【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及晶圓清洗，具體涉及一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、傳統(tǒng)對晶圓表面清洗采用產(chǎn)出比較高的槽式清洗設(shè)備，清洗設(shè)備的主要清洗步驟一般先進行化學(xué)液清洗浸泡，然后進行清水洗凈工序。晶圓在化學(xué)液清洗浸泡后，晶圓表面依舊會殘留一些副產(chǎn)物和化學(xué)液，所以后續(xù)的清水洗凈工藝尤為重要，若清洗不干凈會在晶圓表面產(chǎn)生如化學(xué)液殘留或晶圓表面存在顆粒物之類的缺陷，傳統(tǒng)的清洗裝置并不能有效的將晶圓表面存在顆粒物清洗干凈，并且晶圓表面殘留有較多的化學(xué)液。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本技術(shù)所要解決的技術(shù)問題是提供一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，采用去離子水進行清潔，且通過超聲波及轉(zhuǎn)動摩擦能全部清潔的質(zhì)量，已解決
技術(shù)介紹
所提到的問題。
2、本技術(shù)是通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的：一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，包括底板和外殼，所述外殼套設(shè)于底板的外部，外殼與底板之間形成一個蓄水腔，蓄水腔的內(nèi)部設(shè)有放置板，放置板的外側(cè)面上安裝有多塊支板，支板的外側(cè)端面均向下彎曲形成連接部，連接部的外側(cè)均設(shè)有固定座，固定座的相對面上均嵌入式安裝有橡膠塊，橡膠塊均高于支板設(shè)置，外殼的頂面向內(nèi)彎曲形成環(huán)形結(jié)構(gòu)的下壓部。
3、作為優(yōu)選的技術(shù)方案，底板頂面的中心處凸出形成密封部，密封部的中心處設(shè)有軸孔，底板的底面上安裝有電機，電機的轉(zhuǎn)軸穿過軸孔，并安裝于放置板的底面上。
4、作為優(yōu)選的技術(shù)方案，底板的底面上安裝有多根支撐柱，其中一根支撐柱的外側(cè)面上安裝有電動滑臺，電動滑臺的移動平臺安裝有連接板，連接板的另一端安裝于外殼的內(nèi)側(cè)
5、作為優(yōu)選的技術(shù)方案，下壓部正對于固定座設(shè)置，且下壓部的一側(cè)設(shè)有缺口，缺口中設(shè)有與超聲波發(fā)生器連接的換能器，換能器的外部安裝有固定架。
6、作為優(yōu)選的技術(shù)方案，底板的底面上安裝有出水管，出水管的中間安裝有電磁閥。
7、作為優(yōu)選的技術(shù)方案，底板的外側(cè)面上設(shè)有環(huán)形結(jié)構(gòu)的安裝槽，安裝槽中安裝有密封圈，密封圈的外圈面與外殼的內(nèi)側(cè)面接觸。
8、作為優(yōu)選的技術(shù)方案，連接部的外側(cè)面上均垂直設(shè)有滑槽，滑槽中均安裝有滑塊，滑塊的外側(cè)面均安裝于固定座上，滑塊與滑槽之間均安裝有壓縮彈簧，滑塊和滑槽的截面均呈梯形結(jié)構(gòu)設(shè)置。
9、作為優(yōu)選的技術(shù)方案，軸孔的上端開口和下端開口中分別安裝有橡膠圈和密封軸承，橡膠圈和密封軸承的內(nèi)圈均與電機的轉(zhuǎn)軸接觸。
10、本技術(shù)的有益效果是：本技術(shù)結(jié)構(gòu)簡單，晶硅能擺放在放置板和支板上，并通過固定座和橡膠塊對晶硅的外圈定位，去離子水能注入到蓄水腔中，使晶硅浸沒在去離子水，通過換能器產(chǎn)生的振動能作用在去離子水中，通過振動的去離子水能快速的清潔晶硅的表面，并且通過電機能帶動晶硅轉(zhuǎn)動，通過轉(zhuǎn)動過程中與去離子水的摩擦能進一步增加清潔效果，同時通過下降的下壓部能晶硅能外露，從而方便了取放。
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1.一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：包括底板(1)和外殼(2)，所述外殼(2)套設(shè)于底板(1)的外部，外殼(2)與底板(1)之間形成一個蓄水腔，蓄水腔的內(nèi)部設(shè)有放置板(4)，放置板(4)的外側(cè)面上安裝有多塊支板(5)，支板(5)的外側(cè)端面均向下彎曲形成連接部(19)，連接部(19)的外側(cè)均設(shè)有固定座(6)，固定座(6)的相對面上均嵌入式安裝有橡膠塊(7)，橡膠塊(7)均高于支板(5)設(shè)置，外殼(2)的頂面向內(nèi)彎曲形成環(huán)形結(jié)構(gòu)的下壓部(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：底板(1)頂面的中心處凸出形成密封部(8)，密封部(8)的中心處設(shè)有軸孔，底板(1)的底面上安裝有電機(16)，電機(16)的轉(zhuǎn)軸穿過軸孔，并安裝于放置板(4)的底面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：底板(1)的底面上安裝有多根支撐柱(9)，其中一根支撐柱(9)的外側(cè)面上安裝有電動滑臺(14)，電動滑臺(14)的移動平臺安裝有連接板(15)，連接板(15)的另一端安裝于外殼(2)的內(nèi)側(cè)面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：底板(1)的底面上安裝有出水管(18)，出水管(18)的中間安裝有電磁閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：底板(1)的外側(cè)面上設(shè)有環(huán)形結(jié)構(gòu)的安裝槽(21)，安裝槽(21)中安裝有密封圈，密封圈的外圈面與外殼(2)的內(nèi)側(cè)面接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：連接部(19)的外側(cè)面上均垂直設(shè)有滑槽，滑槽中均安裝有滑塊，滑塊的外側(cè)面均安裝于固定座(6)上，滑塊與滑槽之間均安裝有壓縮彈簧，滑塊和滑槽的截面均呈梯形結(jié)構(gòu)設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：軸孔的上端開口和下端開口中分別安裝有橡膠圈(22)和密封軸承，橡膠圈(22)和密封軸承的內(nèi)圈均與電機(16)的轉(zhuǎn)軸接觸。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：包括底板(1)和外殼(2)，所述外殼(2)套設(shè)于底板(1)的外部，外殼(2)與底板(1)之間形成一個蓄水腔，蓄水腔的內(nèi)部設(shè)有放置板(4)，放置板(4)的外側(cè)面上安裝有多塊支板(5)，支板(5)的外側(cè)端面均向下彎曲形成連接部(19)，連接部(19)的外側(cè)均設(shè)有固定座(6)，固定座(6)的相對面上均嵌入式安裝有橡膠塊(7)，橡膠塊(7)均高于支板(5)設(shè)置，外殼(2)的頂面向內(nèi)彎曲形成環(huán)形結(jié)構(gòu)的下壓部(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：底板(1)頂面的中心處凸出形成密封部(8)，密封部(8)的中心處設(shè)有軸孔，底板(1)的底面上安裝有電機(16)，電機(16)的轉(zhuǎn)軸穿過軸孔，并安裝于放置板(4)的底面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備，其特征在于：底板(1)的底面上安裝有多根支撐柱(9)，其中一根支撐柱(9)的外側(cè)面上安裝有電動滑臺(14)，電動滑臺(14)的移動平臺安裝有連接板(15)，連接板(15)的另一端安裝于外殼(2)的內(nèi)側(cè)面上。
4.根據(jù)...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉達開，
申請(專利權(quán))人：深圳市芯威能半導(dǎo)體有限公司，
類型：新型
國別省市：
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