【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體檢測，尤其涉及一種檢測數據展示方法、一種檢測數據展示裝置以及一種檢測數據展示系統。
技術介紹
1、在半導體制造過程中，晶圓wafer是指制作硅半導體集成電路的硅晶片，在晶圓加工過程中經常通過光學檢測設備等裝置對晶圓進行檢視，并保存為數據，之后通過晶圓檢測數據形成wafer?map，從而便于用戶直觀的對晶圓進行查看和分類標記。在通過wafer的檢測數據形成晶圓圖像過程中，經常由于缺陷的數量較多，因此容易出現加載時間過長的問題，使得用戶在通過wafermap查看晶圓缺陷信息時，在用戶界面選擇不同wafer并生成預覽圖或縮略圖時，常常會出現卡頓等問題。
技術實現思路
1、因此，針對現有技術中的至少部分不足和缺陷，本專利技術實施例提出了一種檢測數據展示方法、一種檢測數據展示裝置以及一種檢測數據展示系統。
2、具體地，本專利技術實施例提出的一種檢測數據展示方法，包括：獲取目標圖像的多個檢測數據；確定第一仿真圖像區域；在所述第一仿真圖像區域中確定查看區域；若所述查看區域內的檢測缺陷的數量小于或等于第一預設閾值，在所述查看區域中突出顯示所述檢測缺陷；若所述查看區域內的檢測缺陷的數量大于第一預設閾值，劃分所述查看區域得到多個劃分子區域；確定所述多個劃分子區域中的目標劃分子區域中檢測缺陷的檢測數據的數量；若所述目標劃分子區域中檢測缺陷的數量達到第二預設閾值，標記所述目標劃分子區域；以及在所述查看區域中突出顯示所述目標劃分子區域。
3、在本專利技術的一個實施
4、在本專利技術的一個實施例中，所述在所述第一仿真圖像區域中確定查看區域包括：根據用戶的操作指令，獲取光標在所述第一仿真圖像區域中的光標位置及縮放倍率；獲取所述第一仿真圖像區域的面積數據；根據所述縮放倍率確定所述查看區域的面積以及根據所述光標位置確定所述查看區域的位置。
5、在本專利技術的一個實施例中，所述根據用戶的操作指令，獲取光標在所述第一仿真圖像區域中的光標位置及縮放倍率包括：獲取所述光標在所述第一仿真圖像區域中的位置，并檢測光標是否位于所述查看區域內；響應于用戶通過所述光標在所述查看區域內的第一操作獲取所述縮放倍率。
6、在本專利技術的一個實施例中，所述若響應于所述查看區域內的檢測缺陷的數量大于第一預設閾值，劃分所述查看區域得到多個劃分子區域，包括：根據區域數量劃分所述查看區域得到所述多個劃分子區域；其中，所述區域數量為預設區域數量、或者所述區域數量根據所述查看區域的面積和區域預設面積進行運算得到。
7、在本專利技術的一個實施例中，所述檢測數據包括檢測缺陷在所述目標圖像上的位置信息；確定所述多個劃分子區域中的目標劃分子區域中檢測缺陷的檢測數據的數量包括：根據所述目標劃分子區域在所述第一仿真圖像區域中的坐標數據確定所述目標劃分子區域的區域范圍；根據每個所述檢測數據中的所述檢測缺陷的位置坐標信息，分別判斷所述檢測缺陷是否在所述目標劃分子區域的所述區域范圍內；確定位于所述目標劃分子區域的所述區域范圍內的全部所述檢測缺陷上的數量，作為所述目標劃分子區域中的檢測缺陷的數量。
8、在本專利技術的一個實施例中，所述多個檢測數據還包括檢測缺陷的位置編號信息；所述確定所述多個劃分子區域中的目標劃分子區域中檢測缺陷的檢測數據的數量包括：根據所述檢測缺陷的位置編號信息確定位于所述目標劃分子區域內的檢測缺陷的數量并作為目標劃分子區域的檢測數據的數量。
9、另一方面，本專利技術實施例提出的一種檢測數據展示裝置，包括：檢測數據獲取模塊，用于獲取目標圖像的多個檢測數據；仿真區域確定模塊，用于確定第一仿真圖像區域；查看區域確定模塊，用于在所述第一仿真圖像區域中確定查看區域；區域劃分模塊，用于若所述查看區域內的檢測缺陷的數量大于第一預設閾值，劃分所述查看區域得到多個劃分子區域；區域檢測數據確認模塊，用于確定所述多個劃分子區域中的目標劃分子區域中檢測缺陷的檢測數據的數量；區域標記模塊，用于響應于所述目標劃分子區域的檢測數據的數量達到第二預設閾值，標記所述目標劃分子區域；以及區域顯示模塊，用于在所述查看區域中突出顯示所述目標劃分子區域。
10、再一方面，本專利技術實施例提出的一種檢測數據展示系統，包括：處理器和連接所述處理器的存儲器；其中所述存儲器存儲有所述處理器執行的指令，且所述指令使得所述處理器執行操作以進行如上述任意一項所述的檢測數據展示方法。
11、再一方面，本專利技術實施例提出的一種計算機可讀存儲介質，所述計算機可讀存儲介質為非易失性存儲器且存儲有計算機程序，所述計算機程序用于執行如上述任意一項所述的檢測數據展示方法。
12、由上可知，本專利技術上述技術特征可以具有如下一個或多個有益效果：本實施例的一種檢測數據展示方法、裝置和系統，在通過檢測數據生成晶圓圖像過程中，通過檢測數據確定的仿真區域劃分為多個子區域，并根據每一劃分子區域中檢測缺陷的數量對本區域進行標記，最終在查看區域中突出顯示被標記的目標劃分子區域，且不再加載未被標記的劃分子區域，減少了顯示查看區域時的數據運算量，提高了通過檢測數據生成晶圓圖像的速度，減少查看過程中的卡頓。
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1.一種檢測數據展示方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述在所述第一仿真圖像區域中確定查看區域包括：
3.根據權利要求1所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述在所述第一仿真圖像區域中確定查看區域包括：
4.根據權利要求3所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述根據用戶的操作指令，獲取光標在所述第一仿真圖像區域中的光標位置及縮放倍率包括：
5.根據權利要求1所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述若響應于所述查看區域內的檢測缺陷的數量大于第一預設閾值，劃分所述查看區域得到多個劃分子區域，包括：
6.根據權利要求1所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述檢測數據包括檢測缺陷在所述目標圖像上的位置信息；確定所述多個劃分子區域中的目標劃分子區域中檢測缺陷的檢測數據的數量包括：
7.根據權利要求1所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述多個檢測數據還包括檢測缺陷的位置編號信息；所述確定所述多個劃分子區域中的目標劃分子區域中檢測缺陷的檢測數據的數量包括：
8.一
9.一種檢測數據展示系統，其特征在于，包括：處理器和連接所述處理器的存儲器；其中所述存儲器存儲有所述處理器執行的指令，且所述指令使得所述處理器執行操作以進行如權利要求1至7中任意一項所述的檢測數據展示方法。
10.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質為非易失性存儲器且存儲有計算機程序，所述計算機程序用于執行如權利要求1至7中任意一項所述的檢測數據展示方法。
...【技術特征摘要】
1.一種檢測數據展示方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述在所述第一仿真圖像區域中確定查看區域包括：
3.根據權利要求1所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述在所述第一仿真圖像區域中確定查看區域包括：
4.根據權利要求3所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述根據用戶的操作指令，獲取光標在所述第一仿真圖像區域中的光標位置及縮放倍率包括：
5.根據權利要求1所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述若響應于所述查看區域內的檢測缺陷的數量大于第一預設閾值，劃分所述查看區域得到多個劃分子區域，包括：
6.根據權利要求1所述的檢測數據展示方法，其特征在于，所述檢測數據包括檢測缺陷在所述目標圖像上的位置信息；確定所述...
【專利技術屬性】
技術研發人員：陳魯，羅勇，洪小波，萬小娜，張嵩，
申請(專利權)人：深圳中科飛測科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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