【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及一種用于在高壓環(huán)境下對(duì)對(duì)象進(jìn)行熱處理的熱處理裝置以及用于其的氣體監(jiān)測(cè)模塊。
技術(shù)介紹
1、通常，在半導(dǎo)體制造過(guò)程中的離子注入(ion?implantation)工藝會(huì)在晶片的界面產(chǎn)生損壞。退火(annealing)是通過(guò)熱處理修復(fù)相應(yīng)晶片的損傷的工藝。除了退火之外，在激活雜質(zhì)、形成薄膜(cvd)、執(zhí)行歐姆(ohmic)接觸合金工藝時(shí)，也對(duì)晶片進(jìn)行熱處理。
2、在熱處理過(guò)程中，對(duì)晶片使用氣體。氣體可以在高壓下供給到容納有晶片的腔室。熱處理結(jié)束后，用過(guò)的氣體從腔室中排出。排氣后，經(jīng)熱處理的晶片從腔室中取出。然后，新的晶片和氣體提供到腔室以用于下次熱處理。
3、腔室具有一定水平以上的密封力，使得供應(yīng)得到的氣體不會(huì)泄漏到外部。隨著持續(xù)進(jìn)行熱處理工藝，密封力可能會(huì)減弱。由于密封力減弱，腔室內(nèi)的氣體會(huì)泄漏到外部。這可能導(dǎo)致熱處理效率降低的問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、技術(shù)問(wèn)題
2、本專利技術(shù)的一目的在于，提供一種通過(guò)掌握腔室中氣體的內(nèi)部泄漏，可以提前阻斷最終的外部泄漏的高壓熱處理裝置及用于其的氣體監(jiān)測(cè)模塊。
3、解決問(wèn)題的手段
4、為達(dá)成所述課題，根據(jù)本專利技術(shù)的一側(cè)面的高壓熱處理裝置，其中，包括：內(nèi)部腔室，形成用于容納待熱處理的對(duì)象；外部腔室，具備：第一部分及第二部分，相面對(duì)設(shè)置以限定容納空間；以及內(nèi)o型圈及外o型圈，配置于所述第一部分與所述第二部分之間的對(duì)應(yīng)區(qū)域，在所述容納空間容納所述內(nèi)部腔室；供氣模塊，用于以高于大氣壓
5、此處，所述監(jiān)測(cè)模塊還可以包括緩沖供氣管路，連接至所述供氣模塊，用于向所述緩沖通道供給所述緩沖氣體。
6、此處，還包括排氣模塊，所述排氣模塊被構(gòu)成為用于從所述內(nèi)部腔室和所述外部腔室排放所述反應(yīng)氣體和所述保護(hù)氣體，所述監(jiān)測(cè)模塊還包括緩沖排氣管路，所述緩沖排氣管路連接于所述排氣模塊，用于從所述緩沖通道排放所述緩沖氣體。
7、此處，所述緩沖排氣管路連接于所述緩沖供氣管路，所述監(jiān)測(cè)模塊，還可以包括：緩沖供氣閥，形成為用于控制所述緩沖供氣管路；以及緩沖排氣閥，形成為用于控制所述緩沖排氣管路。
8、此處，所述感測(cè)單元可以包括壓力感測(cè)器，所述壓力感測(cè)器連接于所述緩沖供氣管路和所述緩沖排氣管路中的一個(gè)，用于在所述緩沖供氣閥和所述緩沖排氣閥被關(guān)閉的狀態(tài)下，感測(cè)所述緩沖氣體的壓力變化。
9、此處，所述緩沖排氣管路與所述緩沖供氣管路獨(dú)立地形成，所述感測(cè)單元可以包括氣體感測(cè)器，所述氣體感測(cè)器設(shè)置于所述緩沖排氣管路上，用于感測(cè)混合在所述緩沖氣體中的所述反應(yīng)氣體。
10、此處，所述監(jiān)測(cè)模塊還可以包括壓力調(diào)整單元，所述壓力調(diào)整單元配置在所述氣體感測(cè)器的前流，以將流入所述氣體感測(cè)器的流動(dòng)的壓力降低至參考?jí)毫σ韵隆?/p>
11、此處，所述緩沖通道可以為凹陷形成于所述第一部分和所述第二部分中的至少一個(gè)。
12、此處，所述第三壓力可以設(shè)置為低于所述第二壓力。
13、此處，所述緩沖通道可以形成沿所述內(nèi)o型圈和所述外o型圈的圓周方向延伸的環(huán)形。
14、此處，所述控制模塊可以控制所述監(jiān)測(cè)模塊和所述排氣模塊，使得當(dāng)判斷為發(fā)生所述氣體泄漏時(shí)，排放所述反應(yīng)氣體、所述保護(hù)氣體及所述緩沖氣體。
15、根據(jù)本專利技術(shù)的另一側(cè)面的用于高壓熱處理裝置的氣體監(jiān)測(cè)模塊，其中，可以包括：緩沖通道，位于內(nèi)o型圈和外o型圈之間，所述內(nèi)o型圈和所述外o型圈配置在為了限定以高于大氣壓的壓力供給工藝氣體的容納空間而相面對(duì)設(shè)置的第一部分和第二部分之間的對(duì)應(yīng)區(qū)域；緩沖供氣管路，與所述緩沖通道相連接，用于向所述緩沖通道供給壓力低于所述工藝氣體的緩沖氣體；緩沖排氣管路，連接于所述緩沖通道，用于從所述緩沖通道排放所述緩沖氣體；以及感測(cè)單元，被構(gòu)成為在所述工藝氣體經(jīng)過(guò)所述內(nèi)o型圈在所述緩沖通道的內(nèi)部發(fā)生泄漏時(shí)，感測(cè)與所述緩沖氣體相關(guān)的環(huán)境。
16、此處，所述緩沖通道可以形成為沿所述內(nèi)o型圈和所述外o型圈的圓周方向延伸的環(huán)形。
17、此處，所述感測(cè)單元可以包括壓力感測(cè)器，用于根據(jù)所述內(nèi)部泄漏感測(cè)所述緩沖氣體的上升的壓力。
18、此處，還可以包括：緩沖供氣閥，形成為用于控制所述緩沖供氣管路；以及緩沖排氣閥，形成為用于控制所述緩沖排氣管路，所述壓力感測(cè)器，用于在所述緩沖供給閥和所述緩沖排氣閥被關(guān)閉的狀態(tài)下可以感測(cè)所述緩沖氣體的壓力。
19、專利技術(shù)效果
20、根據(jù)如上所述構(gòu)成的本專利技術(shù)的高壓熱處理裝置及用于其的氣體監(jiān)測(cè)模塊，在腔室的第一部分和第二部分之間的對(duì)應(yīng)區(qū)域設(shè)置內(nèi)o型圈和外o型圈，并在其之間形成用于供給緩沖氣體的緩沖通道的狀態(tài)下，若感測(cè)單元感測(cè)到與緩沖氣體相關(guān)的環(huán)境，則控制模塊可以基于感測(cè)信息判斷經(jīng)由內(nèi)o型圈流入緩沖通道的氣體是否發(fā)生內(nèi)部泄漏，從而，可以在腔室內(nèi)部的氣體泄漏到外部之前掌握露出問(wèn)題。
21、進(jìn)一步地，控制模塊在排出腔室內(nèi)的氣體及緩沖氣體時(shí)，可以提前阻斷氣體的外漏。
本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種高壓熱處理裝置，其中，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓熱處理裝置，其中，所述監(jiān)測(cè)模塊還包括緩沖供氣管路，連接至所述供氣模塊，用于向所述緩沖通道供給所述緩沖氣體。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高壓熱處理裝置，其中，還包括排氣模塊，所述排氣模塊被構(gòu)成為用于從所述內(nèi)部腔室和所述外部腔室排放所述反應(yīng)氣體和所述保護(hù)氣體，
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高壓熱處理裝置，其中，所述緩沖排氣管路連接于所述緩沖供氣管路，
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高壓熱處理裝置，其中，所述感測(cè)單元包括壓力感測(cè)器，所述壓力感測(cè)器連接于所述緩沖供氣管路和所述緩沖排氣管路中的一個(gè)，用于在所述緩沖供氣閥和所述緩沖排氣閥被關(guān)閉的狀態(tài)下，感測(cè)所述緩沖氣體的壓力變化。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高壓熱處理裝置，其中，所述緩沖排氣管路與所述緩沖供氣管路獨(dú)立地形成，
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高壓熱處理裝置，其中，所述監(jiān)測(cè)模塊還包括壓力調(diào)整單元，所述壓力調(diào)整單元配置在所述氣體感測(cè)器的前流，以將流入所述氣體感測(cè)器的流動(dòng)的壓力降低至參考?jí)毫σ韵隆?/p>
8.根據(jù)
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓熱處理裝置，其中，所述緩沖通道形成沿所述內(nèi)O型圈和所述外O型圈的圓周方向延伸的環(huán)形。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓熱處理裝置，其中，所述第三壓力被設(shè)置為低于所述第二壓力。
11.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高壓熱處理裝置，其中，所述控制模塊控制所述監(jiān)測(cè)模塊和所述排氣模塊，使得當(dāng)判斷為發(fā)生所述氣體泄漏時(shí)，排放所述反應(yīng)氣體、所述保護(hù)氣體及所述緩沖氣體。
12.一種用于高壓熱處理裝置的氣體監(jiān)測(cè)模塊，其中，包括：
13.根據(jù)根據(jù)權(quán)利要求12所述的用于高壓熱處理裝置的氣體監(jiān)測(cè)模塊，其中，所述緩沖通道形成為沿所述內(nèi)O型圈和所述外O型圈的圓周方向延伸的環(huán)形。
14.根據(jù)根據(jù)權(quán)利要求12所述的用于高壓熱處理裝置的氣體監(jiān)測(cè)模塊，其中，所述感測(cè)單元包括壓力感測(cè)器，用于根據(jù)所述內(nèi)部泄漏感測(cè)所述緩沖氣體的上升的壓力。
15.根據(jù)根據(jù)權(quán)利要求14所述的用于高壓熱處理裝置的氣體監(jiān)測(cè)模塊，其中，還包括：
...【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
1.一種高壓熱處理裝置，其中，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高壓熱處理裝置，其中，所述監(jiān)測(cè)模塊還包括緩沖供氣管路，連接至所述供氣模塊，用于向所述緩沖通道供給所述緩沖氣體。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高壓熱處理裝置，其中，還包括排氣模塊，所述排氣模塊被構(gòu)成為用于從所述內(nèi)部腔室和所述外部腔室排放所述反應(yīng)氣體和所述保護(hù)氣體，
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高壓熱處理裝置，其中，所述緩沖排氣管路連接于所述緩沖供氣管路，
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高壓熱處理裝置，其中，所述感測(cè)單元包括壓力感測(cè)器，所述壓力感測(cè)器連接于所述緩沖供氣管路和所述緩沖排氣管路中的一個(gè)，用于在所述緩沖供氣閥和所述緩沖排氣閥被關(guān)閉的狀態(tài)下，感測(cè)所述緩沖氣體的壓力變化。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高壓熱處理裝置，其中，所述緩沖排氣管路與所述緩沖供氣管路獨(dú)立地形成，
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高壓熱處理裝置，其中，所述監(jiān)測(cè)模塊還包括壓力調(diào)整單元，所述壓力調(diào)整單元配置在所述氣體感測(cè)器的前流，以將流入所述氣體感測(cè)器的流動(dòng)的壓力降低至參考?jí)毫σ韵隆?/p>
8.根據(jù)...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：林根榮，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：HPSP有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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