【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備，尤其涉及一種碳化硅襯底片清理裝置。
技術(shù)介紹
1、碳化硅作為最重要的第三代半導(dǎo)體材料之一，因其具有禁帶寬度大、飽和電子遷移率高、擊穿場強(qiáng)大、熱導(dǎo)率高等優(yōu)異性質(zhì)，而被廣泛應(yīng)用于電力電子、射頻器件、光電子器件等領(lǐng)域，碳化硅襯底片通常采用電鍍金剛線切割碳化硅晶棒的方法來制備，然而在制備過程中可能會在碳化硅襯底片表面殘留一些碎片殘?jiān)枰謇怼?/p>
2、現(xiàn)有的碳化硅襯底片清理裝置如專利號cn?216968289?u公開的一種用于碳化硅襯底片刷洗過程的刷頭裝置。本技術(shù)通過用于刷洗襯底片的刷毛單元，用于安裝刷毛單元的刷頭單元，以及設(shè)置在所述刷頭單元上并用于調(diào)整刷毛單元位置的按動柱單元起到了調(diào)整刷毛面積的技術(shù)效果。
3、該裝置在對碳化硅襯底片清理時(shí)，其僅僅通過刷毛對碳化硅襯底片表面的碎片殘?jiān)M(jìn)行清理的效果并不理想，無法滿足實(shí)際需求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在上述缺點(diǎn)，而提出的一種碳化硅襯底片清理裝置。
2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)采用了如下技術(shù)方案：
3、設(shè)計(jì)一種碳化硅襯底片清理裝置，包括
4、刷毛組件，其安裝在底板上，用于清理碳化硅襯底片，其中，所述刷毛組件包括多組間隔設(shè)在所述底板上的刷毛部，所述刷毛部包括環(huán)形陣列分布的直桿、設(shè)在所述直桿端部的刷毛；
5、吹氣組件，其用于對所述刷毛以及所述碳化硅襯底片吹氣，其中，所述吹氣組件包括設(shè)在所述直桿一側(cè)的擠壓部、和所述擠
6、驅(qū)動組件，其用于對所述擠壓部進(jìn)行擠壓。
7、進(jìn)一步的，所述形變部包括設(shè)在所述直桿內(nèi)的腔體、設(shè)在所述腔體內(nèi)的形變帶，所述形變帶將所述腔體分隔為進(jìn)氣腔和出氣腔。
8、進(jìn)一步的，所述擠壓部包括按壓氣囊、連通所述按壓氣囊和所述進(jìn)氣腔的通孔。
9、進(jìn)一步的，所述出氣部包括多個(gè)間隔開設(shè)在所述直桿底部的第一通道和第二通道，其中，所述第一通道和第二通道分別和所述出氣腔連通，所述第一通道和第二通道的出氣方向分別朝向所述刷毛。
10、進(jìn)一步的，所述第一通道的出氣方向和所述刷毛長度方向的夾角為30°-50°。
11、進(jìn)一步的，所述第二通道的出氣方向和所述刷毛長度方向的夾角為20°-30°。
12、進(jìn)一步的，所述驅(qū)動組件包括對應(yīng)所述刷毛部開設(shè)在所述底板上的滑孔、和所述滑孔滑動配合用于按壓所述擠壓部的施力部、用于驅(qū)動所述施力部升降的動力部。
13、進(jìn)一步的，所述施力部包括升降桿、設(shè)在所述升降桿端部的凸臺、對應(yīng)所述擠壓部設(shè)在所述凸臺上的傾斜壓面。
14、進(jìn)一步的，所述動力部包括用于固定所述升降桿的頂板、連接所述頂板和所述底板的彈簧、設(shè)在所述頂板上的磁吸塊、設(shè)在所述底板上且和所述磁吸塊配合的電磁鐵。
15、本專利技術(shù)提出的一種碳化硅襯底片清理裝置，有益效果在于：
16、本專利技術(shù)通過驅(qū)動組件對擠壓部擠壓，形變部發(fā)生形變，使出氣部對刷毛吹氣，進(jìn)而使得刷毛快速擺動，提高刷毛對碳化硅襯底片的刷動頻率，刷毛在碳化硅襯底片表面移動的過程中將殘留在碳化硅襯底片的碎片殘?jiān)焖偾謇恚瑫r(shí)，吹氣組件可對碳化硅襯底片吹氣，將碎片殘?jiān)惦x碳化硅襯底片表面，避免碎片殘?jiān)Ａ粼谔蓟枰r底片上，提高對碳化硅襯底片的清理效果。
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1.一種碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：包括
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述形變部(302)包括設(shè)在所述直桿(10101)內(nèi)的腔體(30201)、設(shè)在所述腔體(30201)內(nèi)的形變帶(30202)，所述形變帶(30202)將所述腔體(30201)分隔為進(jìn)氣腔(30203)和出氣腔(30204)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述擠壓部(301)包括按壓氣囊(30101)、連通所述按壓氣囊(30101)和所述進(jìn)氣腔(30203)的通孔(30102)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述出氣部(303)包括多個(gè)間隔開設(shè)在所述直桿(10101)底部的第一通道(30301)和第二通道(30302)，其中，所述第一通道(30301)和第二通道(30302)分別和所述出氣腔(30204)連通，所述第一通道(30301)和第二通道(30302)的出氣方向分別朝向所述刷毛(10102)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述第一通道
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述第二通道(30302)的出氣方向和所述刷毛(10102)長度方向的夾角為20°-30°。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述驅(qū)動組件(4)包括對應(yīng)所述刷毛部(101)開設(shè)在所述底板(2)上的滑孔(401)、和所述滑孔(401)滑動配合用于按壓所述擠壓部(301)的施力部(402)、用于驅(qū)動所述施力部(402)升降的動力部(403)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述施力部(402)包括升降桿(40201)、設(shè)在所述升降桿(40201)端部的凸臺(40202)、對應(yīng)所述擠壓部(301)設(shè)在所述凸臺(40202)上的傾斜壓面(40203)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述動力部(403)包括用于固定所述升降桿(40201)的頂板(40301)、連接所述頂板(40301)和所述底板(2)的彈簧(40302)、設(shè)在所述頂板(40301)上的磁吸塊(40303)、設(shè)在所述底板(2)上且和所述磁吸塊(40303)配合的電磁鐵(40304)。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：包括
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述形變部(302)包括設(shè)在所述直桿(10101)內(nèi)的腔體(30201)、設(shè)在所述腔體(30201)內(nèi)的形變帶(30202)，所述形變帶(30202)將所述腔體(30201)分隔為進(jìn)氣腔(30203)和出氣腔(30204)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述擠壓部(301)包括按壓氣囊(30101)、連通所述按壓氣囊(30101)和所述進(jìn)氣腔(30203)的通孔(30102)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述出氣部(303)包括多個(gè)間隔開設(shè)在所述直桿(10101)底部的第一通道(30301)和第二通道(30302)，其中，所述第一通道(30301)和第二通道(30302)分別和所述出氣腔(30204)連通，所述第一通道(30301)和第二通道(30302)的出氣方向分別朝向所述刷毛(10102)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的碳化硅襯底片清理裝置，其特征在于：所述第一通道(30301)的出氣方向和所述刷毛(10102)長度方向的夾角為...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：沈曉宇，
申請(專利權(quán))人：湖州東尼半導(dǎo)體科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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