【技術實現步驟摘要】
本技術是一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，屬于離子束旋轉研磨。
技術介紹
1、隨著半導體、光學和微電子等領域發展，離子研磨不僅被用于樣品的截面制樣和界面表征，還可以用于金屬晶界的展示，有助于分析金屬疲勞、蠕變等失效機理，傳統的利用離子束的高能量在真空狀態下撞擊材料表面，從而達到去除表面雜質、平整表面等目的；
2、但是因工件是靜止不動的，又因離子束發射槍是垂直布置的，同時由于離子束直徑小，能量集中區范圍小，導致長時間研磨制樣的表面范圍小，所以在工作過程中易使熱量的累積造成樣品表面的熱損傷，同時加工腔體內為真空環境，動力裝置散熱難度大，因此需要設計一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體來解決上述問題。
技術實現思路
1、針對現有技術存在的不足，本技術目的是提供一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，以解決上述
技術介紹
中提出的問題，本技術通過對工件的旋轉使研磨面積的擴大，有效避免熱量的累積，減少熱損傷。
2、為了實現上述目的，本技術是通過如下的技術方案來實現：一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，包括真空無縫箱，所述真空無縫箱上端連通設置離子發射槍連接kf真空接口，所述真空無縫箱右端轉動設置開合門板，所述開合門板內鑲嵌圓形盤，所述圓形盤與開合門板轉動連接，所述開合門板右端設置電機，所述電機活動端穿過圓形盤并與傳動軸連接，所述傳動軸處在真空無縫箱內，所述傳動軸左端設置聯軸器，所述聯軸器左端設置蝸桿，所述圓形盤左端設置平臺安裝過橋板，所述平臺安裝過橋板設置在傳動軸前側，所述平臺安裝過
3、進一步，所述真空無縫箱前表面向后凹陷形成通孔，所述通孔貫穿真空無縫箱前后表面，所述通孔內設置觀察窗口。
4、進一步，所述圓形盤右端設置兩個呈相對布置的把手，所述把手設置在電機外側。
5、進一步，所述圓形盤右端設置快速夾的一端，所述快速夾的另一端與開合門板連接，所述圓形盤通過快速夾與開合門板限制連接。
6、進一步，所述圓形盤外端設置呈弧形結構的齒條，所述開合門板右端轉動設置平臺夾角調整旋鈕，所述平臺夾角調整旋鈕與齒條嚙合布置。
7、進一步，所述圓形盤左表面向右凹陷形成密封槽，所述密封槽內設置密封圈。
8、進一步，所述傳動軸外端轉動設置磁流體旋轉密封件，所述磁流體旋轉密封件設置在平臺安裝過橋板后側，所述磁流體旋轉密封件與圓形盤貼合布置。
9、本技術的有益效果：
10、1、通過電機，使電傳動軸、聯軸器、蝸桿、蝸輪、旋轉盤以及旋轉盤上的工件產生轉動，從而通過離子束對工件進行刻蝕作業，通過對工件的旋轉使研磨面積的擴大，有效避免熱量的累積，減少熱損傷。
11、2、先將工件安裝在指定位置上，并關閉開合門板，當角度不合適時，轉動平臺夾角調整旋鈕，對工件的角度進行調整，實現對工件角度的便捷調節，用于輔助后續作業，使用性好。
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1.一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，其特征在于：包括真空無縫箱(1)，所述真空無縫箱(1)上端連通設置離子發射槍連接KF真空接口(2)，所述真空無縫箱(1)右端轉動設置開合門板(3)，所述開合門板(3)內鑲嵌圓形盤(4)，所述圓形盤(4)與開合門板(3)轉動連接，所述開合門板(3)右端設置電機(5)，所述電機(5)活動端穿過圓形盤(4)并與傳動軸(7)連接，所述傳動軸(7)處在真空無縫箱(1)內，所述傳動軸(7)左端設置聯軸器(8)，所述聯軸器(8)左端設置蝸桿(13)，所述圓形盤(4)左端設置平臺安裝過橋板(11)，所述平臺安裝過橋板(11)設置在傳動軸(7)前側，所述平臺安裝過橋板(11)上端設置旋轉平臺(10)，所述旋轉平臺(10)上端轉動設置旋轉盤(9)，所述旋轉盤(9)下端延伸至旋轉平臺(10)內，所述旋轉盤(9)下端設置蝸輪(12)，所述蝸輪(12)與蝸桿(13)嚙合布置，所述蝸桿(13)轉動連接在旋轉平臺(10)內。
2.根據權利要求1所述的一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，其特征在于：所述真空無縫箱(1)前表面向后凹陷形成通孔，所述通孔貫穿真空無縫箱
3.根據權利要求1所述的一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，其特征在于：所述圓形盤(4)右端設置兩個呈相對布置的把手(42)，所述把手(42)設置在電機(5)外側。
4.根據權利要求1所述的一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，其特征在于：所述圓形盤(4)右端設置快速夾(41)的一端，所述快速夾(41)的另一端與開合門板(3)連接，所述圓形盤(4)通過快速夾(41)與開合門板(3)限制連接。
5.根據權利要求1所述的一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，其特征在于：所述圓形盤(4)外端設置呈弧形結構的齒條(43)，所述開合門板(3)右端轉動設置平臺夾角調整旋鈕(44)，所述平臺夾角調整旋鈕(44)與齒條(43)嚙合布置。
6.根據權利要求1所述的一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，其特征在于：所述圓形盤(4)左表面向右凹陷形成密封槽，所述密封槽內設置密封圈(45)。
7.根據權利要求1所述的一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，其特征在于：所述傳動軸(7)外端轉動設置磁流體旋轉密封件(71)，所述磁流體旋轉密封件(71)設置在平臺安裝過橋板(11)后側，所述磁流體旋轉密封件(71)與圓形盤(4)貼合布置。
...【技術特征摘要】
1.一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，其特征在于：包括真空無縫箱(1)，所述真空無縫箱(1)上端連通設置離子發射槍連接kf真空接口(2)，所述真空無縫箱(1)右端轉動設置開合門板(3)，所述開合門板(3)內鑲嵌圓形盤(4)，所述圓形盤(4)與開合門板(3)轉動連接，所述開合門板(3)右端設置電機(5)，所述電機(5)活動端穿過圓形盤(4)并與傳動軸(7)連接，所述傳動軸(7)處在真空無縫箱(1)內，所述傳動軸(7)左端設置聯軸器(8)，所述聯軸器(8)左端設置蝸桿(13)，所述圓形盤(4)左端設置平臺安裝過橋板(11)，所述平臺安裝過橋板(11)設置在傳動軸(7)前側，所述平臺安裝過橋板(11)上端設置旋轉平臺(10)，所述旋轉平臺(10)上端轉動設置旋轉盤(9)，所述旋轉盤(9)下端延伸至旋轉平臺(10)內，所述旋轉盤(9)下端設置蝸輪(12)，所述蝸輪(12)與蝸桿(13)嚙合布置，所述蝸桿(13)轉動連接在旋轉平臺(10)內。
2.根據權利要求1所述的一種離子束旋轉研磨連體式真空腔體，其特征在于：所述真空無縫箱(1)前表面向后凹陷形成通孔，所述通孔貫穿真空無縫箱(1)前后表面，所述通孔內設置觀察窗口(14)。
【專利技術屬性】
技術研發人員：華瞳瞳，王斌，孫泉，孫日升，周建華，
申請(專利權)人：江蘇富樂華功率半導體研究院有限公司，
類型：新型
國別省市：
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