【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及化合物，具體涉及一種含硒黑色素及其制備方法與應用。
技術介紹
1、在科技飛速發展的同時，輻射污染問題也日益受到關注。電離輻射危害來源有很多，包括天然輻射源如宇宙射線、放射性元素等，還包括自核電站使用以及放射治療等臨床醫學的人為輻射。研究輻射防護具有重要意義。
2、黑色素是自然界中的天然輻射保護劑，其輻射防護能力有待進一步改進。
技術實現思路
1、第一方面，本專利技術提供下式(iii)化合物，
2、
3、其中，r1、r2各自獨立地選自-cooh、-h、-oh、-ch3、-ch(ch3)2、-c(ch3)3、-och3、-nh2、-conh2、-cn、-no2、-cho、-so3h、-f、-cl、-br、-i、-cf3、-ccl3、-n(ch3)2、-nhcoch3、-ococh3、-c6h5、-coch3、-cooch3、-ch＝ch2、-ch2no。
4、具體地，r1、r2各自獨立地選自-cooh或h。
5、具體地，r1、r2不同時選自-cooh。
6、具體地，r1為-cooh，r2為-cooh；簡稱化合物semnps-1。
7、具體地，r1為-cooh，r2為h；簡稱化合物semnps-2。
8、具體地，r1為h，r2為-cooh；簡稱化合物semnps-3。
9、具體地，r1為h，r2為h；簡稱化合物semnps-4。
10、本專利技術意外地發現
11、第二方面，本專利技術還提供上述式(iii)化合物的制備方法，其反應路線如下：
12、
13、其中，r1、r2的定義與上文相同。
14、具體地，式(i)化合物在氧化劑存在的條件下聚合生成式(ii)化合物。所述氧化劑可選自高錳酸鉀、氧氣、高碘酸鈉、過硫酸銨、高碘酸鈉、過氧化氫、次氯酸鈉、過硫酸氫鉀復合鹽、四氧化釕、硝酸鈰銨、二氧化錳、二氧化硒、過氧苯甲酸、間氯過氧苯甲酸、過氧乙酸、重鉻酸鉀、重鉻酸吡啶鹽、四氧化釕、四吡啶重鉻酸合鈷、二甲亞砜、過氧化二苯甲酰、戴斯-馬丁高碘烷、2，3-二氯-5，6-二氰基對苯醌、甲基(三氟甲基)二氧雜環丙烷、二甲基過氧化酮中至少一種，優選為高錳酸鉀或氧氣。
15、具體地，當式(i)化合物中r1為-cooh時，選用高錳酸鉀為氧化劑。
16、具體地，當式(i)化合物中r1為h時，選用氧氣為氧化劑，優選在一水合氨(nh3·h2o)存在條件下進行，在這樣的堿性環境下可以加快反應歷程。
17、在一些實施例，用高錳酸鉀(kmno4)溶液氧化左旋多巴(l-dopa)，聚合生成式(ii)化合物。
18、在一些實施例，在一水合氨、無水乙醇和水(例如超純水)的混合溶劑體系中，氧化鹽酸多巴胺(da·hcl)，聚合生成式(ii)化合物。
19、具體地，式(ii)化合物與硒代半胱氨酸溶液反應，生成式(iii)化合物。作為優選，所述硒代半胱氨酸溶液中還含有三(2-羧基乙基)磷酸鹽酸鹽(tcep·hcl)，可以提高硒代半胱氨酸的穩定性。具體地，所述硒代半胱氨酸溶液的ph為5-9，優選為6-8，進一步優選ph為7。
20、具體地，式(ii)化合物與硒代半胱胺溶液反應，生成式(iii)化合物。作為優選，所述硒代胱胺溶液中還含有三(2-羧基乙基)磷酸鹽酸鹽(tcep·hcl)，以提高硒代半胱胺的穩定性。具體地，所述硒代半胱胺溶液的ph為5-9，優選為6-8，進一步優選ph為7。
21、在一些實施例，用高錳酸鉀(kmno4)溶液氧化左旋多巴(l-dopa)，聚合生成式(ii)化合物；然后式(ii)化合物與硒代半胱氨酸溶液反應，生成式(iii)化合物，即為化合物semnps-1。
22、在一些實施例，用高錳酸鉀溶液(kmno4)氧化左旋多巴(l-dopa)，聚合生成式(ii)化合物；式(ii)化合物與硒代半胱胺溶液反應，生成式(iii)化合物，即為化合物semnps-2。
23、在一些實施例，在一水合氨、無水乙醇和水的混合溶劑體系中，氧化鹽酸多巴胺(da·hcl)，聚合生成式(ii)化合物；然后式(ii)化合物與硒代半胱氨酸溶液反應，生成式(iii)化合物，即為化合物semnps-3。
24、在一些實施例，在一水合氨、無水乙醇和水的混合溶劑體系中，氧化鹽酸多巴胺(da·hcl)，聚合生成式(ii)化合物；式(ii)化合物與硒代半胱胺溶液反應，生成式(iii)化合物，即為化合物semnps-4。
25、具體地，上述生成式(ii)化合物的反應時間可為30分鐘，生成式(ii)化合物的反應時間可為過夜，例如在生成式(ii)化合物的反應進行30分鐘后，開始生成式(iii)化合物的反應,并攪拌反應過夜，最終離心收集洗滌所得產物。
26、本專利技術意外發現，上述制備方法可以得到共軛程度不同的含硒黑色素。其中，化合物semnps-1的共軛程度最低，化合物semnps-2和化合物semnps-3的共軛程度中等，化合物semnps-4的共軛程度最高。相應地，化合物semnps-1至化合物semnps-4的抗氧化能力和輻射防護能力依次增加，并且化合物semnps-4顯著優于化合物semnps-1。
27、第三方面，本專利技術還提供上述方法制備的含硒黑色素，即式(iii)化合物。
28、具體地，所述含硒黑色素為納米顆粒，其粒徑通常大約70-500nm，例如80-300nm。該納米顆粒通常為均勻的球形，更有利于進入細胞內部，從而更好地發揮抗氧化性能和輻射防護性能。
29、第四方面，本專利技術還提供式(iii)化合物在制備具有預防或治療抗氧化性能和/或輻射防護性能的產品中的應用。所述產品包括藥物、化妝品、醫療防護用具。
30、第五方面，本專利技術還提供一種預防或治療氧化或輻射的方法，包括給予治療劑量的上述式(iii)化合物或上述含硒黑色素。
31、具體地，本專利技術所述輻射防護性能包括在體外的x射線屏蔽能力、對細胞的輻射防護能力。
32、本專利技術通過合成方法的調控，得到新的含硒黑色素，進一步提升了含硒黑色素的抗氧化和輻射防護能力。該含硒黑色素作為一種制備簡單安全、生物相容性好、所需劑量小且具有良好輻射防護性能的輻射防護材料，有望廣泛應用于口服藥物、外敷材料、醫學防護用品、核電站屏蔽、核廢水處理等領域，展現出巨大的應用前景。
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1.式(III)化合物，
2.根據權利要求1所述的式(III)化合物，其特征在于，
3.式(III)化合物的制備方法，其特征在于，反應路線如下：
4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，式(I)化合物在氧化劑存在的條件下聚合生成式(II)化合物；
5.根據權利要求3或4所述的制備方法，其特征在于，式(II)化合物與硒代半胱氨酸溶液反應，生成式(III)化合物；
6.根據權利要求3或4所述的制備方法，其特征在于，式(II)化合物與硒代半胱胺溶液反應，生成式(III)化合物；
7.含硒黑色素，其特征在于，由權利要求3-6任一項所述方法制備得到。
8.根據權利要求7所述的含硒黑色素，其特征在于，所述含硒黑色素為納米顆粒；可選地，其粒徑為70-500nm，優選為80-300nm。
9.權利要求1或2所述式(III)化合物或權利要求7或8所述含硒黑色素在制備具有預防或治療抗氧化性能和/或輻射防護性能的產品中的應用；
10.一種預防或治療氧化或輻射的方法，其特征在于，包括給予治療
...【技術特征摘要】
1.式(iii)化合物，
2.根據權利要求1所述的式(iii)化合物，其特征在于，
3.式(iii)化合物的制備方法，其特征在于，反應路線如下：
4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，式(i)化合物在氧化劑存在的條件下聚合生成式(ii)化合物；
5.根據權利要求3或4所述的制備方法，其特征在于，式(ii)化合物與硒代半胱氨酸溶液反應，生成式(iii)化合物；
6.根據權利要求3或4所述的制備方法，其特征在于，式(ii)化合物與硒代半胱胺溶液反應，生成式(iii)...
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