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【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種聚酰胺-酰亞胺基膜、其制備方法、覆蓋窗和顯示裝置。
技術(shù)介紹
1、聚酰亞胺基樹脂,如聚(酰胺-酰亞胺)(pai),具有優(yōu)異的耐磨擦性、耐熱性和耐化學(xué)性。因此,它們被用于初級電絕緣、涂層、粘合劑、擠出用樹脂、耐熱涂料、耐熱板、耐熱粘合劑、耐熱纖維和耐熱膜等應(yīng)用中。
2、聚酰亞胺應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域。例如,聚酰亞胺被制成粉末形式并用作金屬或磁性導(dǎo)線的涂層。根據(jù)其應(yīng)用情況,聚酰亞胺可與其他添加劑混合。此外,聚酰亞胺與含氟聚合物一起用作裝飾和防腐的涂料。它還起到將含氟聚合物粘合到金屬基板上的作用。此外,聚酰亞胺用于涂覆廚具,利用其耐熱性和耐化學(xué)性用作氣體分離膜,并且在天然氣井中用于過濾如二氧化碳、硫化氫和雜質(zhì)等污染物。
3、近年來,聚酰亞胺以膜形式發(fā)展,該膜更便宜,并且具有優(yōu)異的光學(xué)、機(jī)械和熱學(xué)性能。這種聚酰亞胺基膜可以應(yīng)用于有機(jī)發(fā)光二極管(oleds)或液晶顯示器(lcds)等顯示材料,并且如果實(shí)現(xiàn)延遲性能,則可以應(yīng)用于抗反射膜、補(bǔ)償膜和延遲膜。
4、當(dāng)功能層如硬涂層層壓在這種聚酰亞胺基膜上時(shí),存在功能層與膜分離的問題,或者當(dāng)在后處理中將膜浸入溶劑中時(shí),膜的機(jī)械和光學(xué)性能劣化。因此,對開發(fā)具有優(yōu)異機(jī)械性能、光學(xué)性能和后處理適用性的膜的需求不斷增加。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、技術(shù)問題
2、本專利技術(shù)的實(shí)施方案旨在提供一種在機(jī)械性能、光學(xué)性能和后處理適用性方面優(yōu)異的聚酰胺-酰亞胺基膜、其制備方法、以及包括其的覆蓋窗以及顯示裝置。
< ...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,所述膜的TGA重量損失面積值為0.01%min/℃或更低。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,在TGA分析中,所述膜的第一重量損失溫度為290℃或更高,
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,所述膜對硬涂層的粘合力為5B。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,將所述膜浸入MIBK溶劑中5秒,在80℃下干燥3分鐘,然后測定霧度,霧度變化量為0.2%或更小,并且
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,所述膜包括聚酰胺-酰亞胺基聚合物,并且所述聚酰胺-酰亞胺基聚合物包括摩爾比為2:98至70:30的酰亞胺基重復(fù)單元和酰胺基重復(fù)單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,所述膜的第一側(cè)的表面張力為40dyn/cm或更大。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,基于50μm厚的所述膜,所述膜具有5GPa或更大的模量、80%或更高的透射率、1%或更低的霧度,以及5或更
8.一種用于顯示裝置的覆蓋窗,其特征在于,其包括聚酰胺-酰亞胺基膜和功能層,其中,所述聚酰胺-酰亞胺基膜的TGA重量損失面積值為0.01%min/℃或更低。
9.一種顯示裝置,其特征在于,其包括:顯示單元;以及設(shè)置在所述顯示單元上的覆蓋窗,其中,所述覆蓋窗包括聚酰胺-酰亞胺基膜和功能層,并且所述聚酰胺-酰亞胺基膜的TGA重量損失面積值為0.01%min/℃或更低。
10.一種制備權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜的方法,其特征在于,所述方法包括:
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,所述膜的tga重量損失面積值為0.01%min/℃或更低。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,在tga分析中,所述膜的第一重量損失溫度為290℃或更高,
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,所述膜對硬涂層的粘合力為5b。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,將所述膜浸入mibk溶劑中5秒,在80℃下干燥3分鐘,然后測定霧度,霧度變化量為0.2%或更小,并且
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞胺基膜,其特征在于,所述膜包括聚酰胺-酰亞胺基聚合物,并且所述聚酰胺-酰亞胺基聚合物包括摩爾比為2:98至70:30的酰亞胺基重復(fù)單元和酰胺基重復(fù)單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚酰胺-酰亞...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:金漢俊,李鎮(zhèn)龍,李辰雨,
申請(專利權(quán))人:愛思開邁克沃有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
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