雙面減薄區(qū)(33)的下表面低于上分隔區(qū)(3222)的下表面，雙面減薄區(qū)(33)的上表面與上分隔區(qū)(3222)的上表面齊平。
8.一種掩膜版，該掩膜版包括frame、fmask?sheet和fmm?sheet，該fmm?sheet包括兩端頭(31)，兩端頭(31)之間設置有蒸鍍作業(yè)區(qū)(32)，該蒸鍍作業(yè)區(qū)(32)由若干網格形的蒸鍍單元(321)組成，相鄰兩個蒸鍍單元(321)之間設置有分隔區(qū)(322)，該分隔區(qū)(322)的數目為單數，該分隔區(qū)(322)包括中間分隔區(qū)(3221)和以該中間分隔區(qū)(3221)為對稱分布的上分隔區(qū)(3222)和下分隔區(qū)(3223)，其特征在于，所述兩端頭(31)與蒸鍍單元(321)臨近位置設置有雙面減薄區(qū)(33)，雙面減薄區(qū)(33)的厚度<上分隔區(qū)(3222)的厚度<中...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：周俊吉，
申請(專利權)人：成都拓維高科光電科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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