【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)實(shí)施例涉及激光雷達(dá)探測，特別涉及一種扁平目標(biāo)后向lrcs測量方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)。
技術(shù)介紹
1、現(xiàn)有的激光雷達(dá)散射截面(lrcs)后向測量技術(shù)在測量扁平目標(biāo)時(shí)，存在著測量數(shù)據(jù)精度誤差較大的問題，而現(xiàn)有的高價(jià)值目標(biāo)形狀大多又在雷達(dá)視野中呈現(xiàn)扁平狀，這限制了高價(jià)值目標(biāo)測量精度，嚴(yán)重影響數(shù)據(jù)應(yīng)用價(jià)值。因此，有必要提供一種針對(duì)扁平目標(biāo)的后向lrcs高精度測量方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、基于現(xiàn)有技術(shù)在測量扁平目標(biāo)時(shí)存在測量數(shù)據(jù)精度誤差較大的問題，本專利技術(shù)實(shí)施例提供了一種扁平目標(biāo)后向lrcs測量方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)，能夠有效提高測量精度，減小測量誤差。
2、第一方面，本專利技術(shù)實(shí)施例提供了一種扁平目標(biāo)后向lrcs測量方法，包括：
3、獲取待測量的目標(biāo)的幾何數(shù)據(jù)和觀測要求；其中，所述觀測要求包括目標(biāo)相對(duì)雷達(dá)的觀測位置以及雷達(dá)視線方向；
4、根據(jù)獲取的所述幾何數(shù)據(jù)和所述觀測要求，獲得對(duì)應(yīng)的觀測畫面，并確定目標(biāo)成像形狀；
5、基于目標(biāo)成像形狀，判斷是否滿足扁平目標(biāo)，是則繼續(xù)執(zhí)行后續(xù)步驟；
6、基于目標(biāo)成像形狀，得到能夠覆蓋目標(biāo)成像形狀90％以上區(qū)域的方格組方案；其中，所述方格組方案包括多個(gè)單位方格及對(duì)應(yīng)位置，所有單位方格均不重疊且不孤立；
7、分別獲取基準(zhǔn)板和目標(biāo)的回波信號(hào)；其中，所述基準(zhǔn)板是基于方格組方案、采用多個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板拼接組成的，獲取所述基準(zhǔn)板的回波信號(hào)的條件為所述基準(zhǔn)板設(shè)于觀測位置且垂直于雷達(dá)視
8、結(jié)合單個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板的反射率、面積以及組成所述基準(zhǔn)板的方形標(biāo)準(zhǔn)板數(shù)量，計(jì)算目標(biāo)的lrcs值。
9、可選地，所述判斷是否滿足扁平目標(biāo)，包括：
10、確定目標(biāo)的長軸方向；
11、分別確定目標(biāo)成像形狀在長軸方向及垂直長軸方向的眾數(shù)；
12、基于確定的眾數(shù)，進(jìn)行判斷；若垂直長軸方向的眾數(shù)不超過長軸方向的眾數(shù)的1/4，則判斷滿足扁平目標(biāo)，否則判斷不滿足扁平目標(biāo)。
13、可選地，所述基于目標(biāo)成像形狀，得到能夠覆蓋目標(biāo)成像形狀90％以上區(qū)域的方格組方案，包括：
14、根據(jù)眾數(shù)，確定基準(zhǔn)數(shù)值；若垂直長軸方向的眾數(shù)超過長軸方向的眾數(shù)的1/6且不超過長軸方向的眾數(shù)的1/4，則取垂直長軸方向的眾數(shù)的1/2為基準(zhǔn)數(shù)值；若垂直長軸方向的眾數(shù)不超過長軸方向的眾數(shù)的1/6，則取垂直長軸方向的眾數(shù)為基準(zhǔn)數(shù)值；
15、基于基準(zhǔn)數(shù)值，確定可用的單個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板的尺寸；
16、根據(jù)單個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板的尺寸，確定單位方格的尺寸；
17、基于目標(biāo)成像形狀和單位方格，通過不重疊連續(xù)分塊，得到能夠覆蓋目標(biāo)成像形狀90％以上區(qū)域的方格組方案。
18、可選地，所述基于基準(zhǔn)數(shù)值，確定可用的單個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板的尺寸，包括：
19、基于基準(zhǔn)數(shù)值，確定對(duì)應(yīng)的三維空間尺寸；
20、根據(jù)確定的三維空間尺寸，檢索并篩選已有的方形標(biāo)準(zhǔn)板尺寸，選擇可用的方形標(biāo)準(zhǔn)板，令單個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板的尺寸為三維空間尺寸的1～1.2倍。
21、可選地，所述基于目標(biāo)成像形狀和單位方格，通過不重疊連續(xù)分塊，得到能夠覆蓋目標(biāo)成像形狀90％以上區(qū)域的方格組方案，包括：
22、對(duì)目標(biāo)成像形狀設(shè)置外接矩形；
23、基于單位方格的尺寸，對(duì)所述外接矩形進(jìn)行不重復(fù)連續(xù)分塊，并將每個(gè)分塊設(shè)為一個(gè)覆蓋區(qū)域，令每個(gè)覆蓋區(qū)域的尺寸與單位方格的尺寸相同；
24、檢測每個(gè)覆蓋區(qū)域，若一個(gè)覆蓋區(qū)域內(nèi)目標(biāo)實(shí)際所占區(qū)域少于5％，則將對(duì)應(yīng)的分塊去除；
25、通過整體平移和/或旋轉(zhuǎn)，令所有覆蓋區(qū)域內(nèi)目標(biāo)實(shí)際所占區(qū)域最大化，得到方格組方案。
26、可選地，所述計(jì)算目標(biāo)的lrcs值，采用如下表達(dá)式：
27、
28、其中，σ1表示單個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板的面積，σ2表示目標(biāo)的lrcs值，e1表示基準(zhǔn)板的回波信號(hào)，e2表示基準(zhǔn)板的回波信號(hào)，ρ1表示單個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板的反射率，n表示組成所述基準(zhǔn)板的方形標(biāo)準(zhǔn)板數(shù)量。
29、可選地，獲取基準(zhǔn)板和目標(biāo)的回波信號(hào)，采用如下測量系統(tǒng)：
30、所述測量系統(tǒng)包括照射光源、雷達(dá)探測系統(tǒng)和姿態(tài)模擬系統(tǒng)；
31、其中，所述姿態(tài)模擬系統(tǒng)用于設(shè)置目標(biāo)或基準(zhǔn)板，能夠調(diào)節(jié)方位角和/或俯仰角；所述照射光源和雷達(dá)探測系統(tǒng)位于所述姿態(tài)模擬系統(tǒng)同側(cè)。
32、第二方面，本專利技術(shù)實(shí)施例還提供了一種扁平目標(biāo)后向lrcs測量裝置，包括：
33、數(shù)據(jù)獲取模塊，用于獲取待測量的目標(biāo)的幾何數(shù)據(jù)和觀測要求；其中，所述觀測要求包括目標(biāo)相對(duì)雷達(dá)的觀測位置以及雷達(dá)視線方向；
34、形狀獲取模塊，用于根據(jù)獲取的所述幾何數(shù)據(jù)和所述觀測要求，獲得對(duì)應(yīng)的觀測畫面，并確定目標(biāo)成像形狀；
35、形狀判斷模塊，用于基于目標(biāo)成像形狀，判斷是否滿足扁平目標(biāo)，是則繼續(xù)執(zhí)行后續(xù)步驟；
36、方案確定模塊，用于基于目標(biāo)成像形狀，得到能夠覆蓋目標(biāo)成像形狀90％以上區(qū)域的方格組方案；其中，所述方格組方案包括多個(gè)單位方格及對(duì)應(yīng)位置，所有單位方格均不重疊且不孤立；
37、信號(hào)獲取模塊，用于分別獲取基準(zhǔn)板和目標(biāo)的回波信號(hào)；其中，所述基準(zhǔn)板是基于方格組方案、采用多個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板拼接組成的，獲取所述基準(zhǔn)板的回波信號(hào)的條件為所述基準(zhǔn)板設(shè)于觀測位置且垂直于雷達(dá)視線方向；
38、信號(hào)計(jì)算模塊，用于結(jié)合單個(gè)方形標(biāo)準(zhǔn)板的反射率、面積以及組成所述基準(zhǔn)板的方形標(biāo)準(zhǔn)板數(shù)量，計(jì)算目標(biāo)的lrcs值。
39、第三方面，本專利技術(shù)實(shí)施例還提供了一種電子設(shè)備，包括存儲(chǔ)器和處理器，所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)，實(shí)現(xiàn)本說明書任一實(shí)施例所述的方法。
40、第四方面，本專利技術(shù)實(shí)施例還提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，當(dāng)所述計(jì)算機(jī)程序在計(jì)算機(jī)中執(zhí)行時(shí)，令計(jì)算機(jī)執(zhí)行本說明書任一實(shí)施例所述的方法。
41、本專利技術(shù)實(shí)施例提供了一種扁平目標(biāo)后向lrcs測量方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)，本專利技術(shù)針對(duì)扁平目標(biāo)，采用經(jīng)過特殊設(shè)計(jì)的基準(zhǔn)板進(jìn)行信號(hào)轉(zhuǎn)換，大幅提升了基準(zhǔn)板與扁平目標(biāo)的尺寸相似性，從而有效提高扁平目標(biāo)后向lrcs測量精度，減小測量誤差。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種扁平目標(biāo)后向LRCS測量方法，其特征在于，包括如下步驟：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，
8.一種扁平目標(biāo)后向LRCS測量裝置，其特征在于，包括：
9.一種電子設(shè)備，包括存儲(chǔ)器和處理器，所述存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)，實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的方法。
10.一種存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，當(dāng)所述計(jì)算機(jī)程序在計(jì)算機(jī)中執(zhí)行時(shí)，令計(jì)算機(jī)執(zhí)行權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的方法。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種扁平目標(biāo)后向lrcs測量方法，其特征在于，包括如下步驟：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：孫騰，余杰，代飛，王鳳帥，范博昭，蘇必達(dá)，周志遠(yuǎn)，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：北京環(huán)境特性研究所，
類型：發(fā)明
國別省市：
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