琢型的鉆石及其琢型方法技術

一種琢型的鉆石及其琢型方法。所述琢型的鉆石是凸多面體并且具有八十九個刻面，比傳統的理想明亮式琢型多三十二個刻面，特別地，通過將傳統的理想明亮式琢型鉆石的八個風箏刻面中的每一個替代為兩個三角刻面——臺面轉折刻面和腰部轉折刻面而在冠部上添加八個額外的刻面，所述兩個三角刻面具有公共的邊緣——位于與臺面平行的平面內的腰部轉折，并且通過將傳統的理想明亮式琢型的八個下主刻面中的每一個替代為在一點上彼此接觸的四個刻面——下腰亭部、兩個下星半部和下星亭部而在亭部添加所述三十二個額外刻面中的其他二十四個刻面，所述點即相遇點，并且亭部高度大致比相應傳統的理想明亮式琢型中亭部高度大３％。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及。
技術介紹
琢型并拋光的裝飾用鉆石的質量和價值通常由四C來描述 -克拉 -凈度 _顏色 _切工 克拉是鉆石的重量單位，一克拉等于200毫克。傳統來說，鉆石的價值一直是由其 大小或者以克拉計的重量來決定的。寶石越大，價值就越高。 凈度指原石中已存在的瑕疵和固有雜質。 顏色也由原石決定。無色和透明的寶石是稀少的，并且由此更有價值。 切工指以具有多個刻面的特定形狀對寶石的琢型和拋光。寶石被琢型的方式決定 進入寶石的光將遵循的路徑。幾乎所有進入寶石的光還將再次離開寶石。沿光路的反射、 折射和散射將決定寶石的閃耀度(brilliance)和火彩度(fire)。 顏色和凈度是寶石的本質屬性，已經針對其建立了評級標度。不能改變它們的值 來增加寶石的價值。 歷史上，曾經以試圖在工藝中保留最大重量同時可以去除缺陷處(像斑點或顆 粒)的方式來琢型和拋光寶石。因為光在寶石中的作用未曾被調節，因此光未能產生很多 火彩，也未在寶石中形成閃耀度。 在最近的幾個世紀中，琢型的寶石所呈現的閃耀度和火彩度成為比寶石單純的重 量更受重視的特征。 即使以現代技術，對鉆石晶體的琢型和拋光總是導致重量的巨大損失；該損失幾 乎不少于50%。 當晶體是八面體時，圓鉆明亮式琢型(round brilliant cut)通常是優選的，因為 通常可以從一顆晶體琢型出兩顆寶石。恰如其名，明亮式琢型的特征在于大的閃耀度和火 彩度。 在十七世紀中期，以被稱為馬扎林或相似明亮式的形式琢型了第一批鉆石，所述 馬扎林或相似明亮式是今日明亮式琢型的前身。從那以后，明亮式琢型進一步演進。 用于最大化閃耀度的不同明亮式琢型的尺寸和角度曾經是由技巧而不是由科學 所決定的。在1912年，Marcel Tolkowsky出版了他的書籍Diamond design, A study of Reflectionand Refraction in Diamond (鉆石設計，鉆石反射和折射的研究)。該書籍包 含數學研究，來決定以明亮式琢型實現最大的閃耀度的最優角度和尺寸。 Tolkowsky的理想模型并未考慮所有方面它是兩維模型，未考慮腰部的作用。從 那以后，該模型已經約略微調。但是無論如何，對于被認為琢型和拋光非常良好并且是僅以4技巧獲得的鉆石的調查發現，這樣的鉆石具有與Tolkowsky的理想模型預測的尺寸和角度 相同的尺寸和角度。 我們可以得出結論，可以通過改變寶石被琢型的方式來影響具有給定大小的寶石 的價值。目的在于獲得寶石中最大的閃耀度和火彩度，同時保留可能的最大重量。 問題在于這些是相沖突的要求。
技術實現思路
因此，本專利技術的目的在于提供一種解決方案，該解決方案至少減輕上面提及的缺 點以及其他缺點。 為此，本專利技術公開一種琢型的鉆石，其特征在于，所述鉆石是凸多面體的，并且具 有八十九個刻面，其比傳統的理想明亮式琢型(ideal-cut brilliant)多三十二個刻面，特 別地，通過將傳統的理想明亮式琢型的鉆石的八個風箏刻面中的每一個替代為兩個三角刻 面——臺面轉折刻面和腰部轉折刻面而在冠部上添加八個額外的刻面，所述兩個三角刻面 具有公共的邊緣——位于與臺面平行的平面內的腰部轉折，并且通過將傳統的理想明亮式 琢型的八個下主刻面中的每一個替代為在一點上彼此接觸的四個刻面——下腰亭部、兩個 下星半部和下星亭部而在亭部(3)中添加所述三十二個額外的刻面中的其他二十四個刻 面，所述點即相遇點，并且由此亭部高度大致比相應傳統的理想明亮式琢型中亭部高度大 3%。 根據本專利技術的琢型的鉆石的確進一步提高了這樣的鉆石的閃耀度和火彩度，并且 同時相比于明亮式琢型設計，允許保留更多的原石重量。 因此，根據本專利技術的琢型的鉆石最重要的技術特征在于相比于理想明亮式琢型的 重量保留。本專利技術的美學和質量特征是根據本專利技術的琢型的鉆石所展現的增加的閃耀度和 火彩度。另一美學特征是在該鉆石中可以觀察到的八角星形。附圖說明 為了更好地示出本專利技術的特性，在之后參照附圖描述了琢型的鉆石實施方案的優 選形式，作為不具有任何限制性特性的實施例，在附圖中 圖1示意性表示出根據已知理想明亮式琢型的鉆石(現有技術)的前視圖； 圖2是圖1中鉆石的頂視圖； 圖3是圖1中鉆石的底視圖； 圖4示出沿圖2中線IV-IV的部分橫截面； 圖5示意性表示出根據本專利技術的琢型的鉆石的前視圖； 圖6是圖5中鉆石的頂視圖； 圖7是圖5中鉆石的底視圖； 圖8示出沿圖6中線VIII-VIII的部分橫截面；以及 圖9表示圖5中的鉆石，其中指示出一些光線。具體實施例方式因為從理想明亮式琢型的形狀開始可以最簡單地解釋根據本專利技術的琢型的鉆石的形狀，因此，我們將首先解釋這樣的理想明亮式琢型l(現有技術)的幾何布局。當不存在底尖時，理想明亮式琢型1由五十七個刻面構成。這樣的鉆石的形狀可以從圖1到4中得出。 理想明亮式琢型1由被稱為冠部2的上部分和被稱為亭部3的下部分構成。這兩 個部分由相對薄的盤(被稱為腰部4)分開。出于本專利技術的目的，腰部4沒必要存在。當不 存在腰部4時，冠部2和亭部3共有的水平面仍舊被稱為腰面。腰部4本身可以琢有刻面 (facetted)或者未琢有刻面。這與本專利技術無關。 冠部2包括三十三個刻面。 冠部2的頂刻面位于水平面中，并且被稱為臺面(table) 5。 存在八個冠部風箏刻面6，八個冠部星刻面7和十六個上半部刻面8。 亭部3包括16個下半部刻面9，以及八個下主刻面10。亭部3還可以包含底尖刻面，所述底尖刻面是位于亭部3的尖峰附近的面，并且其平行于臺面5。 在理想明亮式琢型1中，如已知的，通過臺面5中心并且通過亭部3尖峰或者通過底尖(如果存在的話)中心的軸線是八重對稱的軸線。 理想明亮式琢型1的形狀可以由八個獨立的參數描述。從這些獨立的參數可以容 易地計算其他比例。下表l以已知的方式總結了最重要的參數，并指出其范圍和附圖中的 標記。 最小最大標記腰面直徑100%100%R總深度59.80%62.40%d臺面53%57.40%f冠部高度13.80%15.90%腰部2.80%4.00%b亭部深度42.00%43.50%c星角度23.0度24.4度D上半部角度41.0度42度C冠部角度33.7度35.4度A下半部角度41.9度42.0度E亭部角度40.5度4U度B星長度％52%56%j/h上半部長度％54%58%i/h下半部長度％76%78% 表1 不那么重要的是量度g，其指示如圖1中可以看到的腰部4的最小高度。 在附圖中示出不具有底尖的理想明亮式琢型1。 根據本專利技術的不具有底尖刻面的鉆石琢型11也是凸多面體，但是它具有八十九 個刻面。因此，這比傳統的理想明亮式琢型1多三十二個刻面。6 這些額外刻面中的八個刻面是通過以下方式添加到冠部2上的，即將傳統的理想 明亮式琢型鉆石的八個風箏面6中的每一個替代為兩個三角刻面(即臺面轉折刻面(break facet) 12和腰部轉折刻面13)，這兩個三角刻面具有公共的邊緣，即位于與臺面5平行的平 面內的腰部轉折(break)。 詞匯替代在本文中僅僅用于指示理想明亮式琢型1中發生修改之處的面。它 當然不是指示根據本專利技術的琢型的鉆石11意圖要從理想明亮式琢本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種琢型的鉆石（１１），其中所述鉆石是凸多面體并且具有八十九個刻面，比傳統的理想明亮式琢型（１）多三十二個刻面，特別地，通過將傳統的理想明亮式琢型的鉆石（１）的八個風箏刻面（６）中的每一個替代為兩個三角刻面－－臺面轉折刻面（１２）和腰部轉折刻面（１３）而在冠部（２）上添加八個額外的刻面，所述兩個三角刻面具有公共的邊緣－－位于與臺面（５）平行的平面內的腰部轉折，并且通過將傳統的理想明亮式琢型（１）的八個下主刻面（１０）中的每一個替代為在一點上彼此接觸的四個刻面－－下腰亭部（１４）、兩個下星半部（１５）和下星亭部（１６）而在亭部（３）添加所述三十二個額外的刻面中的其他二十四個刻面，所述點即相遇點，并且亭部高度大致比相應傳統的理想明亮式琢型（１）中亭部高度大３％。

【技術特征摘要】
EP 2008-10-22 08018467.4一種琢型的鉆石(11)，其中所述鉆石是凸多面體并且具有八十九個刻面，比傳統的理想明亮式琢型(1)多三十二個刻面，特別地，通過將傳統的理想明亮式琢型的鉆石(1)的八個風箏刻面(6)中的每一個替代為兩個三角刻面——臺面轉折刻面(12)和腰部轉折刻面(13)而在冠部(2)上添加八個額外的刻面，所述兩個三角刻面具有公共的邊緣——位于與臺面(5)平行的平面內的腰部轉折，并且通過將傳統的理想明亮式琢型(1)的八個下主刻面(10)中的每一個替代為在一點上彼此接觸的四個刻面——下腰亭部(14)、兩個下星半部(15)和下星亭部(16)而在亭部(3)添加所述三十二個額外的刻面中的其他二十四個刻面，所述點即相遇點，并且亭部高度大致比相應傳統的理想明亮式琢型(1)中亭部高度大3％。2. 根據權利要求l所述的琢型的鉆石(ll)，其中所述八個下星亭部刻面(16...

【專利技術屬性】
技術研發人員：讓保羅托爾科斯基，
申請(專利權)人：讓保羅托爾科斯基，
類型：發明
國別省市：BE[比利時]