【技術實現步驟摘要】
本技術涉及膜結構，尤其涉及一種漸變顏色膜。
技術介紹
1、傳統的logo膜層顏色單一，主要是因為傳統logo(徽標)膜層的物理氣相沉積(pvd)鍍膜主要使用的是鉻、鈦金屬材料以及其氮化物，碳化物等。但這些材料對光的吸收大，對光的干涉效應不明顯。因此logo的顏色受光線入射角度的影響較小，不同目視角度看到的logo顏色變化小，logo能夠得到的顏色類型少，logo無法產生顏色逐漸變化的彩色效果。
2、因此，有必要提供一種新型的漸變顏色膜以解決現有技術中存在的上述問題。
技術實現思路
1、本技術的目的在于提供一種漸變顏色膜，以解決上述現有技術中存在的至少一種缺陷，能使鍍有漸變顏色膜的logo產生顏色逐漸變化的彩色效果。
2、為實現上述目的，本技術的所述一種漸變顏色膜，包括：光學層，所述光學層用于鍍制在基板上；所述光學層包括膜系結構，所述膜系結構為2l(lh)^x，其中，2l表示l膜層重復2次，(lh)^x表示依次沉積l膜層和h膜層并重復x次，x為正整數；其中，所述h膜層為1/4波長光學厚度的高折射率膜層，所述l膜層為1/4波長光學厚度的低折射率膜層。
3、進一步地，所述膜系結構中的2l層中的所述低折射率膜層設置在所述基板上。
4、進一步地，x為小于5的正整數。
5、進一步地，所述低折射率膜層的物理厚度為48nm-160nm。
6、進一步地，所述高折射率膜層的物理厚度為35nm-122nm。
7、進一步地
8、進一步地，所述低折射率膜層對波長范圍在可見光波段的光的折射率為1.43-1.47。
9、進一步地，所述高折射率膜層對波長范圍在可見光波段的光的折射率為1.8-2.2。
10、進一步地，所述漸變顏色膜還包括設置在所述光學層上的耐磨層，所述耐磨層包括氧化硅層和as樹脂基聚合物涂層，所述as樹脂基聚合物涂層設置在所述氧化硅層上。
11、進一步地，所述氧化硅層設置在所述膜系結構中的(lh)^x層中的最后一層所述高折射率膜層上。
12、本技術所述的漸變顏色膜的有益效果是：
13、通過設置所述膜系結構為2l(lh)^x，使得可見光波段的入射光線在所述膜系結構內發生多次折反射后發生相長干涉效應，產生光程差，所述漸變顏色膜對不同波段的入射光線存在不同的反射率；可見光波段的入射光線開始入射時，所述漸變顏色膜呈現初始顏色，通過改變入射光線的入射角度，以使所述膜系結構對不同波段的入射光線的反射率發生改變，所述漸變顏色膜呈現的色彩發生變化，所述漸變顏色膜實現顏色漸變，進而使鍍有所述漸變顏色膜的logo產生顏色逐漸變化的彩色效果。其中，2l表示l膜層重復2次，所述膜系結構中在(lh)^x的基礎上，在(lh)^x的第一層l層前插入一層1/2波長光學厚度的低折射率膜層，也就是2l，可以保證入射光線在波谷處的反射系數不變，但是波谷兩邊的入射光線的反射系數更大，反射率更高，并且隨著波長變化，反射系數的變化更明顯，可以實現本技術的所述漸變顏色膜更鮮艷的顏色漸變。且所述漸變顏色膜結構簡單規整，可以依據特定的視覺需求調整所述膜系結構的x值，以實現所述漸變顏色膜特定的顏色漸變，具備廣泛的使用范圍。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種漸變顏色膜，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述膜系結構中的2L層中的所述低折射率膜層設置在所述基板上。
3.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，x為小于5的正整數。
4.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述低折射率膜層的物理厚度為48nm-160nm。
5.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述高折射率膜層的物理厚度為35nm-122nm。
6.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述低折射率膜層由氧化硅制成，所述高折射率膜層由氮化硅制成。
7.根據權利要求1至6中任意一項所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述低折射率膜層對波長范圍在可見光波段的光的折射率為1.43-1.47。
8.根據權利要求1至6中任意一項所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述高折射率膜層對波長范圍在可見光波段的光的折射率為1.8-2.2。
9.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，還包括設置在所述光學層上的耐磨層，所述耐磨層包括氧化
10.根據權利要求9所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述氧化硅層設置在所述膜系結構中的(LH)^x層中的最后一層所述高折射率膜層上。
...【技術特征摘要】
1.一種漸變顏色膜，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述膜系結構中的2l層中的所述低折射率膜層設置在所述基板上。
3.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，x為小于5的正整數。
4.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述低折射率膜層的物理厚度為48nm-160nm。
5.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述高折射率膜層的物理厚度為35nm-122nm。
6.根據權利要求1所述的漸變顏色膜，其特征在于，所述低折射率膜層由氧化硅制成，所述高折射率膜層由氮化硅制成。
7....
【專利技術屬性】
技術研發人員：王維權，
申請(專利權)人：納峰真空鍍膜上海有限公司，
類型：新型
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。