【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及晶硅制造，尤其涉及一種晶硅絨面制備裝置及制備方法。
技術介紹
1、目前用于制造太陽能光伏板的晶硅的制造工藝中，需要對晶硅的進行制絨，制絨工藝中，將晶硅浸入制絨劑，制絨劑對晶硅表面形成腐蝕，并形成凹凸不平的絨面，在使用時，陽光照射晶硅絨面，光線在絨面產生多次反射，以獲得更高的光能利用率。由于晶硅在制絨劑中浸泡時其絨面的凹凸點成型存在不確定性及無規律形，因此絨面的成型質量可控性較低，導致產品的一致性較差，部分產品成型質量差引起光能吸收率不足的問題。
技術實現思路
1、本專利技術的目的在于克服上述現有技術的不足，提供一種晶硅絨面制備裝置及制備方法，晶硅絨面成型質量穩定，晶硅光能吸收率高。
2、本專利技術公開了一種晶硅絨面制備裝置，包括制絨箱、晶硅板，晶硅板位于制絨箱內，制絨箱頂部開口，制絨箱內底面安裝有導流板，晶硅板位于導流板上方，晶硅板下端面設有絨面，絨面為加工面，絨面貼近導流板上端面，且晶硅板下端面與導流板上端面之間形成有供制絨劑流動的流通通道，制絨箱包括位于導流板兩側的壁體一、壁體二，流通通道內的制絨劑從晶硅板靠近壁體一一側流向晶硅板靠近壁體二一側，導流板上端面設有凸起二，凸起二沿y方向間隔分布且沿x方向多層設置，相鄰兩層凸起二之間沿y方向錯開分布。
3、進一步的，凸起二設有斜邊部，斜邊部沿流通通道內的制絨劑流動方向逐漸向靠近晶硅板下端面方向傾斜。
4、進一步的，斜邊部設有凹體，凹體軸向沿斜邊部傾斜方向設置。
5、進一步
6、進一步的，還包括夾具體，夾具體包括位于底部的延板二，延板二底部設有槽體一，晶硅板位于槽體一內，延板二安裝有彈力組件，彈力組件位于晶硅板左右兩側，彈力組件包括頂塊，位于晶硅板左右兩側的頂塊分別抵接晶硅板左右兩端以形成夾持。
7、進一步的，延板二設有沉孔一，沉孔一位于槽體一左右兩側，頂塊插入沉沉孔一且能夠沿沉孔一內壁左右移動，頂塊遠離晶硅板一側抵接有彈簧二，彈簧二遠離頂塊一端抵接沉孔一內壁，沉孔一靠近晶硅板一側為開口處，頂塊能夠至少部分伸出沉孔一的開口處。
8、進一步的，制絨箱還包括相對設置的壁體三，延板二沿兩壁體三連線方向長度與兩壁體三之間的間距相配。
9、進一步的，夾具體還包括位于頂部的延板一，延板一能夠掛在壁體一上端與壁體二上端，延板二伸入制絨箱。
10、本專利技術還公開了一種晶硅絨面制備方法，使用晶硅絨面制備裝置對晶硅板進行絨面制備，包括如下步驟：
11、①晶硅板向下伸入制絨箱內，晶硅板的待成型的絨面朝下并貼近導流板上端面；
12、②制絨劑沿流通通道從左到右流動，在流動過程中對晶硅板下端面形成侵蝕作用，使得晶硅板下端面形成絨面。
13、本專利技術的有益效果：
14、1、通過流動的制絨劑對絨面進行侵蝕，提高了制絨劑對絨面侵蝕的效率，絨面成型的一致性也得到了提高。
15、2、凸起二的斜邊部逐漸向上傾斜，以使得經過斜邊部的制絨劑能夠沿斜邊部的傾斜面向上流動，并對晶硅板的絨面形成沖擊，繼而使得絨面被沖擊區域侵蝕程度更大，形成分布在靠上位置的凸起一，受沖擊力小的區域形成底部位置向下延伸至更低位置的凸起一，使得凸起一形成高低分布，繼而使得射入r1區域的光線被r1區域內的凸起一反射并射到r2區域的凸起一上的概率大大增加，提高了絨面對太陽光的吸收率。
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1.一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，包括制絨箱(1)、晶硅板(4)，所述晶硅板(4)位于所述制絨箱(1)內，所述制絨箱(1)頂部開口，所述制絨箱(1)內底面安裝有導流板(5)，所述晶硅板(4)位于所述導流板(5)上方，所述晶硅板(4)下端面設有絨面(41)，所述絨面(41)為加工面，所述絨面(41)貼近所述導流板(5)上端面，且所述晶硅板(4)下端面與所述導流板(5)上端面之間形成有供制絨劑流動的流通通道(9)，所述制絨箱(1)包括位于所述導流板(5)兩側的壁體一(11)、壁體二(12)，所述流通通道(9)內的制絨劑從所述晶硅板(4)靠近所述壁體一(11)一側流向所述晶硅板(4)靠近所述壁體二(12)一側，所述導流板(5)上端面設有凸起二(51)，所述凸起二(51)沿Y方向間隔分布且沿X方向多層設置，相鄰兩層所述凸起二(51)之間沿Y方向錯開分布。
2.根據權利要求1所述的一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，所述凸起二(51)設有斜邊部(511)，所述斜邊部(511)沿所述流通通道(9)內的制絨劑流動方向逐漸向靠近所述晶硅板(4)下端面方向傾斜。
3.根據
4.根據權利要求1所述的一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，所述壁體一(11)設有流道一(111)，所述流道一(111)為進液口，所述壁體二(12)設有流道二(121)，所述流道二(121)為出液口，所述流道二(121)與所述導流板(5)上端面的右端連通。
5.根據權利要求1所述的一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，還包括夾具體(3)，所述夾具體(3)包括位于底部的延板二(32)，所述延板二(32)底部設有槽體一(321)，所述晶硅板(4)位于所述槽體一(321)內，所述延板二(32)安裝有彈力組件(7)，所述彈力組件(7)位于所述晶硅板(4)左右兩側，所述彈力組件(7)包括頂塊(73)，位于所述晶硅板(4)左右兩側的所述頂塊(73)分別抵接所述晶硅板(4)左右兩端以形成夾持。
6.根據權利要求4所述的一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，所述延板二(32)設有沉孔一(322)，所述沉孔一(322)位于所述槽體一(321)左右兩側，所述頂塊(73)插入所述沉孔一(322)且能夠沿所述沉孔一(322)內壁左右移動，所述頂塊(73)遠離所述晶硅板(4)一側抵接有彈簧二(72)，所述彈簧二(72)遠離所述頂塊(73)一端抵接所述沉孔一(322)內壁，所述沉孔一(322)靠近所述晶硅板(4)一側為開口處，所述頂塊(73)能夠至少部分伸出所述沉孔一(322)的開口處。
7.根據權利要求4所述的一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，所述制絨箱(1)還包括相對設置的壁體三(14)，所述延板二(32)沿兩所述壁體三(14)連線方向長度與兩所述壁體三(14)之間的間距相配。
8.根據權利要求5所述的一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，所述夾具體(3)還包括位于頂部的延板一(31)，所述延板一(31)能夠掛在所述壁體一(11)上端與壁體二(12)上端，所述延板二(32)伸入所述制絨箱(1)。
9.一種晶硅絨面制備方法，使用權利要求1-8任意一項所述的一種晶硅絨面制備裝置對所述晶硅板(4)進行絨面制備，其特征在于，包括如下步驟：
...【技術特征摘要】
1.一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，包括制絨箱(1)、晶硅板(4)，所述晶硅板(4)位于所述制絨箱(1)內，所述制絨箱(1)頂部開口，所述制絨箱(1)內底面安裝有導流板(5)，所述晶硅板(4)位于所述導流板(5)上方，所述晶硅板(4)下端面設有絨面(41)，所述絨面(41)為加工面，所述絨面(41)貼近所述導流板(5)上端面，且所述晶硅板(4)下端面與所述導流板(5)上端面之間形成有供制絨劑流動的流通通道(9)，所述制絨箱(1)包括位于所述導流板(5)兩側的壁體一(11)、壁體二(12)，所述流通通道(9)內的制絨劑從所述晶硅板(4)靠近所述壁體一(11)一側流向所述晶硅板(4)靠近所述壁體二(12)一側，所述導流板(5)上端面設有凸起二(51)，所述凸起二(51)沿y方向間隔分布且沿x方向多層設置，相鄰兩層所述凸起二(51)之間沿y方向錯開分布。
2.根據權利要求1所述的一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，所述凸起二(51)設有斜邊部(511)，所述斜邊部(511)沿所述流通通道(9)內的制絨劑流動方向逐漸向靠近所述晶硅板(4)下端面方向傾斜。
3.根據權利要求2所述的一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，所述斜邊部(511)設有凹體(512)，所述凹體(512)軸向沿所述斜邊部(511)傾斜方向設置。
4.根據權利要求1所述的一種晶硅絨面制備裝置，其特征在于，所述壁體一(11)設有流道一(111)，所述流道一(111)為進液口，所述壁體二(12)設有流道二(121)，所述流道二(121)為出液口，所述流道二(121)與所述導流板(5)上端面的右端連通。
5.根據權利要求1所述的一種晶硅絨面制備裝置，...
【專利技術屬性】
技術研發人員：王慶錢，周煒，華松，雷杰，
申請(專利權)人：江西鈦創新能源科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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