【技術實現步驟摘要】
本申請涉及真空設備故障排查的，尤其涉及一種真空泄露排查裝置及真空泄露排查方法。
技術介紹
1、半導體生產的plasma(電漿清洗)階段需要在真空環境中進行，具體實現方式是提供清洗半導體的密閉腔室，同時抽真空設備通過真空管道連接該密閉腔室，利用抽真空設備抽氣以為半導體營造真空環境。根據廠房布置需求，抽真空設備一般需要通過多根真空管道首尾相接后將抽真空設備與密閉腔室連接，各真空管道之間通過法蘭板和密封圈密封連接。當機組出現抽真空異常(一般為泄露導致真空壓力過大)時，需要排查排查出具體故障的點后進行維修。一般的半導體工廠內沒有專用的測試儀器，當發生抽真空泄露時，維修排查的時間較長，甚至要求廠商來廠維修，造成公司修繕費用高，維修效率低和耗時，影響后續工序的進展。
技術實現思路
1、本專利技術實施例的目的在于：提供一種真空泄露排查裝置及真空泄露排查方法，其能夠解決現有技術中存在的上述問題。
2、為達上述目的，本申請采用以下技術方案：
3、一種真空泄露排查裝置，包括：
4、三通管，具有第一接口、第二接口和第三接口，所述第一接口用于與被測真空管連接；
5、真空壓力計，連接于所述第二接口，用于監測所述三通管內的真空壓力；
6、泄壓端蓋，連接于所述第三接口，用于控制所述第三接口的打開或關閉。
7、可選的，所述泄壓端蓋包括端蓋座體和端蓋板，所述端蓋座體固定安裝于所述第三接口上，所述端蓋座體上具有泄壓口，通過所述端蓋板的開合控制所述
8、可選的，所述端蓋座體包括連接筒和固定連接于所述連接筒一端的端板，所述連接筒與所述第三接口套接連接，所述泄壓口設置于所述端板上，且所述泄壓口的口徑小于所述第三接口的口徑。
9、可選的，所述端板上凸設有環繞所述泄壓口設置的連接嘴。
10、可選的，所述端蓋板一側與所述端板鉸接，通過翻轉所述端蓋板實現控制所述泄壓口的開閉。
11、可選的，所述端蓋板與所述端蓋板之間設置有用于將多數端蓋板鎖定于封閉所述泄壓口的狀態的鎖扣。
12、可選的，所述端蓋板內側設置有用于抵接所述連接嘴以加強密封的密封圈。
13、另一方面，提供一種真空泄露排查方法，用于排查抽真空設備的管路泄露位置，該抽真空設備包括真空機和若干首尾相接的真空管，包括步驟：
14、拆除待測真空管后端的管路；
15、將三通管的第一接口連接于待測真空管的后端；
16、將真空壓力計與真空機電連接；
17、啟動真空機，根據真空機的壓力顯示值判斷該真空管前端是否存在泄露；
18、打開泄壓端蓋泄壓，之后拆下三通管。
19、可選的，采用折中法對所有所述真空管進行排查，具體為：
20、s1.選取最中間的真空管作為待測真空管進行排查，當排查結果未發現存在泄露時，表明泄露位置位于該真空管的后方，此時進入步驟s2；當排查結果發現存在泄露時，表明泄露位置位于該真空管的前方，此時進入步驟s3；
21、s2.拆下三通管，將該真空管后方一半數量的真空管重新接上，再重新接上三通管進行檢測；
22、s3.拆下三通管，將該真空管前方一半數量的真空管拆除，再重新接上三通管進行檢測；
23、重復以上步驟，直至排查出泄露的準確位置。
24、可選的，根據真空機的壓力顯示值判斷該真空管前端是否存在泄露時，若壓力顯示值小于真空設定值的50％則表明無泄露，若壓力顯示值大于真空設定值的50％則表明有泄露。
25、本申請的有益效果為：本專利技術提供了一種真空泄露排查裝置及真空泄露排查方法，該裝置包括安裝于三通管上的真空壓力計和泄壓端蓋，通過真空壓力計檢測管道內部壓力可以判斷有無泄壓情況，實現快速排查真空泄露；檢測后可以通過打開泄壓端蓋向管路內部泄壓，避免內部負壓導致真空泄露排查裝置拆卸困難的問題。
26、本專利技術方法中，采用本方案的真空泄露排查裝置對管路進行泄露排查，只需進行簡單的拆管、真空泄露排查裝置的安裝以及真空壓力計的接線便可，本方案的真空泄露排查裝置的體積小，便于對管路上各部位進行排查，同時其安裝方便，真空壓力計直接接線到真空機上，利用真空機顯示實測壓力，即，本方案充分利用現有設備實現檢測目的，簡化了真空泄露排查裝置的結構，降低了排查裝置的制造成本。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種真空泄露排查裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述泄壓端蓋(3)包括端蓋座體(31)和端蓋板(32)，所述端蓋座體(31)固定安裝于所述第三接口(13)上，所述端蓋座體(31)上具有泄壓口(33)，通過所述端蓋板(32)的開合控制所述泄壓口(33)的開閉，進而實現控制所述第三接口(13)的開閉。
3.根據權利要求2所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述端蓋座體(31)包括連接筒(311)和固定連接于所述連接筒(311)一端的端板(312)，所述連接筒(311)與所述第三接口(13)套接連接，所述泄壓口(33)設置于所述端板(312)上，且所述泄壓口(33)的口徑小于所述第三接口(13)的口徑。
4.根據權利要求3所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述端板(312)上凸設有環繞所述泄壓口(33)設置的連接嘴(313)。
5.根據權利要求4所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述端蓋板(32)一側與所述端板(312)鉸接，通過翻轉所述端蓋板(32)實現控制所述泄壓口(33)的開閉
6.根據權利要求5所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述端蓋板(32)與所述端蓋板(32)之間設置有用于將多數端蓋板(32)鎖定于封閉所述泄壓口(33)的狀態的鎖扣(34)。
7.根據權利要求4所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述端蓋板(32)內側設置有用于抵接所述連接嘴(313)以加強密封的密封圈(321)。
8.一種基于權利要求1-7任一所述的真空泄露排查裝置的真空泄露排查方法，用于排查抽真空設備的管路泄露位置，該抽真空設備包括真空機和若干首尾相接的真空管，其特征在于，包括步驟：
9.根據權利要求8所述的真空泄露排查方法，其特征在于，采用折中法對所有所述真空管進行排查，具體為：
10.根據權利要求8所述的真空泄露排查方法，其特征在于，根據真空機的壓力顯示值判斷該真空管前端是否存在泄露時，若壓力顯示值小于真空設定值的50％則表明無泄露，若壓力顯示值大于真空設定值的50％則表明有泄露。
...【技術特征摘要】
1.一種真空泄露排查裝置，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述泄壓端蓋(3)包括端蓋座體(31)和端蓋板(32)，所述端蓋座體(31)固定安裝于所述第三接口(13)上，所述端蓋座體(31)上具有泄壓口(33)，通過所述端蓋板(32)的開合控制所述泄壓口(33)的開閉，進而實現控制所述第三接口(13)的開閉。
3.根據權利要求2所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述端蓋座體(31)包括連接筒(311)和固定連接于所述連接筒(311)一端的端板(312)，所述連接筒(311)與所述第三接口(13)套接連接，所述泄壓口(33)設置于所述端板(312)上，且所述泄壓口(33)的口徑小于所述第三接口(13)的口徑。
4.根據權利要求3所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述端板(312)上凸設有環繞所述泄壓口(33)設置的連接嘴(313)。
5.根據權利要求4所述的真空泄露排查裝置，其特征在于，所述端蓋板(32)一側與所述端板(312)...
【專利技術屬性】
技術研發人員：吳華杰，林俊杰，熊晶晶，
申請(專利權)人：杰群電子科技東莞有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。