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    一種單晶爐及單晶硅的制備方法技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):42046204 閱讀:14 留言:0更新日期:2024-07-16 23:28
    本發(fā)明專利技術(shù)提供了一種單晶爐及單晶硅的制備方法,涉及單晶硅生產(chǎn)制造技術(shù)領(lǐng)域。單晶爐包括爐體、坩堝、加料組件及摻雜組件;坩堝設(shè)于爐體內(nèi);加料組件包括第一支撐筒和第一升降桿;第一支撐筒的一端穿設(shè)于爐體的爐壁;第一升降桿可移動(dòng)地設(shè)于第一支撐筒內(nèi);第一升降桿的一端用于帶動(dòng)硅料件伸入坩堝內(nèi);摻雜組件包括第二支撐筒和第二升降桿;第二支撐筒的一端穿設(shè)于爐體的爐壁;第二升降桿可移動(dòng)地設(shè)于第二支撐筒內(nèi);第二升降桿的一端用于帶動(dòng)摻雜料件伸入坩堝內(nèi)。本發(fā)明專利技術(shù)的單晶爐在復(fù)投料時(shí)能夠有效避免硅料受到污染,并能夠精準(zhǔn)控制硅料的添加量;在單晶硅生長(zhǎng)過(guò)程中,摻雜組件能夠?qū)枞垠w進(jìn)行摻雜,從而調(diào)節(jié)單晶硅制備后的電阻率。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及單晶硅生產(chǎn)制造,尤其涉及一種單晶爐及單晶硅的制備方法


    技術(shù)介紹

    1、目前,現(xiàn)有技術(shù)通常采用直拉法在單晶爐內(nèi)制備單晶硅。為減少生產(chǎn)成本,現(xiàn)有技術(shù)通常采用連續(xù)復(fù)投工藝,以連續(xù)制備多根單晶硅棒;但是,現(xiàn)有的復(fù)投料機(jī)構(gòu)在加硅料時(shí),由于硅料通過(guò)自由落體的方式落入坩堝內(nèi),使得硅料易與復(fù)投料機(jī)構(gòu)的底部發(fā)生摩擦,進(jìn)而對(duì)硅料造成一定程度的污染,影響單晶硅制備后的品質(zhì);并且硅料通過(guò)自由落體的方式落入坩堝內(nèi),難以精準(zhǔn)控制硅料的添加量。現(xiàn)有單晶爐所制備的單晶硅的電阻率變化范圍較大,導(dǎo)致單晶硅的電阻率一致性較差。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、為克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足,本專利技術(shù)提供一種單晶爐及單晶硅的制備方法。

    2、本專利技術(shù)提供如下技術(shù)方案:

    3、第一方面,本專利技術(shù)提供了一種單晶爐,包括:

    4、爐體;

    5、坩堝,設(shè)于所述爐體內(nèi);

    6、加料組件,包括第一支撐筒和第一升降桿;所述第一支撐筒設(shè)于所述爐體外,且所述第一支撐筒的一端穿設(shè)于所述爐體的爐壁;所述第一升降桿可移動(dòng)地設(shè)于所述第一支撐筒內(nèi);所述第一升降桿的一端用于帶動(dòng)硅料件從所述第一支撐筒中伸入所述坩堝內(nèi);

    7、摻雜組件,包括第二支撐筒和第二升降桿;所述第二支撐筒設(shè)于所述爐體外,且所述第二支撐筒的一端穿設(shè)于所述爐體的爐壁;所述第二升降桿可移動(dòng)地設(shè)于所述第二支撐筒內(nèi);所述第二升降桿的一端用于帶動(dòng)摻雜料件從所述第二支撐筒中伸入所述坩堝內(nèi)。

    8、在一種可能的實(shí)施方式中,所述單晶爐還包括保護(hù)筒;所述保護(hù)筒設(shè)于所述爐體內(nèi);所述保護(hù)筒的一端設(shè)于所述爐體的內(nèi)壁上,且所述保護(hù)筒的內(nèi)部與所述第一支撐筒的內(nèi)部連通;所述保護(hù)筒遠(yuǎn)離所述爐體內(nèi)壁的一端朝向所述坩堝;所述第一升降桿與所述硅料件連接的一端可移動(dòng)地設(shè)于所述保護(hù)筒內(nèi)。

    9、在一種可能的實(shí)施方式中,所述加料組件還包括第一連接件;所述第一連接件用于連接所述第一升降桿與所述硅料件。

    10、在一種可能的實(shí)施方式中,所述加料組件還包括第一升降件;所述第一升降件設(shè)于所述第一支撐筒遠(yuǎn)離所述爐體的一端;所述第一升降件用于驅(qū)動(dòng)所述第一升降桿在所述第一支撐筒和所述保護(hù)筒內(nèi)移動(dòng)。

    11、在一種可能的實(shí)施方式中,所述加料組件還包括第一擋板;所述第一擋板可移動(dòng)地設(shè)于所述爐體上;所述第一擋板用于隔斷所述保護(hù)筒與所述第一支撐筒之間的連通。

    12、在一種可能的實(shí)施方式中,所述加料組件還包括第一抽氣管;所述第一抽氣管的一端與所述第一支撐筒連接,且所述第一抽氣管內(nèi)部與所述第一支撐筒內(nèi)部連通。

    13、在一種可能的實(shí)施方式中,所述單晶爐還包括隔離件及多個(gè)連接塊;多個(gè)所述連接塊沿所述隔離件的周向均勻設(shè)置;所述連接塊遠(yuǎn)離所述隔離件的一端與所述坩堝的容腔內(nèi)壁連接;相鄰所述連接塊之間具有隔離槽;所述隔離槽與所述容腔連通。

    14、在一種可能的實(shí)施方式中,所述單晶爐還包括拖桿;所述拖桿的一端可移動(dòng)地設(shè)于所述爐體內(nèi),并與所述坩堝連接。

    15、在一種可能的實(shí)施方式中,所述單晶爐還包括導(dǎo)流筒;所述導(dǎo)流筒設(shè)于所述爐體內(nèi),且位于所述坩堝的上方。

    16、第二方面,本專利技術(shù)還提供了一種單晶硅的制備方法,包括以下步驟:

    17、熔化坩堝內(nèi)的硅料,使所述硅料成為硅熔體;

    18、驅(qū)動(dòng)硅料件至所述硅熔體上方進(jìn)行預(yù)熱;

    19、驅(qū)動(dòng)預(yù)熱后的所述硅料件逐漸伸入所述硅熔體內(nèi),并使所述硅料件單位時(shí)間內(nèi)熔化的重量,與相同單位時(shí)間內(nèi)單晶硅生長(zhǎng)增加的重量相同;驅(qū)動(dòng)摻雜料件伸入所述硅熔體內(nèi),并根據(jù)所述硅料件單位時(shí)間內(nèi)熔化的重量,控制所述摻雜料件向所述硅熔體內(nèi)的添加量。

    20、相比現(xiàn)有技術(shù),本專利技術(shù)的有益效果:

    21、本專利技術(shù)提供的單晶爐,通過(guò)驅(qū)動(dòng)第一升降桿在第一支撐筒內(nèi)移動(dòng),從而可以使得第一升降桿與硅料件連接的一端,能夠帶動(dòng)硅料件從第一支撐筒中伸入坩堝內(nèi),以向坩堝內(nèi)進(jìn)行加料。通過(guò)控制第一升降桿的移動(dòng)速度,可以精準(zhǔn)控制硅料件的加料量;且硅料件加料時(shí)不易與爐體內(nèi)的部件發(fā)生摩擦。本專利技術(shù)的單晶爐通過(guò)驅(qū)動(dòng)第二升降桿在第二支撐筒內(nèi)移動(dòng),從而可以使得第二升降桿與摻雜料件連接的一端,能夠帶動(dòng)摻雜料件從第二支撐筒中伸入坩堝內(nèi),以向坩堝內(nèi)的硅熔體進(jìn)行摻雜;進(jìn)而調(diào)節(jié)單晶硅制備后的電阻率,提高單晶硅的電阻率的一致性。

    22、為使本專利技術(shù)的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯和易懂,下文特舉較佳實(shí)施例,并配合所附附圖,做詳細(xì)說(shuō)明如下。

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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種單晶爐,其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶爐,其特征在于,所述單晶爐還包括保護(hù)筒;所述保護(hù)筒設(shè)于所述爐體內(nèi);所述保護(hù)筒的一端設(shè)于所述爐體的內(nèi)壁上,且所述保護(hù)筒的內(nèi)部與所述第一支撐筒的內(nèi)部連通;所述保護(hù)筒遠(yuǎn)離所述爐體內(nèi)壁的一端朝向所述坩堝;所述第一升降桿與所述硅料件連接的一端可移動(dòng)地設(shè)于所述保護(hù)筒內(nèi)。

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單晶爐,其特征在于,所述加料組件還包括第一連接件;所述第一連接件用于連接所述第一升降桿與所述硅料件。

    4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單晶爐,其特征在于,所述加料組件還包括第一升降件;所述第一升降件設(shè)于所述第一支撐筒遠(yuǎn)離所述爐體的一端;所述第一升降件用于驅(qū)動(dòng)所述第一升降桿在所述第一支撐筒和所述保護(hù)筒內(nèi)移動(dòng)。

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的單晶爐,其特征在于,所述加料組件還包括第一擋板;所述第一擋板可移動(dòng)地設(shè)于所述爐體上;所述第一擋板用于隔斷所述保護(hù)筒與所述第一支撐筒之間的連通。

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的單晶爐,其特征在于,所述加料組件還包括第一抽氣管;所述第一抽氣管的一端與所述第一支撐筒連接,且所述第一抽氣管內(nèi)部與所述第一支撐筒內(nèi)部連通。

    7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任意一些所述的單晶爐,其特征在于,所述單晶爐還包括隔離件及多個(gè)連接塊;多個(gè)所述連接塊沿所述隔離件的周向均勻設(shè)置;所述連接塊遠(yuǎn)離所述隔離件的一端與所述坩堝的容腔內(nèi)壁連接;相鄰所述連接塊之間具有隔離槽;所述隔離槽與所述容腔連通。

    8.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任意一些所述的單晶爐,其特征在于,所述單晶爐還包括拖桿;所述拖桿的一端可移動(dòng)地設(shè)于所述爐體內(nèi),并與所述坩堝連接。

    9.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任意一些所述的單晶爐,其特征在于,所述單晶爐還包括導(dǎo)流筒;所述導(dǎo)流筒設(shè)于所述爐體內(nèi),且位于所述坩堝的上方。

    10.一種單晶硅的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種單晶爐,其特征在于,包括:

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶爐,其特征在于,所述單晶爐還包括保護(hù)筒;所述保護(hù)筒設(shè)于所述爐體內(nèi);所述保護(hù)筒的一端設(shè)于所述爐體的內(nèi)壁上,且所述保護(hù)筒的內(nèi)部與所述第一支撐筒的內(nèi)部連通;所述保護(hù)筒遠(yuǎn)離所述爐體內(nèi)壁的一端朝向所述坩堝;所述第一升降桿與所述硅料件連接的一端可移動(dòng)地設(shè)于所述保護(hù)筒內(nèi)。

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單晶爐,其特征在于,所述加料組件還包括第一連接件;所述第一連接件用于連接所述第一升降桿與所述硅料件。

    4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單晶爐,其特征在于,所述加料組件還包括第一升降件;所述第一升降件設(shè)于所述第一支撐筒遠(yuǎn)離所述爐體的一端;所述第一升降件用于驅(qū)動(dòng)所述第一升降桿在所述第一支撐筒和所述保護(hù)筒內(nèi)移動(dòng)。

    5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的單晶爐,其特征在于,所述加料組件還包括第一擋板;所述第一擋板可移動(dòng)地設(shè)于所述爐體上;所述第一擋板用于隔斷所述保...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:鄒凱莫磊張國(guó)宏田棟東李長(zhǎng)營(yíng)張德林周文東杜明
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:甘肅瓜州寶豐硅材料開(kāi)發(fā)有限公司
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:

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