一種絕緣子專用清潔劑及其制備方法技術

本發明專利技術提供一種絕緣子專用清潔劑，包含以下質量百分比的組成成分：聚乙二醇辛基苯醚１～２０％，壬基酚聚氧乙烯醚１～２０％，二氯甲烷１～３％，Ｃ↓［５］Ｈ↓［２］Ｆ↓［１０］?。怠玻埃?，Ｃ↓［３］ＨＣｌ↓［２］Ｆ↓［５］１０～３０％，Ｃ↓［２］Ｃｌ↓［３］Ｈ↓［３］　５～１５％。本發明專利技術還提供該絕緣子專用清潔劑的制備方法，包括以下步驟：將上述各組分按比例裝入密閉容器，在溫度為２０～３０℃，常壓下反應１小時。本清潔劑無環境污染，腐蝕性低，物理分解能力強，使用安全可靠，可迅速、徹底清除各種絕緣子及深層的塵土、油污、碳漬、鹽分、潮氣、金屬塵埃及各種帶電粒子，有效消除“軟性故障”，保證設備的最佳工作狀態，降低維護成本。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種清潔劑，具體地說，本專利技術涉及一種絕緣子專用清潔劑。
技術介紹
由J、程控交換機、移動通訊設備、微波通訊設備、無線尋呼設備、電腦系統、白動化控制設各、影視設備、廣電設備、遙控、遙感、遙測設備、高精密儀器、家用電器等設備在運行過程中，時刻受到污穢及靜屯的侵害，形成屯路(板)漏電，屯化學腐蝕， 靜電放屯引起的元器件擊穿會造成元器件介質硬,—l;-穿、燒毀或永久性失效，軟擊穿則會造成器件性能劣化或參數指標卜降。電力設備事故的報木原閃是由于絕緣-f、母排、端了-、幵關、互感器、刀間、接 觸器、繼電器、觸頭等表面沉枳了污穢物質，使絕緣性降低，泄露!ii流增大，造成短 路、電弧、散熱不良及W絡事故。由于污W跳閘后的歪合成功率很低，絕緣子的污閃 容易大面積發展，造成K時間的惡性停電事故，?？鄻O大。傳統的電f電力設備維護技術方法冇-1、 事后搶修，即更換硬件；2、 停機丁作后采用皮老虎、吹風機吹走表面浮塵，用刷子刷十.，或用揮發性、易 燃溶劑(如酒精、汽油、四氯化碳)進行擦洗。fl足，使用這些方法對T深層及細小罅隙的灰塵、油污、碳漬等有害物質很難消 洗干凈，且危害性大，并且受到時間和空間的限制。與傳統方法相比，采用精密電路的帶屯清洗維護技術，可以迅速、徹底清除各種 精密設備電路表向-及深層的灰塵、油污、炭漬、鹽份、潮1、金屬塵埃及各種帶屯粒 ./-，有效消除"軟性故障"，避免造成設備電路短路、電弧、散熱不良，影響信號的準確性和穩定性，保證設備最佳工作狀態和穩定運行，防止:歪大惡性事故發生。 但是，現在市場上使用的帶電清洗劑通常均偏酸性或堿性，揮發快，其動態絕緣值偏低，易造成閃絡。因此，本專利技術的目的在于提供一種中性、去污力強、腐蝕性低的絕緣子專用清潔劑。
技術實現思路
本專利技術提供一種絕緣子專用清潔劑，包含以下質量百分比的組成成分聚乙二醇辛基苯醚1 20%，壬基酚聚氧乙烯醚1 20%， 二氯甲烷1 3%， C5H2F10 5 20%， C3HC12F510 30%， C2C13H3 5 15%。所述聚乙二醇辛基苯醚含量優選1 5%，所述壬基酚聚氧乙烯醚含量優選5 10%。 所述清潔劑還包括選自以下組分的一種或多種低級烷烴、具有碳原子數為1 4的烷基取代基的低級烷烴、低級醇類、低級烯烴。所述低級烷烴包括庚垸0 1%、己垸0 1%、辛垸0 1%。所述具有碳原子數為1 4的垸基取代基的低級烷烴包括甲基戊烷0 1%、甲基己 烷0 1%、 二甲基己烷0 1%、甲基庚烷0 1%、甲基環己烷0 1%、乙基戊烷0 1%、 二甲基環戊垸0 1%、四甲基丁垸0 1%、甲基乙基己烷0 1%、三甲基戊垸0 1%。所述低級醇類包括乙醇0 1%。所述低級烯烴包括乙烯0 1%。所述清潔劑的PH值為6. 8 7. 2。本專利技術還提供所述絕緣子專用清潔劑的制備方法，包括以下步驟將上述各組分 按比例裝入密閉容器，在溫度為20 30。C，常壓下反應l小時。本專利技術的有益效果為本清潔劑無環境污染，腐蝕性低，物理分解能力強，使用安全可靠，可迅速、徹 底清除各種絕緣子及深層的塵土、油污、碳漬、鹽分、潮氣、金屬塵埃及各種帶電粒 子，有效消除"軟性故障"，保證設備的最佳工作狀態，降低維護成本，已被成功用于 潔神JS-169D絕緣子專用清潔劑中。具體實施例方式以下用實施例對本專利技術作更詳細的描述。這些實施例僅僅是對本專利技術最佳實施方 式的描述，并不對本專利技術的范圍有任何限制。實施例1:聚乙二醇辛基苯醚lkg，壬基酚聚氧乙烯醚5kg，二氯甲烷lkg，C5H2Fn)5kg，C3HCl2F5410kg， C2C13H3 5kg。將上述原料裝入密閉容器，在溫度25'C，常壓下反應l小時，制得精密電路清潔劑。實施例2:聚乙二醇辛基苯醚20kg，壬基酚聚氧乙烯醚20kg， 二氯甲垸3kg， C5H2Fuj20kg， C3HC12F5 20kg， C2C13H3 15kg。 制備方法同實施例1。實施例3:聚乙二醇辛基苯醚15kg，壬基酚聚氧乙烯醚10kg， 二氯甲烷2kg， C5H2Fu)10kg， C3HC12F5 30kg， C2C13H3 10kg,甲基戊烷0. 5kg，甲基戊垸0. 5kg，乙醇0. 5kg，乙基 戊烷0.5kg、庚烷O. 5kg。制備方法同實施例1。實施例4:聚乙二醇辛基苯醚18kg，壬基酚聚氧乙烯醚14kg， 二氯甲烷3kg， C^Fu)18kg， C3HC12F5 25kg， C2C13H3 12kg,甲基己垸0. 5kg，己烷0. 5kg，甲基庚垸lkg， 二甲基 環戊烷0.5kg，甲基乙基己垸0.5kg，三甲基戊垸lkg。制備方法同實施例1。實施例5:聚乙二醇辛基苯醚12kg，壬基酚聚氧乙烯醚10kg， 二氯甲垸2kg， C5H2F1() 20kg， C3HC12F5 28kg， C2C13H3 10kg， 二甲基己垸lkg，甲基戊垸0. 5kg、乙烯lkg、四甲基 丁烷0.5kg，辛垸lkg。制備方法同實施例l。本清潔劑無環境污染，腐蝕性低，物理分解能力強，使用安全可靠，可迅速、徹 底清除各種絕緣子及深層的塵土、油污、碳漬、鹽分、潮氣、金屬塵埃及各種帶電粒 子，有效消除"軟性故障"，保證設備的最佳工作狀態，降低維護成本，已被成功用 于潔神JS-169D絕緣子專用清潔劑中。權利要求1、一種清潔劑，其特征在于，包含以下質量百分比的組成成分聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，二氯甲烷1～3％，C5H2F10 5～20％，C3HCl2F5 10～30％，C2Cl3H3 5～15％。2、 如權利要求1所述的保潔劑，其特征在于，所述聚乙二醇辛基苯醚含量為l 5%，所述壬基酚聚氧乙烯醚含量為5 10%。3、 如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，還包括選自以下組分的一種或多種 低級烷烴、具有碳原子數為1 4的垸基取代基的低級垸烴、低級醇類、低級烯烴。4、 如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述低級烷烴包括庚垸0 1%、己 烷0 1%、辛烷0 1%。5、 如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述具有碳原子數為1 4的垸基 取代基的低級烷烴包括甲基戊垸0 1%、甲基己垸0 1%、 二甲基己垸0 1%、甲基庚 烷0 1%、甲基環己烷0 1%、乙基戊垸0 1%、 二甲基環戊垸0 1%、四甲基丁烷0 1%、甲基乙基己烷0 1%、三甲基戊烷0 1%。6、 如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述低級醇類包括乙醇0 1%。7、 如權利要求l所述的清潔劑，其特征在于，所述低級烯烴包括乙烯0 1%。8、 如權利要求1所述的清潔劑，其特征在于，所述清潔劑的PH值為6. 8 7. 2。9、 權利要求1所述清潔劑的制備方法，該清潔劑包含以下質量百分比的組成成分: 聚乙二醇辛基苯醚1 20%，壬基酚聚氧乙烯醚1 20%， 二氯甲垸1 3%， C5H2F1Q 5 20%， C3HC12F5 10 30%， C2C13H3 5 15%，所述制備方法包括以下步驟將上述各組分 按比例裝入密閉容器，在溫度為20 30。C，常壓下反應l小時。全文摘要本專利技術提供一種絕緣子專用清潔劑，包含以下質量百分比的組成成分聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種清潔劑，其特征在于，包含以下質量百分比的組成成分：聚乙二醇辛基苯醚１～２０％，壬基酚聚氧乙烯醚１～２０％，二氯甲烷１～３％，Ｃ↓［５］Ｈ↓［２］Ｆ↓［１０］?。怠玻埃?，Ｃ↓［３］ＨＣｌ↓［２］Ｆ↓［５］?。保啊常埃?，Ｃ↓［２］Ｃｌ↓［３］Ｈ↓［３］?。怠保担ァ?

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：張思平，
申請(專利權)人：張思平，
類型：發明
國別省市：31[中國|上海]