一種電解槽及電解槽電堆制造技術(shù)

本申請涉及電解槽技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電解槽和電解槽電堆。電解槽包括兩個單極板和膜電極，沿電解槽的重力方向，膜電極與兩個單極板堆疊設(shè)置，且膜電極位于兩個單極板之間，沿電解槽的重力方向，陽極室位于膜電極的上側(cè)，陽極室中生成的氣體的浮力方向與電解槽的重力方向相反。本申請在置放電解槽時，沿電解槽的重力方向，依次堆疊單極板、膜電極和單極板，并限定膜電極的上側(cè)形成陽極室，膜電極的下側(cè)形成陰極室，使陽極室的水溶液在重力作用下更靠近膜電極，提高電化學(xué)反應(yīng)速率，同時，陽極室內(nèi)生成的氧氣在浮力作用下遠(yuǎn)離膜電極，避免氧氣形成的氣泡積聚在膜電極上，導(dǎo)致電化學(xué)反應(yīng)減慢。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本申請涉及電解槽，尤其涉及一種電解槽及電解槽電堆。

技術(shù)介紹

1、電解槽的置放方式取決于具體的應(yīng)用和電解槽的類型。電解槽通常用于電化學(xué)反應(yīng)，如電解水制氫或電解制氧氣，以及其他涉及電解的過程。電解槽中氧氣附著在電極表面(通常是ptl，即導(dǎo)電聚合物涂層)上可能會降低電化學(xué)反應(yīng)的效率。這種現(xiàn)象通常會稱為“氧氣吸附”或“氧化還原”，它可能對電化學(xué)系統(tǒng)的性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請?zhí)峁┝艘环N電解槽及電解槽電堆，旨在保證電解槽電化學(xué)反應(yīng)速率。

2、本申請?zhí)峁┝艘环N電解槽，所述電解槽包括兩個單極板和膜電極，沿所述電解槽的重力方向，所述膜電極與兩個所述單極板堆疊設(shè)置，且所述膜電極位于兩個所述單極板之間；

3、其中，所述膜電極的兩側(cè)分別為陰極室和陽極室，沿所述電解槽的重力方向，所述陽極室位于所述膜電極的上側(cè)，所述陽極室中生成的氣體的浮力方向與所述電解槽的重力方向相反。

4、在一種可能的設(shè)計中，所述單極板具有陽極面，沿所述電解槽的重力方向置放所述單極板時，所述陽極面為所述單極板的下端面。

5、在一種可能的設(shè)計中，所述陽極面具有流道，在浮力作用下，所述氣體能夠流動至所述流道。

6、在一種可能的設(shè)計中，兩個所述單極板為上單極板和下單極板；

7、所述電解槽還包括上多孔傳輸層和下多孔傳輸層；

8、所述上多孔傳輸層設(shè)置于所述上單極板與所述膜電極之間，所述下多孔傳輸層位于所述下單極板與所述膜電極之間。

9、在一種可能的設(shè)計中，所述電解槽還包括上集流板和下集流板；

10、所述上集流板位于所述上單極板遠(yuǎn)離所述膜電極的一側(cè)，所述下集流板位于所述下單極板遠(yuǎn)離所述膜電極的一側(cè)。

11、在一種可能的設(shè)計中，所述電解槽還包括上絕緣板和下絕緣板；

12、所述上絕緣板位于所述上集流板遠(yuǎn)離所述上單極板的一側(cè)，所述下絕緣板位于所述下集流板遠(yuǎn)離所述下單極板的一側(cè)。

13、在一種可能的設(shè)計中，所述電解槽還包括上端板和下端板；

14、所述上端板位于所述上絕緣板遠(yuǎn)離所述上集流板的一側(cè)，所述下端板位于所述下絕緣板遠(yuǎn)離所述下集流板的一側(cè)；

15、所述上絕緣板、所述上集流板、所述上單極板、所述膜電極、所述下單極板、所述下集流板和所述下絕緣板依次堆疊于所述上端板與所述下端板之間，所述上端板與所述下端板通過緊固件固定。

16、在一種可能的設(shè)計中，所述單極板的材質(zhì)為鈦、鎳、不銹鋼中的任一種。

17、在一種可能的設(shè)計中，所述電解槽適用于質(zhì)子交換膜電解槽、堿性陰離子交換膜電解槽和固體氧化物電解槽中的任一種。

18、本申請還提供了一種電解槽電堆，所述電解槽電堆包括至少兩個堆疊設(shè)置的電解槽，所述電解槽為上述所述的電解槽。

19、應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性的，并不能限制本申請。

本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點】

1.一種電解槽，其特征在于，所述電解槽包括兩個單極板和膜電極，沿所述電解槽的重力方向，所述膜電極與兩個所述單極板堆疊設(shè)置，且所述膜電極位于兩個所述單極板之間；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解槽，其特征在于，所述單極板具有陽極面，沿所述電解槽的重力方向置放所述單極板時，所述陽極面為所述單極板的下端面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電解槽，其特征在于，所述陽極面具有流道，在浮力作用下，所述氣體能夠流動至所述流道。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解槽，其特征在于，兩個所述單極板為上單極板和下單極板；

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電解槽，其特征在于，所述電解槽還包括上集流板和下集流板；

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電解槽，其特征在于，所述電解槽還包括上絕緣板和下絕緣板；

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電解槽，其特征在于，所述電解槽還包括上端板和下端板；

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項所述的電解槽，其特征在于，所述單極板的材質(zhì)為鈦、鎳、不銹鋼中的任一種。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項所述的電解槽，其特征在于，所述電解槽適用于質(zhì)子交換膜電解槽、堿性陰離子交換膜電解槽和固體氧化物電解槽中的任一種。

10.一種電解槽電堆，其特征在于，所述電解槽電堆包括至少兩個堆疊設(shè)置的電解槽，所述電解槽為權(quán)利要求1至9任一項所述的電解槽。

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【技術(shù)特征摘要】

1.一種電解槽，其特征在于，所述電解槽包括兩個單極板和膜電極，沿所述電解槽的重力方向，所述膜電極與兩個所述單極板堆疊設(shè)置，且所述膜電極位于兩個所述單極板之間；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解槽，其特征在于，所述單極板具有陽極面，沿所述電解槽的重力方向置放所述單極板時，所述陽極面為所述單極板的下端面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電解槽，其特征在于，所述陽極面具有流道，在浮力作用下，所述氣體能夠流動至所述流道。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解槽，其特征在于，兩個所述單極板為上單極板和下單極板；

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電解槽，其特征在于，所述電解槽還包括上集流...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：鄒柏強，胡鵬，姜天豪，畢飛飛，藍(lán)樹槐，
申請(專利權(quán))人：蘇州治臻新能源裝備有限公司，
類型：新型
國別省市：