光阻蒸鍍設(shè)備制造技術(shù)

本技術(shù)公開一種光阻蒸鍍設(shè)備，其包含一真空蒸鍍腔體、一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、一蒸鍍舟體及一加熱器。所述真空蒸鍍腔體具有呈長形的一工作區(qū)域。所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)對應(yīng)于所述工作區(qū)域設(shè)置，用以承載并轉(zhuǎn)動設(shè)置于所述工作區(qū)域的一金屬滾輪。所述蒸鍍舟體具有多個蒸鍍區(qū)。每個所述蒸鍍區(qū)用于設(shè)置有一固態(tài)光阻劑。所述加熱器連接于所述蒸鍍舟體。當(dāng)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動所述金屬滾輪時，所述加熱器能用來對所述蒸鍍舟體加熱，以使設(shè)置于每個所述蒸鍍區(qū)的所述固態(tài)光阻劑朝向所述金屬滾輪轉(zhuǎn)變?yōu)橐粴鈶B(tài)光阻劑、并沉積于所述金屬滾輪而形成一光阻薄膜。據(jù)此，所述光阻蒸鍍設(shè)備能以所述氣態(tài)光阻劑來進(jìn)行沉積作業(yè)，據(jù)以提供一種新的光阻成形方式。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及設(shè)備，尤其涉及一種光阻蒸鍍設(shè)備。

技術(shù)介紹

1、現(xiàn)有光阻成形設(shè)備大都是采用涂布方式于一目標(biāo)對象形成光阻層，此使得所述光阻層須達(dá)到較大的厚度才能較為均勻，因而無形中導(dǎo)致本領(lǐng)域的相關(guān)技術(shù)研究產(chǎn)生停滯。于是，本專利技術(shù)人認(rèn)為上述缺陷可改善，特潛心研究并配合科學(xué)原理的運(yùn)用，終于提出一種設(shè)計合理且有效改善上述缺陷的本技術(shù)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本技術(shù)實施例提供一種光阻蒸鍍設(shè)備，其能有效地改善現(xiàn)有光阻成形設(shè)備所可能產(chǎn)生的缺陷。

2、本技術(shù)實施例公開一種光阻蒸鍍設(shè)備，其包括：一真空蒸鍍腔體，具有一工作區(qū)域，其呈長形且定義有一長度方向；一旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，對應(yīng)于工作區(qū)域設(shè)置，用以承載并轉(zhuǎn)動設(shè)置于工作區(qū)域的一金屬滾輪；一蒸鍍舟體，具有沿長度方向排列的多個蒸鍍區(qū)；其中，每個蒸鍍區(qū)用于設(shè)置有一固態(tài)光阻劑；以及一加熱器，連接于蒸鍍舟體；其中，當(dāng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動金屬滾輪時，加熱器能用來對蒸鍍舟體加熱，以使設(shè)置于每個蒸鍍區(qū)的固態(tài)光阻劑朝向金屬滾輪轉(zhuǎn)變?yōu)橐粴鈶B(tài)光阻劑、并沉積于金屬滾輪而形成一光阻薄膜。

3、優(yōu)選地，每個蒸鍍區(qū)與工作區(qū)域之間定義有一蒸鍍范圍，并且相鄰的任兩個蒸鍍區(qū)的蒸鍍范圍產(chǎn)生局部重疊。

4、優(yōu)選地，每個蒸鍍區(qū)具有對應(yīng)于蒸鍍范圍的一發(fā)射角度，并且相鄰的任兩個蒸鍍區(qū)的發(fā)射角度之間的差值小于10度。

5、優(yōu)選地，每個蒸鍍區(qū)的發(fā)射角度介于60度～150度。

6、優(yōu)選地，蒸鍍舟體能通過加熱器而于金屬滾輪以0.5納米/分鐘的速度形成光阻薄膜。

<p>7、優(yōu)選地，光阻薄膜厚度不大于0.2微米。

8、本技術(shù)實施例也公開一種光阻蒸鍍設(shè)備，其包括：一真空蒸鍍腔體，具有一工作區(qū)域，其呈長形且定義有一長度方向；一蒸鍍舟體，具有沿長度方向排列的多個蒸鍍區(qū)；其中，每個蒸鍍區(qū)用于設(shè)置有一固態(tài)光阻劑；以及一加熱器，連接于蒸鍍舟體；其中，加熱器能用來對蒸鍍舟體加熱，以使設(shè)置于每個蒸鍍區(qū)的固態(tài)光阻劑朝向工作區(qū)域轉(zhuǎn)變?yōu)橐粴鈶B(tài)光阻劑。

9、優(yōu)選地，每個蒸鍍區(qū)與工作區(qū)域之間定義有一蒸鍍范圍，并且相鄰的任兩個蒸鍍區(qū)的蒸鍍范圍產(chǎn)生局部重疊。

10、優(yōu)選地，每個蒸鍍區(qū)具有對應(yīng)于蒸鍍范圍的一發(fā)射角度，并且相鄰的任兩個蒸鍍區(qū)的發(fā)射角度之間的差值小于10度。

11、優(yōu)選地，每個蒸鍍區(qū)的發(fā)射角度介于60度～150度。

12、綜上所述，本技術(shù)實施例所公開的光阻蒸鍍設(shè)備，其能以所述氣態(tài)光阻劑來進(jìn)行沉積作業(yè)，據(jù)以提供一種新的光阻成形方式，其所成形的所述光阻薄膜能夠在厚度較薄的情況下達(dá)到符合要求的均勻度。

13、為能更進(jìn)一步了解本技術(shù)的特征及
技術(shù)實現(xiàn)思路
，請參閱以下有關(guān)本技術(shù)的詳細(xì)說明與附圖，但是此等說明與附圖僅用來說明本技術(shù)，而非對本技術(shù)的保護(hù)范圍作任何的限制。

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【技術(shù)保護(hù)點】

1.一種光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述光阻蒸鍍設(shè)備包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，每個所述蒸鍍區(qū)與所述工作區(qū)域之間定義有一蒸鍍范圍，并且相鄰的任兩個所述蒸鍍區(qū)的所述蒸鍍范圍產(chǎn)生局部重疊。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，每個所述蒸鍍區(qū)具有對應(yīng)于所述蒸鍍范圍的一發(fā)射角度，并且相鄰的任兩個所述蒸鍍區(qū)的所述發(fā)射角度之間的差值小于10度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，每個所述蒸鍍區(qū)的所述發(fā)射角度介于60度～150度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述蒸鍍舟體能通過所述加熱器而于所述金屬滾輪以0.5納米/分鐘的速度形成所述光阻薄膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述光阻薄膜厚度不大于0.2微米。

7.一種光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述光阻蒸鍍設(shè)備包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，每個所述蒸鍍區(qū)與所述工作區(qū)域之間定義有一蒸鍍范圍，并且相鄰的任兩個所述蒸鍍區(qū)的所述蒸鍍范圍產(chǎn)生局部重疊。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，每個所述蒸鍍區(qū)具有對應(yīng)于所述蒸鍍范圍的一發(fā)射角度，并且相鄰的任兩個所述蒸鍍區(qū)的所述發(fā)射角度之間的差值小于10度。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，每個所述蒸鍍區(qū)的所述發(fā)射角度介于60度～150度。

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【技術(shù)特征摘要】

1.一種光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述光阻蒸鍍設(shè)備包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，每個所述蒸鍍區(qū)與所述工作區(qū)域之間定義有一蒸鍍范圍，并且相鄰的任兩個所述蒸鍍區(qū)的所述蒸鍍范圍產(chǎn)生局部重疊。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，每個所述蒸鍍區(qū)具有對應(yīng)于所述蒸鍍范圍的一發(fā)射角度，并且相鄰的任兩個所述蒸鍍區(qū)的所述發(fā)射角度之間的差值小于10度。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，每個所述蒸鍍區(qū)的所述發(fā)射角度介于60度～150度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻蒸鍍設(shè)備，其特征在于，所述蒸鍍舟體能通過所述加熱器而于所述金屬滾輪以0.5納米/分鐘的速度...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：林劉恭，
申請(專利權(quán))人：光群雷射科技股份有限公司，
類型：新型
國別省市：