【技術實現步驟摘要】
本申請涉及鏡片鍍膜,具體而言,涉及一種增透膜、光學透鏡及光纖激光設備。
技術介紹
1、光纖激光加工應用中,激光加工頭上的光學檢測手段疊加及多樣性,給光學透鏡鍍膜提出更高挑戰。目前,常規通用聚焦透鏡、保護鏡鍍膜通常為針對性鍍膜,如要求鍍各種波段的增透膜,但是,這種針對性的鍍膜僅能支持相應波段的透過率,其他未涉及的波段透過率相對偏低。
2、為了實現多樣性的光學檢測手段的集成,目前具有涉及厚度段可見光波段機械視覺成像、相應厚度的oct熔深檢測、2um以內可見光到近紅外焊接質量檢測、1um-2.5um紅外測溫等方式,通常會有一種或多種組合應用,使得通用的聚焦透鏡、保護鏡類常規鏡片的膜兼容性較差,需要根據使用場景針對性定制不同增透膜,導致目前的增透膜兼容性差,定制成本較高,物料多樣化,無法滿足多種不同的應用場景的使用需求。
技術實現思路
1、有鑒于此,本申請實施例的目的在于提供一種增透膜、光學透鏡及光纖激光設備,以改善現有技術中存在的增透膜兼容性差,定制成本較高,無法滿足多種不同的應用場景的使用需求的問題。
2、為了解決上述問題,第一方面,本申請實施例提供了一種增透膜,所述增透膜包括:基底和交替層;
3、所述基底包括高透光性材料層;
4、所述交替層包括n種高功率光纖鍍膜層;
5、所述n種高功率光纖鍍膜層在所述基底上交替設置,形成具有m層交替結構;
6、其中,n為大于或等于2的正整數,m為大于或等于6的正整數。
8、可選地,其中,所述交替層和所述基底通過鍍膜的方式疊層設置;
9、每一層所述高功率光纖鍍膜層鍍設在滿足厚度條件的底層高功率光纖鍍膜層上或所述高透光性材料層上;
10、其中,相鄰兩層材料層存在材料差異。
11、在上述實現過程中,交替層中的多個高功率光纖鍍膜層與基底的高透光性材料層通過鍍膜的方式疊層設置,以得到具有多層結構的增透膜。在進行鍍膜時,可以在底層的高功率光纖鍍膜層或高透光性材料層滿足厚度條件的情況下,即底層鍍膜層完成鍍膜,或底層的材料層厚度滿足設置條件后,再在完成鍍膜的鍍膜層或厚度滿足條件的材料層上繼續疊加鍍設相應的高功率光纖鍍膜層,從而保證每一層鍍膜層的完整性。并且,疊層設計的多層結構中相鄰兩層的材料層存在材料差異,以根據不同的材料實現增透膜的高兼容性和低反射率。
12、可選地,其中,所述m層交替結構中的最內層高功率光纖鍍膜層鍍設在所述高透光性材料層上;
13、所述m層交替結構中的最外層高功率光纖鍍膜層與空氣接觸。
14、在上述實現過程中,m層交替結構中的最內層高功率光纖鍍膜層和最外層高功率光纖鍍膜層與外界接觸。其中,最內層高功率光纖鍍膜層鍍設在高透光性材料層上,以實現基底與交替層的連接,最外層高功率光纖鍍膜層與空氣接觸,以作為增透膜使用時與外界的接觸面。能夠以完整且包覆的結構形成多層結構的增透膜,提高了增透膜的平整性。
15、可選地,其中,所述m層交替結構包括:由第一類高功率光纖鍍膜層組成的第一層、由第二類高功率光纖鍍膜層組成的第二層、由所述第一類高功率光纖鍍膜層組成的第三層、由所述第二類高功率光纖鍍膜層組成的第四層、由所述第一類高功率光纖鍍膜層組成的第五層和由所述第二類高功率光纖鍍膜層組成的第六層。
16、在上述實現過程中,交替層中可以包括兩種不同類型的高功率光纖鍍膜層,交替組成6層交替結構。通過設置不同類型的高功率光纖材料,能夠適應于多種不同的透光功率情況,從而降低各個波段下增透膜的反射率,有效地提高了增透膜的透光率。
17、可選地,其中,所述第一層的材料厚度范圍為:10nm至30nm;
18、所述第二層的材料厚度范圍為:20nm至60nm;
19、所述第三層的材料厚度范圍為:10nm至40nm;
20、所述第四層的材料厚度范圍為:15nm至50nm;
21、所述第五層的材料厚度范圍為:10nm至40nm;
22、所述第六層的材料厚度范圍為:150nm至250nm。
23、在上述實現過程中,在具有6層交替結構的情況下,可以分別根據實際情況和每一層的材料特性等參數,為每一層鍍膜層設置相應的材料厚度范圍,以組成多層不同材料交替疊設的交替結構。
24、可選地,其中,所述m層交替結構的總厚度范圍為:215nm至350nm。
25、在上述實現過程中,增透膜的總厚度較小,物料成本較低且不會因為厚度對光學透鏡的正常使用造成不利影響,有助于鏡片鍍膜階段的成本控制,同時兼容同規格不同需求的多種鏡片。
26、可選地,其中,所述高透光性材料層包括:石英材料。
27、在上述實現過程中,基底的高透光性材料層可以由石英材料等具有高透光性的材料組成,從而使增透膜能夠具有較好的透光性。
28、可選地,其中,n種所述高功率光纖鍍膜層包括:氧化鉿膜料和二氧化硅膜料。
29、在上述實現過程中,交替層中的多種高功率光纖鍍膜層可以由氧化鉿膜料和二氧化硅膜料等具有高功率性的材料組成,從而使增透膜能夠具有較高的透光功率,減少光線經過增透膜時造成的反射損耗。
30、第二方面,本申請實施例還提供了一種光學透鏡,所述光學透鏡上設置有上述任一項所述的增透膜。
31、第三方面,本申請實施例還提供了一種光纖激光設備,所述光纖激光設備包括上述所述的光學透鏡。
32、綜上所述,本申請實施例提供了一種增透膜、光學透鏡及光纖激光設備,以高透光性材料為基底,在基底上以高功率光纖材料進行交替組合設計,能夠得到總膜厚小、透光率高、反射率低的增透膜。增透膜制備簡單,適用于透鏡、保護鏡等多種光學透鏡的鏡片鍍膜,可同時適用于激光加工中多種不同波段檢測的應用場景,兼容性高,有效減少鏡片定制多樣化,從而降低了定制的成本。
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1.一種增透膜,其特征在于,所述增透膜包括:基底和交替層;
2.根據權利要求1所述的增透膜,其特征在于,其中,所述交替層和所述基底通過鍍膜的方式疊層設置;
3.根據權利要求2所述的增透膜,其特征在于,其中,所述m層交替結構中的最內層高功率光纖鍍膜層鍍設在所述高透光性材料層上;
4.根據權利要求1所述的增透膜,其特征在于,其中,所述m層交替結構包括:由第一類高功率光纖鍍膜層組成的第一層、由第二類高功率光纖鍍膜層組成的第二層、由所述第一類高功率光纖鍍膜層組成的第三層、由所述第二類高功率光纖鍍膜層組成的第四層、由所述第一類高功率光纖鍍膜層組成的第五層和由所述第二類高功率光纖鍍膜層組成的第六層。
5.根據權利要求4所述的增透膜,其特征在于,其中,所述第一層的材料厚度范圍為:10nm至30nm;
6.根據權利要求4所述的增透膜,其特征在于,其中,所述m層交替結構的總厚度范圍為:215nm至350nm。
7.根據權利要求1-6任一項所述的增透膜,其特征在于,其中,所述高透光性材料層包括:石英材料。
8.根據權
9.一種光學透鏡,其特征在于,所述光學透鏡上設置有如權利要求1-8任一項所述的增透膜。
10.一種光纖激光設備,其特征在于,所述光纖激光設備包括如權利要求9所述的光學透鏡。
...【技術特征摘要】
1.一種增透膜,其特征在于,所述增透膜包括:基底和交替層;
2.根據權利要求1所述的增透膜,其特征在于,其中,所述交替層和所述基底通過鍍膜的方式疊層設置;
3.根據權利要求2所述的增透膜,其特征在于,其中,所述m層交替結構中的最內層高功率光纖鍍膜層鍍設在所述高透光性材料層上;
4.根據權利要求1所述的增透膜,其特征在于,其中,所述m層交替結構包括:由第一類高功率光纖鍍膜層組成的第一層、由第二類高功率光纖鍍膜層組成的第二層、由所述第一類高功率光纖鍍膜層組成的第三層、由所述第二類高功率光纖鍍膜層組成的第四層、由所述第一類高功率光纖鍍膜層組成的第五層和由所述第二類高功率光纖鍍膜層組成的第六層。
5.根...
【專利技術屬性】
技術研發人員:邵華江,張忠磊,王征,李思佳,
申請(專利權)人:嘉強上海智能科技股份公司,
類型:新型
國別省市:
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