低通光學濾波器超薄晶片的制造方法技術

本發明專利技術公開了一種低通光學濾波器超薄晶片的制作方法，其特征在于：在利用拋光機對晶片進行拋光時，使用氟碳表面活性劑作為稀土拋光粉添加劑。在利用拋光機對晶片進行拋光前，還包括：對毛胚晶片的平行度和光潔度進行檢查；切割角、旋轉角的判定；晶片的研磨。在利用拋光機對晶片進行拋光后，還包括：清洗晶片；對晶片進行波面檢查；對晶片進行脈理檢測；對晶片進行超凈面精檢查。本方法制造的濾波器晶片厚度與口徑之比≥１∶１５，面積為３９．９５ｍｍ×３３ｍｍ，厚度為０．１６５ｍｍ～０．２１５ｍｍ，光圈Ｎ≈５；加氟添加液拋光工藝，提高了晶片的面精度，增加光透過率，減少光圈（Ｎ≤５），提高晶體片粗糙度≤３０Ａ，表面透過條紋≤５本、反射條紋≤８本、透過率增加２０％、面精度＝１０／５。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種。
技術介紹
低通光學濾光器(OLPF)的工作原理是由二塊或多塊石英晶體薄板膠合而 成， 一般放在CCD傳感器前面。各種不同頻率的CZP三維視頻測試圖案經過紅 外濾光片后產生低通濾波效果，并截去0.76mm以上的波長光，經過保護玻璃 進入微透鏡陣列和彩色編碼器，最后成像在CCD光敏面上，變成帶有目標圖像 信息的電信號，經過處理電路輸出復合視頻信號。它的用途非常廣泛， 一般用 于數碼成像的產品，都需要用到低通光學濾光器，主要應用于數碼相機、數碼 手機、可視影視電話等等。近年來，低通光學濾光器隨著光電子產業的發展，從低端邁入高端，主要 表現為對低通光學濾波器的要求是超大面積口徑，超薄厚度，從而能夠達到數 碼成像系統日益追求的高亮度、超清晰度、超精細結構。目前，市場上的濾光 器晶片大多口徑在8.2mmX8.8mm且厚度在0.3mm以上，超薄光學產品的制造，長期以來一直是精密光學制造業的一道難題，尤其是零件的面積與厚度之 比超過10: 1時產品更是難于加工，并到達非常理想的光學特性。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是提供一種大口徑的低通光學濾波器超薄晶片 的生產方法。為解決上述技術問題本專利技術的技術方案為 一種低通光學濾波器超薄晶片 的制作方法，其特征在于在利用拋光機對晶片進行拋光時，使用氟碳表面活 性劑作為稀土拋光粉添加劑，所述稀土拋光粉為氧化鈰拋光粉，氟碳表面活性劑為混雜性表面活性劑，每8升水加6g氟碳表面活性劑，PH值控制在8 9之間。作為本專利技術的進一步改進，在利用拋光機對晶片進行拋光前，還包括下列步驟(1) 、對毛胚晶片的平行度和光潔度進行檢査，包括表面透過波面、表面面精度檢査；(2) 、對上述步驟(1)中檢査合格的毛胚晶片的切割角、旋轉角進行判定;(3) 、對上述步驟(2)中角度判定合格的毛胚晶片進行研磨。作為本技術的更一步改進，在利用拋光機對晶片進行拋光后，還包括 下列步驟(1)、使用超聲波機清洗經拋光機進行拋光后的晶片；(2 )、使用激光平面干涉儀對經清洗后的晶片進行波面檢査；(3) 、使用脈理檢測儀對晶片內在質量的表面欠缺進行脈理檢測；(4) 、利用聚光燈對晶片進行超凈面精檢査。 采用上述的的優點在于1、 氟碳表面活性劑在稀釋后無毒無害，加氟添加液拋光工藝，提高晶片的 面精度，增加光透過率，減少光圈(N《5)，提高晶體片粗糙度《30A。2、 制造的濾波器晶片的厚度與口徑之比》1: 15，面積為39.95mmX33mm， 厚度在0.165mm 0.215mm間，光圈N5的超薄片晶體。3、 生產的濾波器晶片表面透過條紋《5本、反射條紋《8本、透過率增加 20%、面精度=10/5。4、 在對晶片研磨、拋光前進行的毛胚片檢査、角判定有利于提高晶片的成 品率；在對晶片研磨、拋光后進行的各項檢査提高了低通光學濾波器超薄晶片 的質量。附圖說明下面結合附圖對本專利技術的具體實施方式作進一步詳細的說明。圖1、圖2為經本專利技術的低通光學濾波器超薄晶片的制作方法所制造的晶片的透過波面面形圖3為在拋光過程中添加氟碳表面活性劑的晶片的最高透過率和普通晶片最低透過率的比較曲線圖。具體實施方式下面結合具體實施例對本專利技術做進一步詳細的說明。超薄超大口徑的高端數碼成像系統用的光學鏡片是精密光學制造業工藝上 的一大突破，低通光學濾波器超薄晶片的制作方法，其特征在于在利用拋光 機對晶片進行拋光時，使用氟碳表面活性劑作為稀土拋光粉添加劑。氟碳表面活性劑是一大類，使用的是混雜性表面活性劑，實際使用中，我 們除氧化鈰拋光粉外，另添加氟碳表面活性劑，添加比例約為每8升水加6g(劑量)，濃度通過PH值來控制，PH值控制在8 9之間。氟碳表面活性劑，氟碳表面活性劑結構獨特、性質優異，首先，氟碳鏈既 疏水又疏油以及氟碳鏈之間很弱的相互作用使氟碳表面活性劑在很低濃度的水 溶液中的表面張力可達15-16mN/m。第二，氟原子獨特的幾何尺寸和電負性等因素是的氟碳表面活性劑有很高的熱穩定性，很高的耐強酸、強堿和強氟化劑等 的化學穩定性。氟碳活性劑的加入，利用其潤滑、懸浮、分散的特性，提高晶 片的面精度，增加光透過率。在利用拋光機對晶片進行拋光前，還包括下列步驟(1) 、對毛胚晶片的平行度和光潔度進行檢査，包括表面透過波面、表面 面精度檢查；(2) 、對上述步驟(1)中檢査合格的毛胚晶片的切割角、旋轉角進行判定， 其切割角、旋轉角的偏差應保持在土30'的范圍內；(3) 、對上述步驟(2)中角度判定合格的毛胚晶片進行研磨。此時形成研磨片，然后再對研磨片進行拋光處理。研磨和拋光均使用雙拋 機，雙拋機兩電機，可三個方向的旋轉運動。在利用拋光機對晶片進行拋光后，還包括下列步驟 (1)、使用超聲波機清洗經拋光機進行拋光后的晶片；超聲波發生器發出 的高頻振蕩信號，通過換能器轉換成高頻機械振蕩而傳播到介質，清洗溶劑中 超聲波在清洗液中疏密相間的向前輻射，使液體流動而產生數以萬計的微小氣 泡，存在于液體中的微小氣泡(空化核)在聲場的作用下振動，當聲壓達到一 定值時，氣泡迅速增長，然后突然閉合，在氣泡閉合時產生沖擊波，在其周圍 產生上千個大氣壓力，破壞不溶性污物而使它們分散于清洗液中，當團體粒子被油污裹著而粘附在晶片表面時，油被乳化，固體粒子即脫離，從而達到晶片 表面凈化的目的。(2)、使用激光平面干涉儀，運用移相干涉原理，提供高精度的面形，對經清洗后的晶片進行波面檢査。(3 )、使用脈理檢測儀對晶片內在質量的表面欠缺進行脈理檢測。(4)、利用聚光燈對晶片進行超凈面精檢查，使用100-150W聚光燈的強光對晶片進行準確的檢査。圖1、圖2均為經本專利技術的低通光學濾波器超薄晶片的制作方法所制造的晶片的透過波面形圖，其尺寸大小均為39.85mmX27.0mmX0.215t，其透過波面及反射波面均可達N《5。圖3為在拋光過程中添加氟碳表面活性劑的晶片的最高透過率和普通晶片 最低透過率的比較曲線圖，其中曲線1表示添加氟碳表面活性劑的晶片最高透 過率，曲線2表示普通晶片最低透過率，從圖可以看出添加氟碳表面活性劑的 晶片優異的光透過率。上述實施例不以任何方式限制本專利技術，凡是采用等同替換或等效變換的方 式獲得的技術方案均落在本專利技術的保護范圍內。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種低通光學濾波器超薄晶片的制作方法，其特征在于：在利用拋光機對晶片進行拋光時，使用氟碳表面活性劑作為稀土拋光粉添加劑，所述稀土拋光粉為氧化鈰拋光粉，氟碳表面活性劑為混雜性表面活性劑，每８升水加６ｇ氟碳表面活性劑，ＰＨ值在８～９之間。

【技術特征摘要】
1、一種低通光學濾波器超薄晶片的制作方法，其特征在于在利用拋光機對晶片進行拋光時，使用氟碳表面活性劑作為稀土拋光粉添加劑，所述稀土拋光粉為氧化鈰拋光粉，氟碳表面活性劑為混雜性表面活性劑，每8升水加6g氟碳表面活性劑，PH值在8～9之間。2、 根據權利要求1所述的低通光學濾波器超薄晶片的制作方法，其特征在于在利用拋光機對晶片進行拋光前，還包括下列步驟(1) 、對毛胚晶片的平行度和光潔度進行檢査，包括表面透過波面、表面 面精度檢査；(2) 、對上述...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王建華，
申請(專利權)人：昆山光愛電子材料有限公司，
類型：發明
國別省市：32[中國|江蘇]