【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及天線近場測試，具體涉及一種大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法及系統。
技術介紹
1、近場測試是相控陣天線性能的主要測試方法，主要方案是通過掃描架或轉臺等運動機構將參考天線移動到陣面的不同位置然后再使用儀表測量天線參數的方式來分析天線的性能。在掃描過程中，可能會出現因測試系統不穩定引起部分位置遺漏或重復掃描，即出現缺少測量數據或測量數據重復的異常情況，進而在分析相控陣天線性能時導致天線性能分析異常的問題。
2、現有技術針對這類情況，即掃描數據量與預期目標數據量不相等，只能通過重新掃描的方式來判斷異常發生位置；重新掃描過程不僅存在延長測試時間、異常發現具有滯后性、還存在異常可能繼續發生的問題，因此，需要提出一種能即使發現遺漏、重復掃描或數據異常的位置點，即時進行調整，提升測試效率。
技術實現思路
1、本專利技術目的在于提供一種大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法及系統，通過將陣面分區，利用分區掃描實時檢測結果與對應的參照掃描目標進行匹配的方式快速發現異常點，進而在區域內快速進行異常處理，無需全陣面重新掃描，大大減少重復工作內容，提升測試效率。
2、為達成上述目的，本專利技術提出如下技術方案：
3、第一方面，方案提出一種大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，包括：
4、劃分待掃描的陣列面為若干區域，記錄各所述區域的區域信息；其中，所述區域信息包括區域形狀、邊界位置和規劃掃描路徑；
5、對任一所述區域，獲取其掃描前
6、根據規劃掃描路徑，順序獲取當前掃描區域中各掃描點位的第二位置信息；
7、根據所述第二位置信息，匹配當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位，并當所述當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位不一一匹配時，記錄不匹配的第一位置信息和/或第二位置信息對應的所述掃描點位或所述參照掃描目標的點位為異常點位；
8、根據預設異常因素，對完成掃描的所述區域記錄的各所述異常點位進行異常分析，以進行異常處理；其中，所述預設異常因素包括點位重復掃描、點位遺漏掃描和掃描點位偏移。
9、進一步的，還包括：
10、根據規劃掃描路徑，順序獲取當前掃描區域中各掃描點位對應的實際天線參數數據；
11、判斷當前掃描區域中與對應的所述參照掃描目標各點位匹配的任一掃描點位的所述實際天線參數數據是否屬于預設理論數據范圍，并當所述實際天線參數數據不屬于預設理論數據范圍時，記錄所述掃描點位為數據異常點位；其中，所述預設理論數據范圍與所述參照掃描目標中各點位的第一位置信息同步記錄；
12、完成所述區域掃描后，生成掃描該區域記錄的所有數據異常點位的異常列表，以便對所述區域的所有數據異常點位進行綜合分析。
13、進一步的，所述匹配當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位的過程，包括：
14、變換所述第一位置信息與所述第二位置信息至同一參考坐標系中；其中，所述第一位置信息為所述點位在陣列面坐標系中的坐標，所述第二位置信息為所述掃描點位在天線運動坐標系中的坐標；
15、對任一所述第二位置信息，根據其在所述參考坐標系中的第二參考坐標逐個與各所述第一位置信息在所述參考坐標系中的第一參考坐標進行匹配；
16、當存在一所述第一位置信息在所述參考坐標系中的第一參考坐標與所述第二參考坐標的數值偏差不超過預設偏差，則判定所述第一位置信息與所述第二參考坐標對應的所述第二位置信息匹配對應。
17、進一步的，所述匹配當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位的過程，包括：
18、根據所述掃描區域的規劃掃描路徑，順序為所述參照掃描目標的各點位附加第一編號id；
19、獲取當前掃描區域根據所述規劃掃描路徑順序掃描的各所述掃描點位的第二編號id；
20、對任一所述第二編號id，根據其在所述規劃掃描路徑的位置排序，確定其在所述參照掃描目標中位置排序對應的所述第一編號id；
21、獲取所述第一編號id對應的所述第一位置信息，匹配所述第一位置信息與所述第二編號id對應的第二位置信息，并當所述第一位置信息與所述第二位置信息的數值偏差不超過預設偏差時，判定所述第一位置信息與所述第二位置信息匹配對應。
22、進一步的，還包括：
23、根據當前掃描點位的第二編號id，獲取所述參照掃描目標中位置排序對應的所述第一編號id及與所述第一編號id順序相鄰的所述第一編號id對應的至少兩個所述第一位置信息，匹配所述第二編號id對應的所述第二位置信息與至少兩個所述第一位置信息；
24、當所述第二位置信息與所述參照掃描目標中位置排序靠前的所述第一編號id對應的所述第一位置信息匹配，表明當前掃描點位為重復掃描點位；
25、當所述第二位置信息與所述參照掃描目標中位置排序靠后的所述第一編號id對應的所述第一位置信息匹配，表明當前掃描點位與前一掃描點位間存在一點位遺漏掃描。
26、第二方面，方案提出一種大陣面相控陣天線近場測試異常判斷系統，包括：
27、劃分記錄模塊，用于劃分待掃描的陣列面為若干區域，記錄各所述區域的區域信息；其中，所述區域信息包括區域形狀、邊界位置和規劃掃描路徑；
28、獲取記錄模塊，用于對任一所述區域，獲取其掃描前的初始狀態作為一參照掃描目標，記錄所述參照掃描目標中各點位的第一位置信息；
29、位置信息獲取模塊，用于根據規劃掃描路徑，順序獲取當前掃描區域中各掃描點位的第二位置信息；
30、匹配記錄模塊，用于根據所述第二位置信息，匹配當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位，并當所述當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位不一一匹配時，記錄不匹配的第一位置信息和/或第二位置信息對應的所述掃描點位或所述參照掃描目標的點位為異常點位；
31、異常分析處理模塊，用于根據預設異常因素，對完成掃描的所述區域記錄的各所述異常點位進行異常分析，以進行異常處理；其中，所述預設異常因素包括點位重復掃描、點位遺漏掃描和掃描點位偏移。
32、進一步的，還包括：
33、數據獲取模塊，用于根據規劃掃描路徑，順序獲取當前掃描區域中各掃描點位對應的實際天線參數數據；
34、判斷記錄模塊，用于判斷當前掃描區域中與對應的所述參照掃描目標各點位匹配的任一掃描點位的所述實際天線參數數據是否屬于預設理論數據范圍，并當所述實際天線參數數據不屬于預設理論數據范圍時，記錄所述掃描點位為數據異常點位；其中，所述預設理論數據范圍與所述參照掃描目標中各點位的第一位置信息同步記錄；
35、生成模塊，用于本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.一種大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，還包括：
3.根據權利要求1所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，所述匹配當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位的過程，包括：
4.根據權利要求1所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，所述匹配當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位的過程，包括：
5.根據權利要求4所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，還包括：
6.一種大陣面相控陣天線近場測試異常判斷系統，其特征在于，包括：
7.根據權利要求6所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷系統，其特征在于，還包括：
8.根據權利要求6所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷系統，其特征在于，所述匹配記錄模塊匹配當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位的執行單元，包括：
10.一種計算機程序產品，其特征在于，包括計算機程序，其中，所述計算機程序存儲在計算機可讀存儲介質中；當電子設備的處理器從所述計算機可讀存儲介質讀取所述計算機程序時，所述處理器執行所述計算機程序，使得所述電子設備執行權利要求1~5中任一項所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法的步驟。
...【技術特征摘要】
1.一種大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，還包括：
3.根據權利要求1所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，所述匹配當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位的過程，包括：
4.根據權利要求1所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，所述匹配當前掃描區域的各掃描點位與所述掃描區域對應的所述參照掃描目標的各點位的過程，包括：
5.根據權利要求4所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷方法，其特征在于，還包括：
6.一種大陣面相控陣天線近場測試異常判斷系統，其特征在于，包括：
7.根據權利要求6所述的大陣面相控陣天線近場測試異常判斷系統，其特...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李光勝，戴盛，陳平，萬家輝，
申請(專利權)人：南京華成微波技術有限公司，
類型：發明
國別省市：
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