接觸式給標(biāo)裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)是一種接觸式給標(biāo)裝置，所述的給標(biāo)裝置設(shè)置有可在給標(biāo)裝置內(nèi)彈性位移與復(fù)位的給標(biāo)頭，以及可偵測給標(biāo)頭位移量的偵測裝置，且給標(biāo)頭為表面具有復(fù)數(shù)可吸氣以及吹氣的氣孔，而當(dāng)給標(biāo)裝置在使用時(shí)，是先使給標(biāo)頭的氣孔吸氣，而讓標(biāo)簽吸附在給標(biāo)頭的表面，再移動給標(biāo)裝置，并使給標(biāo)裝置的給標(biāo)頭移入射出模具的模穴內(nèi)，且讓標(biāo)簽接觸到模穴底面，而當(dāng)偵測裝置偵測到給標(biāo)頭位移時(shí)，即為標(biāo)簽已確實(shí)接觸到模穴底面后，再將給標(biāo)裝置退出移出射出模具，使標(biāo)簽可穩(wěn)固以及準(zhǔn)確的吸附在模穴內(nèi)指定的位置，而可防止發(fā)生因標(biāo)簽偏移而形成不良品的問題產(chǎn)生。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及一種給標(biāo)裝置，尤指射出機(jī)臺制作成品前，可預(yù)先將標(biāo)簽以接觸方式置在射出模具內(nèi)的給標(biāo)裝置。
技術(shù)介紹
射出成型制程是將熔融樹脂注入成型模穴中，由于其制程特征擁有制品成型容 易、可大量生產(chǎn)、降低生產(chǎn)成本與可適合復(fù)雜成品成型等優(yōu)點(diǎn)，已廣泛應(yīng)用于日常生活用 品、家電、電子資訊用品和汽車零組件，成為現(xiàn)今塑膠加工業(yè)最為廣泛應(yīng)用的成型技術(shù)，近 年來，多制程在產(chǎn)業(yè)界已開始應(yīng)用，其中又以，模內(nèi)層狀成型(In-Mold Lamination)、模內(nèi) 貼合射出成型(In-Mold Decorationlnjection Molding)等技術(shù)廣泛的被使用，由于所述 的貼標(biāo)的動作若以人工完成，顯然有耗用人力以及時(shí)間，以致于貼標(biāo)速度緩慢等不符經(jīng)濟(jì) 效益的缺失，然而，現(xiàn)今模內(nèi)貼合射出成型都為利用機(jī)械手臂作為取放標(biāo)簽的工具，且機(jī)械 手臂在放置標(biāo)簽時(shí)，為將標(biāo)簽移置模具內(nèi)，并使標(biāo)簽與模具內(nèi)的模穴距離一定空間，再讓模 具以靜電的吸引力將標(biāo)簽吸引至模穴內(nèi)，然而此種作法在標(biāo)簽在轉(zhuǎn)移中，常常會發(fā)生位移， 并造成標(biāo)簽無法到達(dá)模穴內(nèi)的預(yù)定位置，使成品射出成型后，發(fā)生標(biāo)簽偏移而形成不良品。 因此，要如何解決上述問題，即為相關(guān)業(yè)者所亟欲改善的課題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本專利技術(shù)的目的在于提供一種接觸式給標(biāo)裝置，避免發(fā)生標(biāo) 簽偏移而形成不良品。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)采用的技術(shù)方案是 —種接觸式給標(biāo)裝置，是一種射出機(jī)臺制作成品前，可預(yù)先將標(biāo)簽以接觸方式置 在射出模具內(nèi)的給標(biāo)裝置，其特征在于所述的給標(biāo)裝置設(shè)置有可在給標(biāo)裝置內(nèi)彈性位移 與復(fù)位的給標(biāo)頭，以及可偵測給標(biāo)頭位移量的偵測裝置，且給標(biāo)頭表面具有復(fù)數(shù)可吸氣以 及吹氣的氣孔，而當(dāng)給標(biāo)裝置在使用時(shí)，是先使給標(biāo)頭的氣孔吸氣，而讓標(biāo)簽吸附在給標(biāo)頭 的表面，再移動給標(biāo)裝置，并使給標(biāo)裝置的給標(biāo)頭移入射出模具的模穴內(nèi)，且讓標(biāo)簽接觸到 模穴底面，使給標(biāo)頭會產(chǎn)生彈性位移，且當(dāng)偵測裝置偵測到給標(biāo)頭位移時(shí)，即為標(biāo)簽已確實(shí) 接觸到模穴底面，此時(shí)再將氣孔改為吹氣，并將給標(biāo)裝置退出移出射出模具，使標(biāo)簽依靜電 或膜穴內(nèi)吸氣孔的吸引而穩(wěn)固以及準(zhǔn)確的吸附在模穴內(nèi)。 與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本專利技術(shù)具有的有益效果是能夠?qū)?biāo)簽以接觸方式置在射出 模具內(nèi)，以讓標(biāo)簽可穩(wěn)固以及準(zhǔn)確的吸附在射出模具內(nèi)，而可防止發(fā)生因標(biāo)簽偏移而形成 不良品的問題產(chǎn)生。附圖說明 圖1是本專利技術(shù)的側(cè)視剖面示意圖； 圖2是本專利技術(shù)給標(biāo)裝置在吸取標(biāo)簽時(shí)的側(cè)視示意 圖3是本專利技術(shù)給標(biāo)裝置在放置標(biāo)簽時(shí)的側(cè)視動作示意圖(一 )； 圖4是本專利技術(shù)給標(biāo)裝置在放置標(biāo)簽時(shí)的側(cè)視動作示意圖(二 )； 圖5是本專利技術(shù)給標(biāo)裝置在放置標(biāo)簽時(shí)的側(cè)視動作示意圖(三)； 圖6是本專利技術(shù)較佳實(shí)施例的側(cè)視剖面示意圖； 圖7是本專利技術(shù)再一較佳實(shí)施例的側(cè)視剖面示意圖； 圖8是本專利技術(shù)再一較佳實(shí)施例在吸取標(biāo)簽時(shí)的側(cè)視動作示意圖(一 )； 圖9是本專利技術(shù)再一較佳實(shí)施例在吸取標(biāo)簽時(shí)的側(cè)視動作示意圖(二 )； 圖10是本專利技術(shù)再一較佳實(shí)施例在吸取標(biāo)簽時(shí)的側(cè)視動作示意圖(三)； 圖11是本專利技術(shù)再一較佳實(shí)施例在吸取標(biāo)簽時(shí)的側(cè)視動作示意圖(四)； 圖12是本專利技術(shù)又一較佳實(shí)施例的側(cè)視剖面示意圖。 附圖標(biāo)記說明l-給標(biāo)裝置；ll-定位板；111_透孔；112_定位滾珠；113_偵測裝 置；12-座體；13-給標(biāo)頭；131-彈性元件；132_氣孔；133_第一給標(biāo)座；134_第二給標(biāo)座； 14-手把；2_標(biāo)簽卡匣；21-卡匣滑軌；22-標(biāo)簽；3_射出模具；31_滑軌；32_模穴；33-吸氣孔。具體實(shí)施例方式請參閱圖1所示，由圖中可清楚看出，本專利技術(shù)的給標(biāo)裝置1設(shè)置有定位板11、座體 12以及給標(biāo)頭13，其中 定位板11表面設(shè)置有復(fù)數(shù)透孔lll，而定位板11周緣設(shè)有復(fù)數(shù)定位滾珠112，且定位板11內(nèi)設(shè)有可偵測給標(biāo)頭13位移的偵測裝置113。 所述的座體12以相同于透孔111的數(shù)量設(shè)置在定位板11表面。 所述的給標(biāo)頭13設(shè)置在每一座體12內(nèi)，且給標(biāo)頭13與座體12之間設(shè)有復(fù)數(shù)彈性元件131 (如彈簧)，而給標(biāo)頭13下方露出于定位板11底面，并在給標(biāo)頭13下方表面設(shè)置有復(fù)數(shù)可吸氣與吹氣的氣孔132。 請參閱圖2至圖5所示，由圖中可清楚看出，當(dāng)本專利技術(shù)在使用時(shí)，是先將給標(biāo)裝置1 移至標(biāo)簽卡匣2，并使定位板11周緣的定位滾珠112，由標(biāo)簽卡匣2內(nèi)側(cè)的卡匣滑軌21滑 入標(biāo)簽卡匣2內(nèi)，而讓給標(biāo)頭13可接觸到標(biāo)簽22，此時(shí)給標(biāo)頭13的氣孔132會開始持續(xù) 吸氣，讓標(biāo)簽22吸附在給標(biāo)頭13的表面，再將給標(biāo)裝置1移出標(biāo)簽卡匣2，并移動至射出 模具3，并使定位板11周緣的定位滾珠112，由射出模具3內(nèi)側(cè)的模具滑軌31滑入射出模 具3內(nèi)，因給標(biāo)裝置1被定位滾珠112與模具滑軌31的限制，而讓給標(biāo)裝置1只可上下位 移無法左右晃動，因此，可確保給標(biāo)頭13可正對于射出模具3內(nèi)的模穴32不會產(chǎn)生偏差， 而當(dāng)給標(biāo)裝置1進(jìn)入射出模具3內(nèi)后，會持續(xù)向下移動，且當(dāng)給標(biāo)頭13底面的標(biāo)簽22接觸 到模穴32表面時(shí)，會使給標(biāo)頭13向上位移而擠壓彈性元件131，讓給標(biāo)頭13產(chǎn)生彈性復(fù)位 能力，且當(dāng)偵測裝置113偵測到給標(biāo)頭13位移時(shí)，即為標(biāo)簽22已確實(shí)接觸到模穴32底面 到達(dá)定位，此時(shí)，給標(biāo)裝置1為會停止向下移動，并將給標(biāo)頭13的氣孔132氣孔改為吹氣， 而當(dāng)氣孔132氣孔改為吹氣后，給標(biāo)裝置1會向上移動而退出射出模具3，而標(biāo)簽22會依 靜電而穩(wěn)固而準(zhǔn)確的吸附在模穴32內(nèi)，即可完成給標(biāo)裝置1的給標(biāo)動作，進(jìn)而讓射出模具 3可開始生產(chǎn)成品，并讓標(biāo)簽22準(zhǔn)確的貼合在產(chǎn)品上。 請參閱圖6所示，由圖中可清楚看出，本專利技術(shù)的給標(biāo)裝置1可設(shè)置把手14，讓使用者可握持把手14，來移動給標(biāo)裝置1，或?qū)⒔o標(biāo)裝置1連接于機(jī)械手臂(圖中未示出)，使給 標(biāo)裝置l可自動化給標(biāo)。 請參閱圖7所示，由圖中可清楚看出，所述的給標(biāo)頭13設(shè)置在每一座體12內(nèi)，且 給標(biāo)頭13設(shè)置有第一給標(biāo)座133，而第一給標(biāo)座133內(nèi)設(shè)置有第二給標(biāo)座134，并在第一給 標(biāo)座133與第二給標(biāo)座134之間設(shè)有復(fù)數(shù)彈性元件131，且第二給標(biāo)座134的底面略低于第 一給標(biāo)座133，而第一給標(biāo)座133與座體12之間設(shè)有復(fù)數(shù)彈性元件131，且第一給標(biāo)座133 下方露出于定位板11底面，并分別在第一給標(biāo)座133與第二給標(biāo)座134下方表面設(shè)置有復(fù) 數(shù)可吸氣與吹氣的氣孔132。 請參閱圖8至圖11所示，由圖中可清楚看出，當(dāng)給標(biāo)裝置1在吸取標(biāo)簽22時(shí)，先 使給標(biāo)裝置1下降，讓給標(biāo)頭13所設(shè)置的第二給標(biāo)座134先接觸到標(biāo)簽22表面，而第一給 標(biāo)座133會在第二給標(biāo)座134接觸到標(biāo)簽22表面后，再接觸到標(biāo)簽22表面，此時(shí)，第一給 標(biāo)座133與第二給標(biāo)座134的氣孔132會開始持續(xù)吸氣，讓標(biāo)簽22吸附在給標(biāo)頭13的表 面，而當(dāng)給標(biāo)裝置1上升時(shí)，第一給標(biāo)座133為會較第二給標(biāo)座134先升起，而讓標(biāo)簽22邊 緣先離開其下方標(biāo)簽22的表面后，第二給標(biāo)座134再升起，以將整張標(biāo)簽22吸取至給標(biāo)頭 13。 憑借上述結(jié)構(gòu)，即可有效防止因標(biāo)簽22表面過大，而造成兩個(gè)相鄰標(biāo)簽22之間的 真空吸力過大所造成相連的現(xiàn)象發(fā)生，以可準(zhǔn)確的取出單張標(biāo)簽22。 再者，標(biāo)簽22側(cè)方可設(shè)置離子吹氣裝置(圖中未示出)，而當(dāng)?shù)谝唤o標(biāo)座133讓標(biāo) 本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種接觸式給標(biāo)裝置，是一種射出機(jī)臺制作成品前，可預(yù)先將標(biāo)簽以接觸方式置在射出模具內(nèi)的給標(biāo)裝置，其特征在于：所述的給標(biāo)裝置設(shè)置有可在給標(biāo)裝置內(nèi)彈性位移與復(fù)位的給標(biāo)頭，以及可偵測給標(biāo)頭位移量的偵測裝置，且給標(biāo)頭表面具有復(fù)數(shù)可吸氣以及吹氣的氣孔，而當(dāng)給標(biāo)裝置在使用時(shí)，是先使給標(biāo)頭的氣孔吸氣，而讓標(biāo)簽吸附在給標(biāo)頭的表面，再移動給標(biāo)裝置，并使給標(biāo)裝置的給標(biāo)頭移入射出模具的模穴內(nèi)，且讓標(biāo)簽接觸到模穴底面，使給標(biāo)頭會產(chǎn)生彈性位移，且當(dāng)偵測裝置偵測到給標(biāo)頭位移時(shí)，即為標(biāo)簽已確實(shí)接觸到模穴底面，此時(shí)再將氣孔改為吹氣，并將給標(biāo)裝置退出移出射出模具，使標(biāo)簽依靜電或膜穴內(nèi)吸氣孔的吸引而穩(wěn)固以及準(zhǔn)確的吸附在模穴內(nèi)。

【技術(shù)特征摘要】
一種接觸式給標(biāo)裝置，是一種射出機(jī)臺制作成品前，可預(yù)先將標(biāo)簽以接觸方式置在射出模具內(nèi)的給標(biāo)裝置，其特征在于所述的給標(biāo)裝置設(shè)置有可在給標(biāo)裝置內(nèi)彈性位移與復(fù)位的給標(biāo)頭，以及可偵測給標(biāo)頭位移量的偵測裝置，且給標(biāo)頭表面具有復(fù)數(shù)可吸氣以及吹氣的氣孔，而當(dāng)給標(biāo)裝置在使用時(shí)，是先使給標(biāo)頭的氣孔吸氣，而讓標(biāo)簽吸附在給標(biāo)頭的表面，再移動給標(biāo)裝置，并使給標(biāo)裝置的給標(biāo)頭移入射出模具的模穴內(nèi)，且讓標(biāo)簽接觸到模穴底面，使給標(biāo)頭會產(chǎn)生彈性位移，且當(dāng)偵測裝置偵測到給標(biāo)頭位移時(shí)，即為標(biāo)簽已確實(shí)接觸到模穴底面，此時(shí)再將氣孔改為吹氣，并將給標(biāo)裝置退出移出射出模具，使標(biāo)簽依靜電或膜穴內(nèi)吸氣孔的吸引而穩(wěn)固以及準(zhǔn)確的吸附在模穴內(nèi)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的接觸式給標(biāo)裝置，其特征在于所述的給標(biāo)裝置設(shè)置有定位板，而定位板表面具有一個(gè)或一個(gè)以上的透孔，且定位板表面設(shè)置有與透孔數(shù)量相同的座體，并在座體內(nèi)設(shè)置有給標(biāo)頭，并在座體與給標(biāo)頭之間設(shè)置...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：曾國華，
申請(專利權(quán))人：曾國華，
類型：發(fā)明
國別省市：71[中國|臺灣]