取向膜摩擦工藝用摩擦布制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，包括貼附于配向滾軸外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽，所述摩擦毛羽與取向膜表面接觸的端部為傾斜狀。本發(fā)明專利技術(shù)通過(guò)將摩擦毛羽端部設(shè)置成傾斜狀，在摩擦中，利用較長(zhǎng)的摩擦毛羽實(shí)現(xiàn)較大的摩擦強(qiáng)度，利用較短的摩擦毛羽獲得較高的取向方向均勻度，實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。本發(fā)明專利技術(shù)在具有較大摩擦強(qiáng)度的前提下，可以實(shí)現(xiàn)更均勻的取向方向，提高了液晶顯示裝置的對(duì)比度和畫(huà)面品質(zhì)。

Friction cloth for friction process of oriented film

The invention relates to a friction cloth oriented film friction process, including attached to the alignment roller on the outer surface of the basement membrane and the basement membrane is fixed on the friction of hairiness, the end of the friction contact surface hairiness and orientation of the film is inclined. The friction of hairiness is arranged on the end of the shelvy, in the friction, friction strength by friction hairiness is longer, shorter hairiness by friction orientation obtained higher uniformity, to achieve uniform orientation. Under the premise of large friction strength, the invention can achieve more uniform orientation direction, and improves the contrast and the picture quality of the liquid crystal display device.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及一種液晶顯示裝置生產(chǎn)裝置，特別是一種取向膜摩擦工藝用 摩擦布。
技術(shù)介紹
近年來(lái)，液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display,簡(jiǎn)稱LCD)產(chǎn)品已 應(yīng)用到多種領(lǐng)域。液晶顯示裝置的主體結(jié)構(gòu)包括對(duì)盒在一起將液晶物質(zhì)填充 其間的彩膜基板和陣列基板，利用電場(chǎng)進(jìn)行液晶分子的取向控制，通過(guò)液晶 折射率各向異性使透射率發(fā)生變化并進(jìn)行顯示。為使液晶分子得到一樣的排 列，彩膜基板和陣列基板的內(nèi)表面上均涂敷有取向膜。目前的取向技術(shù)主要 采用摩擦(robbing)法實(shí)現(xiàn)，對(duì)液晶分子產(chǎn)生均一的錨定作用，從而使液晶 分子在彩膜基板和陣列基板之間的某一區(qū)域內(nèi)以一定的溝槽呈現(xiàn)均勻、 一致 的排列。現(xiàn)有技術(shù)取向膜摩擦工藝一般采用摩擦布按一定方向摩擦取向膜。圖7 為現(xiàn)有摩擦布的結(jié)構(gòu)示意圖，摩擦布包括基膜1和摩擦毛羽2,摩擦毛羽 2 (摩擦布與基板相接觸的部分)為沿基膜長(zhǎng)度方向等高度設(shè)置。摩擦布 摩擦取向膜后，在取向膜表面摩擦出按一定方向排列的溝槽，取向膜上的液 晶分子依該溝槽排列。摩擦毛羽的材料一般是人造纖維(Rayon)或棉絨 (Cotton)，人造纖維的特點(diǎn)是摩擦毛羽的長(zhǎng)度短，但彈性好，即使與基 板接觸長(zhǎng)度短也能具有較好的摩擦強(qiáng)度；棉絨的特點(diǎn)是可以設(shè)置多個(gè)摩擦 毛羽，多個(gè)摩擦毛羽與取向膜同時(shí)接觸，取向精密度較高。現(xiàn)有技術(shù)為了提高液晶的取向力，在摩擦工藝中注重增加摩擦毛羽與 取向膜的接觸長(zhǎng)度，以增大保留液晶的錨定力，防止殘像等現(xiàn)象。但是，摩擦毛羽與取向膜的接觸長(zhǎng)度增加使摩擦強(qiáng)度增大，導(dǎo)致取向方向均勻度 降低。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的是提供一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，有效解決現(xiàn)有技術(shù) 摩擦毛羽與取向膜接觸長(zhǎng)度增加導(dǎo)致取向方向均勻度降低等技術(shù)缺陷。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)提供了一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，包括 貼附于配向滾軸外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽，所述摩擦 毛羽與取向膜表面接觸的端部為傾斜狀。所述基膜具有相同的厚度，排列在所述基膜上摩擦毛羽的長(zhǎng)度逐漸增加或減少。進(jìn)一步地,所述摩擦毛羽長(zhǎng)度的最大值與最小值之差小于或等于2mm。 所述摩擦毛羽與取向膜表面接觸的端部形成的傾斜角小于10° 。所述基膜厚度逐漸增加或減少，排列在所述基膜上摩擦毛羽的長(zhǎng)度相同。 進(jìn)一步地，所述基膜厚度的最大值與最小值之差小于或等于2隨。所述基膜 厚度變化形成的傾斜角小于10° 。在上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上，所述摩擦毛羽為人造纖維或棉絨。本專利技術(shù)提出了 一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，通過(guò)將摩擦毛羽的端部設(shè) 置成傾斜狀，在摩擦中利用較長(zhǎng)的摩擦毛羽實(shí)現(xiàn)較大的摩擦強(qiáng)度，利用較短 的摩擦毛羽獲得較高的取向方向均勻度，實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。因此，本發(fā) 明在具有較大摩擦強(qiáng)度的前提下，可以實(shí)現(xiàn)更均勻的取向方向，提高了液晶 顯示裝置的對(duì)比度和畫(huà)面品質(zhì)。下面通過(guò)附圖和實(shí)施例，對(duì)本專利技術(shù)的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。附圖說(shuō)明圖l為本專利技術(shù)取向膜摩擦工藝用摩擦布第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2a為接觸長(zhǎng)度與摩擦強(qiáng)度的關(guān)系曲線；圖2b為摩擦強(qiáng)度與液晶取向力的關(guān)系曲線； 圖2c為接觸長(zhǎng)度與方向均勻度的關(guān)系曲線； 圖3為本專利技術(shù)取向膜摩擦工藝用摩擦布工作示意圖； 圖4為本專利技術(shù)取向膜摩擦工藝用摩擦布第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5為本專利技術(shù)取向工藝后的效果圖； 圖6為現(xiàn)有技術(shù)取向工藝后的效果圖； 圖7為現(xiàn)有摩擦布的結(jié)構(gòu)示意圖。 附圖標(biāo)記說(shuō)明1—基膜； 2—摩擦毛羽； IO—配向滾軸。具體實(shí)施例方式圖1為本專利技術(shù)取向膜摩擦工藝用摩擦布第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖 l所示，本實(shí)施例取向膜摩擦工藝用摩擦布包括基膜l和摩擦毛羽2，基膜l用于將摩擦布貼附于配向滾軸的外表面，摩擦毛羽2固定在基膜1上，使用 時(shí)與基板(陣列基板或彩膜基板)上的取向膜表面接觸，在配向滾軸轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí) 摩擦取向膜表面，通過(guò)對(duì)取向膜表面施以摩擦處理，在取向膜經(jīng)摩擦毛羽擦 過(guò)的方向上形成具有一定取向方向的溝槽。具體地，本實(shí)施例的基膜1具有 相同的厚度，沿基膜1的長(zhǎng)度方向上，摩擦毛羽2的長(zhǎng)度逐漸增加或減小， 形成具有傾斜狀摩擦毛羽端部的結(jié)構(gòu)。例如在如圖l所示的本實(shí)施例中，從 左向右方向，摩擦毛羽2的長(zhǎng)度逐漸增加，左端部位置摩擦毛羽1的長(zhǎng)度為 a，右端部位置摩擦毛羽1的長(zhǎng)度為b，使摩擦毛羽形成具有傾斜角a的端部， 且0。〈oc《10。，其中a=arctg((b-a)/L) , L為基膜l的長(zhǎng)度。或者，左端部 位置摩擦毛羽的長(zhǎng)度a和右端部位置摩擦毛羽的長(zhǎng)度b滿足關(guān)系(b-a)《 2mm。經(jīng)專利技術(shù)人深入研究表明，采用摩擦布對(duì)取向膜表面進(jìn)行摩擦處理時(shí)，摩 擦布的摩擦毛羽與取向膜接觸長(zhǎng)度增加，摩擦強(qiáng)度會(huì)增大(如圖2a所示)隨著摩擦強(qiáng)度越大，LC取向力增加，增大了保留液晶的錨定力(如圖2b所 示)。但摩擦布的摩擦毛羽與取向膜接觸長(zhǎng)度增加會(huì)導(dǎo)致摩擦中的阻抗力增 大，使摩擦?xí)r有可能會(huì)使摩擦毛羽脫離摩擦方向，導(dǎo)致取向方向均勻度降低 (如圖2c所示)，最終導(dǎo)致漏光現(xiàn)象，并降低對(duì)比度。本專利技術(shù)通過(guò)將摩擦毛 羽端部設(shè)置成傾斜狀，可以有效解決摩擦毛羽與取向膜接觸長(zhǎng)度增加導(dǎo)致取 向方向均勻度降低的缺陷。具體地，當(dāng)摩擦毛羽與取向膜接觸時(shí)，由于摩擦 毛羽端部為傾斜狀，摩擦毛羽與取向膜接觸長(zhǎng)度會(huì)發(fā)生變化，通過(guò)接觸長(zhǎng)度 的改變提高取向方向的均勻性。圖3為本專利技術(shù)取向膜摩擦工藝用摩擦布工作示意圖。如圖3所示，基膜 1貼附于配向滾軸10的外表面上，摩擦毛羽2固定在基膜1上，由于本專利技術(shù) 將摩擦毛羽端部設(shè)置成傾斜狀，因此在配向滾軸IO轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，摩擦毛羽2端部 的軌跡為螺旋形，而不是現(xiàn)有技術(shù)通常的圓形軌跡。在配向滾軸轉(zhuǎn)動(dòng)中，當(dāng) 較長(zhǎng)的摩擦毛羽與取向膜接觸時(shí)，與取向膜的接觸長(zhǎng)度大，可以實(shí)現(xiàn)較大的 摩擦強(qiáng)度；當(dāng)較短的摩擦毛羽與取向膜接觸時(shí)，與取向膜的接觸長(zhǎng)度短，可 以實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。因此，本實(shí)施例取向膜摩擦工藝用摩擦布結(jié)構(gòu)一方 面可以提供較大的摩擦強(qiáng)度，同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。現(xiàn)有摩擦工藝條件進(jìn)行摩擦?xí)r，在一個(gè)像素區(qū)域中約有1次左右的摩擦 回轉(zhuǎn)，即配向滾軸轉(zhuǎn)動(dòng)360°左右。本實(shí)施例通過(guò)調(diào)整配向滾軸的轉(zhuǎn)動(dòng)速度(如 1000rpm)及移動(dòng)速度，使各像素區(qū)域中至少進(jìn)行2次摩擦回轉(zhuǎn)，避免在一個(gè) 像素區(qū)域開(kāi)始部分與結(jié)束部分具有不同的接觸長(zhǎng)度。對(duì)于較大尺寸的像素區(qū) 域，需要摩擦回轉(zhuǎn)的次數(shù)增加，因此本專利技術(shù)上述技術(shù)方案更適用于較大液晶 顯示裝置的生產(chǎn)。圖4為本專利技術(shù)取向膜摩擦工藝用摩擦布第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖 4所示，本實(shí)施例取向膜摩擦工藝用摩擦布包括基膜1和摩擦毛羽2。本實(shí)施 例是在前述本專利技術(shù)取向膜摩擦工藝用摩擦布第一實(shí)施例的基礎(chǔ)上，基膜1的 厚度逐漸增加或減少(如一邊為傾斜邊的梯形)，沿基膜1的長(zhǎng)度方向上，摩擦毛羽2的長(zhǎng)度相等，形成具有傾斜狀摩擦毛羽端部的結(jié)構(gòu)。例如在如圖 4所示的本實(shí)施例中，基膜厚度的變化形成傾斜角oc，且0。〈oc《10。，基膜l 上摩擦毛羽2的長(zhǎng)度相等，使左端部位置摩擦毛羽1的端部高度為a,右端 部位置摩擦毛羽1的端部高度為b， a和b滿足關(guān)系(b-a )《2mm。本實(shí) 施例是前述第 一實(shí)施例結(jié)構(gòu)的 一種變形，同樣一方面可以提供較大的摩擦強(qiáng) 度，同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)均勻的取向方向。本專利技術(shù)取向膜摩擦工藝用摩擦布適用于LCD的生產(chǎn)。LCD由陣列基板、 彩膜基本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，包括貼附于配向滾軸外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽，其特征在于，所述摩擦毛羽與取向膜表面接觸的端部為傾斜狀。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種取向膜摩擦工藝用摩擦布，包括貼附于配向滾軸外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽，其特征在于，所述摩擦毛羽與取向膜表面接觸的端部為傾斜狀。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布，其特征在于，所述 基膜具有相同的厚度，排列在所述基膜上摩擦毛羽的長(zhǎng)度逐漸增加或減少。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布，其特征在于，所述 摩擦毛羽長(zhǎng)度的最大值與最小值之差小于或等于2mm。4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的取向膜摩擦工藝用摩擦布，其特征在于，所述 摩擦毛羽與取向膜表面接觸...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：宋省勳，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：北京京東方光電科技有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：11[中國(guó)|北京]