【技術實現步驟摘要】
本技術涉及半導體，尤其涉及一種光刻機光罩污染物的清除裝置。
技術介紹
1、在制作集成電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型復制于晶圓上，必須透過光罩作用的原理，光罩又稱光掩模版，常見的如石英光罩，其由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已設計好的電路圖形通過電子激光設備曝光在感光膠上，被曝光的區域會被顯影出來，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模版，然后應用于對集成電路進行投影定位，通過集成電路光刻機對所投影的電路進行光蝕刻，其生產加工工序為：曝光，顯影，去感光膠，最后應用于光蝕刻。光罩是光機步驟的重要工具，若光罩上有灰塵顆粒物會導致曝光到晶圓上從而導致圖形異常，可能會導致產品低良率或報廢。
2、因此，現有技術中需要一種光刻機光罩污染物的清除裝置。
技術實現思路
1、有鑒于此，本技術實施例的目的在于提出一種光刻機光罩污染物的清除裝置，通過自動獲取信號啟動氣噴裝置，可實現將光罩表面污染物自動清除，避免光罩上有顆粒污染物影響曝光效果。
2、基于上述目的，本技術實施例的提供了一種光刻機光罩污染物的清除裝置，清除裝置設置在光罩端的側上方并固定于機臺上，清除裝置包括：
3、通過管路依次連接的氣源、過濾器以及噴氣口，氣源與過濾器之間的管路上設置有電磁控制閥，電磁控制閥基于光罩端的壓力信號以自動封閉或連通管路，噴氣口向光罩表面方向噴出的氣流以進行吹掃。
4、在一些實施方式中，光罩
5、在一些實施方式中，壓力信號為真空吸盤內的壓力值。
6、在一些實施方式中，噴氣口為多個，多個噴氣口沿光罩的延伸方向間隔設置，多個噴氣口的吹氣方向一致。
7、在一些實施方式中，每一個噴氣口噴出的氣流方向與豎直方向的夾角為45～60°。
8、在一些實施方式中，噴氣口為三個，每一個噴氣口噴出的氣流方向與豎直方向的夾角為45°。
9、在一些實施方式中，管路上還設置有氣體流量控制閥。
10、在一些實施方式中，噴氣口與光罩在豎直方向上的安全距離不小于2cm。
11、在一些實施方式中，過濾器包括過濾網和過濾棉疊加形成的雙層結構。
12、在一些實施方式中，氣源內為干燥壓縮空氣。
13、本技術至少具有以下有益技術效果：
14、本裝置提供了一種光刻機光罩污染物清除裝置，包括氣源、過濾器以及多個噴氣口，氣源為干燥的壓縮空氣，氣源出氣管路上設置有電磁閥，電磁閥通過光罩處的真空信號觸發進行開閉，當接收到真空信號時，電磁閥開啟，氣源送氣，經過濾器過濾后通過噴氣口噴出，噴氣口的設置方向保證噴出氣流沿光罩表面吹掃，以將污染物清除，實現將光罩表面污染物自動清除，防止影響曝光效果。
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1.一種光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，清除裝置設置在光罩端的側上方并固定于機臺上，所述清除裝置包括：通過管路依次連接的氣源、過濾器以及噴氣口，所述氣源與所述過濾器之間的管路上設置有電磁控制閥，所述電磁控制閥基于光罩端的壓力信號以自動封閉或連通所述管路，所述噴氣口向光罩表面噴出的氣流以進行吹掃。
2.根據權利要求1所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述光罩端包括光罩、固定座以及設置在固定座上的真空吸盤，所述光罩通過真空吸盤的吸附可拆卸地連接在固定座上。
3.根據權利要求2所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述壓力信號為真空吸盤內的壓力值。
4.根據權利要求1所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述噴氣口為多個，多個所述噴氣口沿所述光罩的延伸方向間隔設置，所述多個噴氣口的吹氣方向一致。
5.根據權利要求4所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，每一個所述噴氣口噴出的氣流方向與豎直方向的夾角為45～60°。
6.根據權利要求5所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述噴
7.根據權利要求1所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述管路上還設置有氣體流量控制閥。
8.根據權利要求1所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述噴氣口與所述光罩在豎直方向上的安全距離不小于2cm。
9.根據權利要求1所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述過濾器包括過濾網和過濾棉疊加形成的雙層結構。
10.根據權利要求1所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述氣源內為干燥壓縮空氣。
...【技術特征摘要】
1.一種光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，清除裝置設置在光罩端的側上方并固定于機臺上，所述清除裝置包括：通過管路依次連接的氣源、過濾器以及噴氣口，所述氣源與所述過濾器之間的管路上設置有電磁控制閥，所述電磁控制閥基于光罩端的壓力信號以自動封閉或連通所述管路，所述噴氣口向光罩表面噴出的氣流以進行吹掃。
2.根據權利要求1所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述光罩端包括光罩、固定座以及設置在固定座上的真空吸盤，所述光罩通過真空吸盤的吸附可拆卸地連接在固定座上。
3.根據權利要求2所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述壓力信號為真空吸盤內的壓力值。
4.根據權利要求1所述的光刻機光罩污染物的清除裝置，其特征在于，所述噴氣口為多個，多個所述噴氣口沿所述光罩的延伸方向間隔設置，所述多個噴氣口的吹氣方向一致。...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李晨，
申請(專利權)人：和艦芯片制造蘇州股份有限公司，
類型：新型
國別省市：
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