【技術實現步驟摘要】
本技術涉及半導體設備，特別涉及一種隔離裝置及刻蝕設備。
技術介紹
1、在半導體刻蝕設備中，分有傳送腔室和反應腔室，兩者相互獨立，但兩個腔室使用通道連接。在芯片刻蝕過程中需要將反應腔室與傳送腔室的連通通道隔開，用于阻擋等離子體的擴散，使芯片在刻蝕過程中有固定容積的反應腔室，shutter(隔離擋板)機構在反應腔室中起到此作用。
2、反應腔室在刻蝕過程中是處于高真空狀態，由于shutter機構是運動部件，鑒于密封性要求，需要在shutter機構中的shutter桿一定位置處安裝密封圈，并涂抹潤滑油。
3、而芯片刻蝕過程中對于反應腔室的含塵量有著嚴格的要求，shutter桿涂抹的潤滑油處理不當，則容易造成反應腔室含塵量高，特定位置處出現special?map(含塵量檢測時，某一固定位置含塵量高的情況)，對于芯片生產極為不利。
4、另一方面在芯片刻蝕過程中，等離子體濃度高，能量大且具有一定的腐蝕性，對shutter桿處的密封圈有一定的腐蝕，所以為了達到反應腔室密封性能的要求，需要經常更換shutter桿處密封圈。
技術實現思路
1、本技術的目的在于提供一種隔離裝置及刻蝕設備，能夠防止潤滑油被帶出基座進入反應腔室，避免反應腔室內的含塵量過高。
2、為解決上述技術問題，本技術提供一種隔離裝置，包括：基座與移動桿，所述基座具有貫通的安裝孔，所述移動桿穿過所述安裝孔且能沿所述安裝孔上下移動，所述移動桿長度大于所述安裝孔的長度；所述移動桿上設置有至少一
3、可選的，相鄰兩個所述環形凹槽內的填充物表面上的螺旋凹槽的旋轉方向相反。
4、可選的，所述填充物表面與所述安裝孔內壁相切。
5、可選的，所述螺旋凹槽的首尾兩端呈閉合狀態，且與所述環形凹槽的側壁具有設定間隔。
6、可選的，所述隔離裝置還包括隔離擋板，所述隔離擋板與所述移動桿的頂部相連接并隨著所述移動桿上下移動；所述移動桿上還設置有密封圈，所述環形凹槽比所述密封圈更靠近所述隔離擋板。
7、可選的，所述移動桿上設置有密封槽，所述密封槽內設置有兩個所述密封圈，兩個所述密封圈之間以及所述密封圈與所述密封槽側壁之間設置有墊片。
8、可選的，所述密封圈為特氟龍密封圈。
9、可選的，所述環形凹槽所在位置低于所述基座的頂部。
10、可選的，所述填充物為特氟龍填充物。
11、相應的，本技術還提供一種刻蝕設備，包括傳送腔室、反應腔室以及如上所述的隔離裝置，所述隔離裝置用于隔離或打開所述傳送腔室與所述反應腔室之間的連通通道。
12、與現有技術相比，本技術提供的隔離裝置及刻蝕設備中，在移動桿上設置有至少一個環形凹槽，在環形凹槽內設置填充物，所述填充物的表面具有螺旋凹槽，當移動桿沿安裝孔上下移動帶出的潤滑油遇到填充物時，會被填充物的螺旋凹槽所吸收，從而能夠避免潤滑油被移動桿帶出基座進入反應腔室，避免反應腔室內含塵量檢測時出現含塵量過高的情況。
13、進一步的，相鄰兩個環形凹槽內的填充物表面上的螺旋凹槽的旋轉方向相反，從而能夠更徹底的吸收由下而上的潤滑油。
14、進一步的，所述螺旋凹槽的首尾兩端呈閉合狀態，且與所述環形凹槽的側壁具有設定間隔，從而保證潤滑油在螺旋凹槽的兩端不會向兩側排出，進一步避免潤滑油被移動桿帶出基座。
15、另外，所述環形凹槽比所述密封圈更靠近隔離擋板，環形凹槽內填充物的設置增大了等離子體的流動路徑，增大了等離子體的流動阻力，阻擋了部分等離子體，很大程度上降低了密封圈受等離子體的腐蝕程度，延長了密封圈的使用壽命。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種隔離裝置，其特征在于，包括：基座和移動桿，所述基座具有貫通的安裝孔，所述移動桿穿過所述安裝孔且能沿所述安裝孔上下移動，所述移動桿長度大于所述安裝孔的長度；所述移動桿上設置有至少一個環形凹槽，所述環形凹槽內設置有填充物，所述填充物的表面具有螺旋凹槽。
2.根據權利要求1所述的隔離裝置，其特征在于，相鄰兩個所述環形凹槽內的填充物表面上的螺旋凹槽的旋轉方向相反。
3.根據權利要求1所述的隔離裝置，其特征在于，所述填充物表面與所述安裝孔內壁相切。
4.根據權利要求1所述的隔離裝置，其特征在于，所述螺旋凹槽的首尾兩端呈閉合狀態，且與所述環形凹槽的側壁具有設定間隔。
5.根據權利要求1所述的隔離裝置，其特征在于，所述隔離裝置還包括隔離擋板，所述隔離擋板與所述移動桿的頂部相連接并隨著所述移動桿上下移動；所述移動桿上還設置有密封圈，所述環形凹槽比所述密封圈更靠近所述隔離擋板。
6.根據權利要求5所述的隔離裝置，其特征在于，所述移動桿上設置有密封槽，所述密封槽內設置有兩個所述密封圈，兩個所述密封圈之間以及所述密封圈與所述密封槽側壁
7.根據權利要求6所述的隔離裝置，其特征在于，所述密封圈為特氟龍密封圈。
8.根據權利要求1至7任一項所述的隔離裝置，其特征在于，所述環形凹槽所在位置低于所述基座的頂部。
9.根據權利要求1至7任一項所述的隔離裝置，其特征在于，所述填充物為特氟龍填充物。
10.一種刻蝕設備，其特征在于，包括傳送腔室、反應腔室以及如權利要求1至9任一項所述的隔離裝置，所述隔離裝置用于隔離或打開所述傳送腔室與所述反應腔室之間的連通通道。
...【技術特征摘要】
1.一種隔離裝置，其特征在于，包括：基座和移動桿，所述基座具有貫通的安裝孔，所述移動桿穿過所述安裝孔且能沿所述安裝孔上下移動，所述移動桿長度大于所述安裝孔的長度；所述移動桿上設置有至少一個環形凹槽，所述環形凹槽內設置有填充物，所述填充物的表面具有螺旋凹槽。
2.根據權利要求1所述的隔離裝置，其特征在于，相鄰兩個所述環形凹槽內的填充物表面上的螺旋凹槽的旋轉方向相反。
3.根據權利要求1所述的隔離裝置，其特征在于，所述填充物表面與所述安裝孔內壁相切。
4.根據權利要求1所述的隔離裝置，其特征在于，所述螺旋凹槽的首尾兩端呈閉合狀態，且與所述環形凹槽的側壁具有設定間隔。
5.根據權利要求1所述的隔離裝置，其特征在于，所述隔離裝置還包括隔離擋板，所述隔離擋板與所述移動桿的頂部相連接并隨著所述移...
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