【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及介質流量測量，具體而言，涉及一種非接觸式介質流量測量器。
技術介紹
1、為了測量容器(例如，管道)內介質的介質流量，需要采用介質流量計進行測量。然而，相關技術中的介質流量計為了測量介質流量，需要切割容器才能實現連通安裝(例如，電磁流量計)，或者無需切割容器，但在安裝后要與容器直接接觸才能執行測量(例如，聲吶流量計)。
2、基于上述相關技術中的介質流量計的安裝形式，當容器內部流通的介質的溫度過高時，與容器連通安裝或直接接觸的介質流量計均易受容器傳導熱量的影響，不利于介質流量計的長久工作。
3、針對上述的問題，目前尚未提出有效的解決方案。
技術實現思路
1、本專利技術實施例提供了一種非接觸式介質流量測量器，以至少解決相關技術中在容器內存在高溫介質時，容易導致介質流量計的工作壽命降低的技術問題。
2、根據本專利技術實施例的一個方面，提供了一種非接觸式介質流量測量器，所述非接觸式介質流量測量器包括：流量測量裝置，與容器進行非接觸式安裝，用于采集容器上各個時刻下多個截面處對應的測量數據；控制和計算裝置，與所述流量測量裝置預先建立通訊連接，用于基于接收到的各個時刻下的所述容器上多個所述截面處對應的所述測量數據，檢測各個時刻下所述容器上多個所述截面處的容器振動信息，并基于各個時刻下多個所述截面處的所述容器振動信息，計算各個時刻下所述容器內介質的介質流速，并依據所述介質流速和所述容器的截面尺寸，計算所述容器內所述介質的介質流量；其中，所述容器內所述
3、進一步地，所述流量測量裝置的裝置類型包括下述至少之一：信號測量裝置、電容測量裝置。
4、進一步地，在所述流量測量裝置是所述信號測量裝置的情況下，所述信號測量裝置包括：多個測量單元，多個所述測量單元呈陣列式排布，每個所述測量單元用于向所述容器上對應的一個所述截面處發射測量信號，并接收所述測量信號打在所述截面處定位的容器外壁后形成的反射信號，其中，將所述測量信號和所述反射信號表征為信號數據，并將所述信號數據作為所述測量數據發送至所述控制和計算裝置。
5、進一步地，在所述測量數據為所述信號數據的情況下，所述控制和計算裝置還用于：基于所述信號數據中發射到每個所述截面處的所述測量信號和與所述測量信號對應的所述反射信號之間的信號區別特征，確定每個所述截面處的容器振動信息。
6、進一步地，所述非接觸式介質流量測量器還包括：多個反射器，每個所述反射器固定在所述容器的一個所述截面處上，且每個所述反射器與一個所述測量單元對應，所述反射器用于增強所述反射信號的強度。
7、進一步地，所述測量單元包括：發射源和探測器；所述反射器包括：分光模塊和固定反射模塊；其中，所述發射源用于發射所述測量信號，且所述測量信號被所述分光模塊分成兩個部分；所述測量信號的第一部分抵達所述固定反射模塊后，經所述固定反射模塊反射后形成第一反射信號被所述探測器接收；所述測量信號的第二部分抵達所述分光模塊后，所述分光模塊將所述測量信號的第二部分反射形成第二反射信號后被所述探測器接收。
8、進一步地，所述控制和計算裝置還用于：基于所述第一反射信號和第二反射信號之間的光程差，確定每個所述截面處的容器振動信息，其中，所述第一反射信號和第二反射信號是兩束相干信號。
9、進一步地，在所述流量測量裝置是電容測量裝置的情況下，所述電容測量裝置包括：多個靜止極板和多個振動極板，所述振動極板固定在所述容器的一個所述截面處上，所述靜止極板和所述振動極板一一對應；其中，每組對應的所述靜止極板和所述振動極板之間產生電容值，將所述電容值表征為電容數據，并將所述電容數據作為所述測量數據發送至所述控制和計算裝置。
10、進一步地，在所述流量測量裝置是電容測量裝置的情況下，所述電容測量裝置包括：多個環狀極板，每個所述環狀極板環套在所述容器一個所述截面處上且不與所述容器接觸；其中，每個環狀極板和所述容器之間產生電容值，將所述電容值表征為電容數據，并將所述電容數據作為所述測量數據發送至所述控制和計算裝置。
11、進一步地，在所述測量數據為所述電容數據的情況下，所述控制和計算裝置還用于：基于所述電容數據中每個所述截面處的電容值，確定每個所述截面處的容器振動信息。
12、進一步地，所述容器振動信息包括下述至少之一：頻率成分、幅度、相位。
13、在本專利技術中的非接觸式介質流量測量器包括：流量測量裝置，與容器進行非接觸式安裝，用于采集容器上各個時刻下多個截面處對應的測量數據；控制和計算裝置，與流量測量裝置預先建立通訊連接，用于基于接收到的各個時刻下的容器上多個截面處對應的測量數據，檢測各個時刻下容器上多個截面處的容器振動信息，并基于各個時刻下多個截面處的容器振動信息，計算各個時刻下容器內介質的介質流速，并依據介質流速和容器的截面尺寸，計算容器內介質的介質流量。
14、在本專利技術中，通過將流量測量裝置與容器進行非接觸式安裝，能夠采集容器上各個時刻下多個截面處對應的測量數據，然后通過控制和計算裝置能夠根據接收到的測量數據，檢測出各個時刻下容器上多個截面處的一個或多個渦流所引起的容器振動，并能夠根據兩次一致的容器振動所處的截面處之間的間距和兩次一致的容器振動之間的時間間隔計算出渦流在容器中的變化速度，以通過變化速度和容器的截面尺寸計算容器內介質的介質流量，如此，通過介質流量測量器對容器內的介質進行非接觸式測量，能夠使介質流量測量器不受介質溫度的影響，有利于介質流量測量器的工作時長，進而解決了相關技術中在容器內存在高溫介質時，容易導致介質流量計的工作壽命降低的技術問題。
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1.一種非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述非接觸式介質流量測量器包括：
2.根據權利要求1所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述流量測量裝置的裝置類型包括下述至少之一：信號測量裝置、電容測量裝置。
3.根據權利要求2所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，在所述流量測量裝置是所述信號測量裝置的情況下，所述信號測量裝置包括：
4.根據權利要求3所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，在所述測量數據為所述信號數據的情況下，所述控制和計算裝置還用于：
5.根據權利要求3所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述非接觸式介質流量測量器還包括：
6.根據權利要求5所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述測量單元包括：發射源和探測器；所述反射器包括：分光模塊和固定反射模塊；
7.根據權利要求6所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述控制和計算裝置還用于：
8.根據權利要求2所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，在所述流量測量裝置是電容測量裝置的情況下，所述電容測量裝置包括
9.根據權利要求2所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，在所述流量測量裝置是電容測量裝置的情況下，所述電容測量裝置包括：多個環狀極板，每個所述環狀極板環套在所述容器一個所述截面處上且不與所述容器接觸；其中，每個環狀極板和所述容器之間產生電容值，將所述電容值表征為電容數據，并將所述電容數據作為所述測量數據發送至所述控制和計算裝置。
10.根據權利要求8或9中任一項所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，在所述測量數據為所述電容數據的情況下，所述控制和計算裝置還用于：
...【技術特征摘要】
1.一種非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述非接觸式介質流量測量器包括：
2.根據權利要求1所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述流量測量裝置的裝置類型包括下述至少之一：信號測量裝置、電容測量裝置。
3.根據權利要求2所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，在所述流量測量裝置是所述信號測量裝置的情況下，所述信號測量裝置包括：
4.根據權利要求3所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，在所述測量數據為所述信號數據的情況下，所述控制和計算裝置還用于：
5.根據權利要求3所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述非接觸式介質流量測量器還包括：
6.根據權利要求5所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述測量單元包括：發射源和探測器；所述反射器包括：分光模塊和固定反射模塊；
7.根據權利要求6所述的非接觸式介質流量測量器，其特征在于，所述控制和計算裝置還用于：
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【專利技術屬性】
技術研發人員：呼秀山，李圓圓，
申請(專利權)人：北京銳達儀表有限公司，
類型：發明
國別省市：
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