【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本技術(shù)涉及醫(yī)療器械領(lǐng)域，尤其是涉及一種染色體制片分散裝置。
技術(shù)介紹
1、染色體核型分析(簡稱核型分析)是分子細(xì)胞遺傳學(xué)檢測的基本方法，尤其基于染色體分裂中期的核型分析是唐氏綜合征等疾病診斷的金標(biāo)準(zhǔn)。目前細(xì)胞遺傳學(xué)檢測流程較為復(fù)雜，其中需要經(jīng)過采樣、培養(yǎng)、收獲、滴片、烘干、染片、掃片、閱片等主要步驟才能得出診斷結(jié)果。其中滴片是整個流程中最重要的環(huán)節(jié)，因為能否保證持續(xù)穩(wěn)定的獲得分裂中期圖像將直接影響著診斷質(zhì)量的判斷。
2、目前仍有很多醫(yī)院及檢測機構(gòu)采用人工操作，但是人工操作過程中，載玻片的溫度、濕度、氣流流速等影響因素?zé)o法受到穩(wěn)定控制，因此經(jīng)常影響分散效果，最終導(dǎo)致制片質(zhì)量參差不齊、效率低下，為后續(xù)閱片造成障礙，從而可能造成診斷結(jié)果的誤判。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本技術(shù)的目的在于實現(xiàn)一種實時穩(wěn)定的控制染色體分散操作的溫度、濕度、氣流的染色體制片分散裝置。
2、本技術(shù)的目的采用如下技術(shù)方案實現(xiàn)：
3、一種染色體制片分散裝置，包括殼體，還包括工控屏以及旋轉(zhuǎn)分散室，所述工控屏位于所述殼體上，所述旋轉(zhuǎn)分散室位于所述殼體內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)分散室包括旋轉(zhuǎn)盤、驅(qū)動組件以及溫濕氣控制組件，所述工控屏與所述驅(qū)動組件、所述溫濕氣控制組件電性連接，所述驅(qū)動組件驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)盤包括轉(zhuǎn)盤主體，所述轉(zhuǎn)盤主體設(shè)有多個載玻片放片位，每一所述載玻片放片位傾斜放置，所述溫濕氣控制組件包括濕度控制組件、氣流控制組件、加熱組件以及降溫組件，所述加熱組件和所述降
4、進一步地，所述載玻片放片位傾斜角度為2-5°。
5、進一步地，所述旋轉(zhuǎn)盤由下到上依次包括底座、外殼以及座套，所述殼體包括頂蓋，所述底座、所述外殼、所述座套以及所述頂蓋形成一內(nèi)腔，所述轉(zhuǎn)盤主體位于所述內(nèi)腔內(nèi)。
6、進一步地，所述載玻片放片位沿所述轉(zhuǎn)盤主體周向均勻布置。
7、進一步地，所述旋轉(zhuǎn)盤還包括噴嘴側(cè)，所述噴嘴側(cè)位于所述座套上方，所述濕度控制組件和所述氣流控制組件位于所述噴嘴側(cè)上。
8、進一步地，染色體制片分散裝置還包括樣本架，所述頂蓋設(shè)有滴片孔與安裝孔，所述滴片孔形狀與所述座套形狀契合，所述樣本架位于所述安裝孔內(nèi)，所述安裝孔與所述樣本架尺寸契合，所述樣本架設(shè)有多個樣本管。
9、進一步地，所述旋轉(zhuǎn)盤還包括多個底柱，多個所述底柱間隔分布，所述底柱位于所述底座下方并與所述底座固定連接。
10、進一步地，所述驅(qū)動組件包括旋轉(zhuǎn)電機、主傳動輪、從傳動輪、皮帶、轉(zhuǎn)動軸、軸承、軸承套以及電機座，所述旋轉(zhuǎn)電機固接在所述電機座上，所述主傳動輪與所述旋轉(zhuǎn)電機傳動連接，所述從傳動輪通過所述皮帶與所述主傳動輪連接，所述轉(zhuǎn)動軸與所述從傳動輪連接，所述軸承套接在所述轉(zhuǎn)動軸上，所述軸承套位于所述軸承外側(cè)，所述轉(zhuǎn)盤主體與所述轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動連接。
11、進一步地，所述旋轉(zhuǎn)分散室還包括反饋控制組件，所述反饋控制組件包括光耦與擋片，所述光耦位于所述底座上，所述擋片位于所述從傳動輪上，所述反饋控制組件用于所述旋轉(zhuǎn)盤復(fù)位。
12、進一步地，染色體制片分散裝置還包括上位機處理器、風(fēng)扇、循環(huán)水泵以及柱塞泵，所述風(fēng)扇、所述循環(huán)水泵、所述柱塞泵依次位于所述旋轉(zhuǎn)分散室一側(cè)，所述旋轉(zhuǎn)分散室還包括排廢液組件，所述柱塞泵與所述排廢液組件連通，所述風(fēng)扇、所述循環(huán)水泵以及所述降溫組件分別與所述上位機處理器電性連接，通過所述上位機處理器實現(xiàn)降溫控制。
13、相比現(xiàn)有技術(shù)，本技術(shù)染色體制片分散裝置具有以下優(yōu)勢：
14、(1)本申請染色體制片分散裝置，裝置內(nèi)設(shè)溫濕氣控制組件，包括濕度控制組件、加熱組件、降溫組件以及氣流控制組件，濕度控制組件用于實時保證旋轉(zhuǎn)分散室操作時的濕度；加熱組件和降溫組件共同保證旋轉(zhuǎn)分散室內(nèi)實時溫度可調(diào)，因此能夠?qū)崟r穩(wěn)定的控制染色體分散操作的溫度、濕度、氣流等環(huán)境因素，同時支持?jǐn)?shù)據(jù)收集整理上傳，為醫(yī)療人員提供便利的操作體驗；
15、(2)本申請染色體制片分散裝置，載玻片放片位傾斜放置，通過重力作用，能夠使樣本小幅度流動，便于細(xì)胞分散，實現(xiàn)實驗結(jié)果的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性；
16、(3)本申請染色體制片分散裝置，包括殼體，工控屏和樣本架位于殼體上，旋轉(zhuǎn)分散室、風(fēng)扇、循環(huán)水泵以及柱塞泵位于殼體內(nèi)，便于樣品處理進度的可視化，工控屏用于控制操作整體儀器、記錄及顯示實時數(shù)據(jù)。
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1.一種染色體制片分散裝置，包括殼體，其特征在于：還包括工控屏以及旋轉(zhuǎn)分散室，所述工控屏位于所述殼體上，所述旋轉(zhuǎn)分散室位于所述殼體內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)分散室包括旋轉(zhuǎn)盤、驅(qū)動組件以及溫濕氣控制組件，所述工控屏與所述驅(qū)動組件、所述溫濕氣控制組件電性連接，所述驅(qū)動組件驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)盤包括轉(zhuǎn)盤主體，所述轉(zhuǎn)盤主體設(shè)有多個載玻片放片位，每一所述載玻片放片位傾斜放置，所述溫濕氣控制組件包括濕度控制組件、氣流控制組件、加熱組件以及降溫組件，所述加熱組件和所述降溫組件位于所述旋轉(zhuǎn)盤下方，所述濕度控制組件和所述氣流控制組件用于控制所述載玻片放片位的濕度以及氣流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述載玻片放片位傾斜角度為2-5°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)盤由下到上依次包括底座、外殼以及座套，所述殼體包括頂蓋，所述底座、所述外殼、所述座套以及所述頂蓋形成一內(nèi)腔，所述轉(zhuǎn)盤主體位于所述內(nèi)腔內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述載玻片放片位沿所述轉(zhuǎn)盤主體周向均勻布置。>
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)盤還包括噴嘴側(cè)，所述噴嘴側(cè)位于所述座套上方，所述濕度控制組件和所述氣流控制組件位于所述噴嘴側(cè)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：染色體制片分散裝置還包括樣本架，所述頂蓋設(shè)有滴片孔與安裝孔，所述滴片孔形狀與所述座套形狀契合，所述樣本架位于所述安裝孔內(nèi)，所述安裝孔與所述樣本架尺寸契合，所述樣本架設(shè)有多個樣本管。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)盤還包括多個底柱，多個所述底柱間隔分布，所述底柱位于所述底座下方并與所述底座固定連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述驅(qū)動組件包括旋轉(zhuǎn)電機、主傳動輪、從傳動輪、皮帶、轉(zhuǎn)動軸、軸承、軸承套以及電機座，所述旋轉(zhuǎn)電機固接在所述電機座上，所述主傳動輪與所述旋轉(zhuǎn)電機傳動連接，所述從傳動輪通過所述皮帶與所述主傳動輪連接，所述轉(zhuǎn)動軸與所述從傳動輪連接，所述軸承套接在所述轉(zhuǎn)動軸上，所述軸承套位于所述軸承外側(cè)，所述轉(zhuǎn)盤主體與所述轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)分散室還包括反饋控制組件，所述反饋控制組件包括光耦與擋片，所述光耦位于所述底座上，所述擋片位于所述從傳動輪上，所述反饋控制組件用于所述旋轉(zhuǎn)盤復(fù)位。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：染色體制片分散裝置還包括上位機處理器、風(fēng)扇、循環(huán)水泵以及柱塞泵，所述風(fēng)扇、所述循環(huán)水泵、所述柱塞泵依次位于所述旋轉(zhuǎn)分散室一側(cè)，所述旋轉(zhuǎn)分散室還包括排廢液組件，所述柱塞泵與所述排廢液組件連通，所述風(fēng)扇、所述循環(huán)水泵以及所述降溫組件分別與所述上位機處理器電性連接，通過所述上位機處理器實現(xiàn)降溫控制。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種染色體制片分散裝置，包括殼體，其特征在于：還包括工控屏以及旋轉(zhuǎn)分散室，所述工控屏位于所述殼體上，所述旋轉(zhuǎn)分散室位于所述殼體內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)分散室包括旋轉(zhuǎn)盤、驅(qū)動組件以及溫濕氣控制組件，所述工控屏與所述驅(qū)動組件、所述溫濕氣控制組件電性連接，所述驅(qū)動組件驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)盤包括轉(zhuǎn)盤主體，所述轉(zhuǎn)盤主體設(shè)有多個載玻片放片位，每一所述載玻片放片位傾斜放置，所述溫濕氣控制組件包括濕度控制組件、氣流控制組件、加熱組件以及降溫組件，所述加熱組件和所述降溫組件位于所述旋轉(zhuǎn)盤下方，所述濕度控制組件和所述氣流控制組件用于控制所述載玻片放片位的濕度以及氣流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述載玻片放片位傾斜角度為2-5°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)盤由下到上依次包括底座、外殼以及座套，所述殼體包括頂蓋，所述底座、所述外殼、所述座套以及所述頂蓋形成一內(nèi)腔，所述轉(zhuǎn)盤主體位于所述內(nèi)腔內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述載玻片放片位沿所述轉(zhuǎn)盤主體周向均勻布置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)盤還包括噴嘴側(cè)，所述噴嘴側(cè)位于所述座套上方，所述濕度控制組件和所述氣流控制組件位于所述噴嘴側(cè)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的染色體制片分散裝置，其特征在于：染色體制片分散裝置還包括樣本架，所述頂蓋設(shè)有...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：高楠，于海利，王爽，于洋，崔凱，馬振予，李仕祺，王帥，
申請(專利權(quán))人：蘇州國科醫(yī)工科技發(fā)展集團有限公司，
類型：新型
國別省市：
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