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    一種光學復合膜層制造技術

    技術編號:42673286 閱讀:22 留言:0更新日期:2024-09-10 12:26
    本技術公開了一種光學復合膜層,包括:依次疊設于基底的第一表面上的第一減反膜層、保護膜層和AF膜層;所述第一減反膜層包括第一低折射率膜層與第一高折射率膜層的交替層疊層,所述保護膜層包括第一非晶碳膜層。本技術能在滿足減反,保證耐磨性的同時,無需犧牲光學性能,就能實現使光學復合膜層整體呈現中性色的良好視覺效果。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術涉及光學涂層,尤其涉及一種光學復合膜層


    技術介紹

    1、ar膜(增透或減反膜)是一種表面光學鍍層,它通過減少光的反射從而增加光的透過率。它可以通過減少系統中的散射光來提高對比度,例如望遠鏡。很多ar涂層都包括折射率不同的透明的薄膜結構。薄膜的厚度決定了其作用的反射光波長。ar的原理在于當光線在ar膜上產生二次反射時,會和原反射光發生干涉,從而減弱反射光,而根據能量守恒,光的能量不變,因此當反射光減少時,透射光便增多。

    2、ar膜應用領域廣泛,如太陽能電池組件、光熱、建筑、汽車玻璃等領域,一般涉及到光學就會涉及到ar膜。如今,和我們生活息息相關的顯示屏面板上,通過ar膜也可以提高顯示面板的透過率,降低其反射率。但是,ar膜通常使用的材料耐磨性能較差,經常會遇到外界的摩擦及剮蹭,從而表面出現劃痕,影響使用效果。所以迫切需要增加其耐久性,延長產品的使用壽命。

    3、現有的超耐磨ar膜,一般是使用高硬度的sin等材料去增加膜層硬度,但是由于受材料特性限制,其耐磨性并未得到很大提升。同時,高硬度的ar膜層材料本身帶來的瓶頸,也無法實現非常好的耐磨性。并且,在手機屏幕或玻璃上鍍ar膜時,為了達到較好的耐磨性能,其某一層通常需要達到一定厚度,對膜層厚度的控制具有局限性,因而會犧牲其色中性的光學性能(所謂的色中性,是指顏色不屬于冷色調或暖色調,是相對獨立的顏色),這樣即使膜層顏色透明,也常發生顏色偏藍或偏綠甚至發彩的問題,從而影響到視覺效果。

    4、此外,在一些對反射率及透過率要求較低的特殊應用上,如車載屏幕等,也同樣需要對其功能面進行保護,且同樣存在耐磨需求。而如果采用常規ar膜進行保護,既非必要,同時因其無法實現較好的耐磨性,也難以起到實際的保護作用。


    技術實現思路

    1、本技術的目的在于克服現有技術存在的上述缺陷,提供一種光學復合膜層。

    2、為實現上述目的,本技術的技術方案如下:

    3、本技術提供一種光學復合膜層,包括:

    4、依次疊設于基底的第一表面上的第一減反膜層、保護膜層和af膜層;

    5、所述第一減反膜層包括第一低折射率膜層與第一高折射率膜層的交替層疊層,所述保護膜層包括第一非晶碳膜層。

    6、進一步地,所述第一低折射率膜層的折射率小于所述第一高折射率膜層的折射率,所述第一減反膜層中最接近所述基底的第一底層膜層為所述第一低折射率膜層,所述第一減反膜層中最遠離所述基底的第一頂層膜層為所述第一低折射率膜層或所述第一高折射率膜層。

    7、進一步地,所述保護膜層與所述第一減反膜層之間還設有第一過渡保護膜層,所述第一過渡保護膜層包括第二非晶碳膜層。

    8、進一步地,所述保護膜層具有所述第一非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素的第一膜層結構,所述第一過渡保護膜層具有所述第二非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素和第一化合物的第二膜層結構,且所述第一化合物在所述第一過渡保護膜層和所述第一減反膜層的界面處與所述第一頂層膜層的表面相接觸,所述第一化合物為所述第一頂層膜層材料。

    9、進一步地,所述第一減反膜層具有所述第一頂層膜層中分布有外加的所述第二非晶碳膜層材料的第三膜層結構,且所述第一頂層膜層中分布的所述第二非晶碳膜層材料在所述第一減反膜層和所述第一過渡保護膜層的界面處與所述第二非晶碳膜層的表面相接觸。

    10、進一步地,所述保護膜層與所述af膜層之間還設有第二過渡保護膜層,所述第二過渡保護膜層包括第三非晶碳膜層。

    11、進一步地,所述第二過渡保護膜層具有所述第三非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素的第四膜層結構,或所述第二過渡保護膜層具有所述第三非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素和第二化合物的第四膜層結構,且所述第二化合物在所述第二過渡保護膜層和所述af膜層的界面處與所述af膜層的表面相接觸。

    12、進一步地,所述第一非晶碳膜層、所述第二非晶碳膜層和所述第三非晶碳膜層包括dlc膜層,或者,所述第一非晶碳膜層、所述第二非晶碳膜層和所述第三非晶碳膜層包括ta-c膜層;所述第一非晶碳膜層中外加的離化氣體元素、所述第二非晶碳膜層中外加的離化氣體元素和所述第三非晶碳膜層中外加的離化氣體元素包括離化的氫元素。

    13、進一步地,還包括:設于所述基底背對所述第一表面的第二表面上的第二減反膜層,所述第二減反膜層包括第二低折射率膜層與第二高折射率膜層的交替層疊層,所述第二低折射率膜層的折射率小于所述第二高折射率膜層的折射率,所述第二減反膜層中最接近所述基底的第二底層膜層為所述第二低折射率膜層,所述第二減反膜層中最遠離所述基底的第二頂層膜層為所述第二低折射率膜層。

    14、進一步地,所述光學復合膜層的另一種實現方式為,不設有所述第一減反膜層和所述第二減反膜層中的至少一個。

    15、由上述技術方案可以看出,本技術通過在基底上依次形成疊設的第一減反膜層、保護膜層和af膜層,使第一減反膜層包括第一低折射率膜層與第一高折射率膜層的交替層疊層,保護膜層包括第一非晶碳膜層,可利用非晶碳材料(例如dlc或ta-c)本身所具有的較高硬度和良好耐磨性,對第一減反膜層進行保護,提高光學復合膜層的整體耐磨性。進一步地,通過使保護膜層具有第一非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素(例如氫)的第一膜層結構,不僅可在減小膜層厚度和提高硬度的同時,使得光學復合膜層整體達到超高的耐磨性效果,并且還具有良好的光學性能(提高透光性,減少反射,保持中性色);通過在第一減反膜層與保護膜層之間進一步形成包括第二非晶碳膜層的第一過渡保護膜層,并在第二非晶碳膜層中添加離化氣體元素和第一化合物(第一頂層膜層)材料,和在第一減反膜層的第一頂層膜層中添加第二非晶碳膜層材料,以及在保護膜層與af膜層之間形成包括第三非晶碳膜層的第二過渡保護膜層,并在第三非晶碳膜層中添加離化氣體元素(和第二化合物)材料,用于配合保護膜層進行整個光學復合膜層的減反,從而能達到很好的減反效果,并具有極高的硬度、耐磨度和良好的膜層間結合度,可以進一步優化整個光學復合膜層的光學及機械性能,從而有效克服了傳統做法下的ar膜會影響和改變外觀顏色(發藍、發綠甚至發彩)的缺點,能在保證耐磨性的同時,無需犧牲光學性能,就能實現使光學復合膜層整體呈現中性色的良好視覺效果。本技術的光學復合膜層可以應用到包括且不限于金屬,塑料,樹脂以及各類型玻璃基底上,從而達到需求的減反作用。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種光學復合膜層,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的光學復合膜層,其特征在于,所述第一低折射率膜層的折射率小于所述第一高折射率膜層的折射率,所述第一減反膜層中最接近所述基底的第一底層膜層為所述第一低折射率膜層,所述第一減反膜層中最遠離所述基底的第一頂層膜層為所述第一低折射率膜層或所述第一高折射率膜層。

    3.根據權利要求2所述的光學復合膜層,其特征在于,所述保護膜層與所述第一減反膜層之間還設有第一過渡保護膜層,所述第一過渡保護膜層包括第二非晶碳膜層。

    4.根據權利要求3所述的光學復合膜層,其特征在于,所述保護膜層具有所述第一非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素的第一膜層結構,所述第一過渡保護膜層具有所述第二非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素和第一化合物的第二膜層結構,且所述第一化合物在所述第一過渡保護膜層和所述第一減反膜層的界面處與所述第一頂層膜層的表面相接觸,所述第一化合物為所述第一頂層膜層材料。

    5.根據權利要求4所述的光學復合膜層,其特征在于,所述第一減反膜層具有所述第一頂層膜層中分布有外加的所述第二非晶碳膜層材料的第三膜層結構,且所述第一頂層膜層中分布的所述第二非晶碳膜層材料在所述第一減反膜層和所述第一過渡保護膜層的界面處與所述第二非晶碳膜層的表面相接觸。

    6.根據權利要求5所述的光學復合膜層,其特征在于,所述保護膜層與所述AF膜層之間還設有第二過渡保護膜層,所述第二過渡保護膜層包括第三非晶碳膜層。

    7.根據權利要求6所述的光學復合膜層,其特征在于,所述第二過渡保護膜層具有所述第三非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素的第四膜層結構,或所述第二過渡保護膜層具有所述第三非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素和第二化合物的第四膜層結構,且所述第二化合物在所述第二過渡保護膜層和所述AF膜層的界面處與所述AF膜層的表面相接觸。

    8.根據權利要求7所述的光學復合膜層,其特征在于,所述第一非晶碳膜層、所述第二非晶碳膜層和所述第三非晶碳膜層包括DLC膜層,或者,所述第一非晶碳膜層、所述第二非晶碳膜層和所述第三非晶碳膜層包括TA-C膜層;所述第一非晶碳膜層中外加的離化氣體元素、所述第二非晶碳膜層中外加的離化氣體元素和所述第三非晶碳膜層中外加的離化氣體元素包括離化的氫元素。

    9.根據權利要求1所述的光學復合膜層,其特征在于,還包括:設于所述基底背對所述第一表面的第二表面上的第二減反膜層,所述第二減反膜層包括第二低折射率膜層與第二高折射率膜層的交替層疊層,所述第二低折射率膜層的折射率小于所述第二高折射率膜層的折射率,所述第二減反膜層中最接近所述基底的第二底層膜層為所述第二低折射率膜層,所述第二減反膜層中最遠離所述基底的第二頂層膜層為所述第二低折射率膜層。

    10.根據權利要求9所述的光學復合膜層,其特征在于,所述光學復合膜層的另一種實現方式為,不設有所述第一減反膜層和所述第二減反膜層中的至少一個。

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    【技術特征摘要】

    1.一種光學復合膜層,其特征在于,包括:

    2.根據權利要求1所述的光學復合膜層,其特征在于,所述第一低折射率膜層的折射率小于所述第一高折射率膜層的折射率,所述第一減反膜層中最接近所述基底的第一底層膜層為所述第一低折射率膜層,所述第一減反膜層中最遠離所述基底的第一頂層膜層為所述第一低折射率膜層或所述第一高折射率膜層。

    3.根據權利要求2所述的光學復合膜層,其特征在于,所述保護膜層與所述第一減反膜層之間還設有第一過渡保護膜層,所述第一過渡保護膜層包括第二非晶碳膜層。

    4.根據權利要求3所述的光學復合膜層,其特征在于,所述保護膜層具有所述第一非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素的第一膜層結構,所述第一過渡保護膜層具有所述第二非晶碳膜層中分布有外加的離化氣體元素和第一化合物的第二膜層結構,且所述第一化合物在所述第一過渡保護膜層和所述第一減反膜層的界面處與所述第一頂層膜層的表面相接觸,所述第一化合物為所述第一頂層膜層材料。

    5.根據權利要求4所述的光學復合膜層,其特征在于,所述第一減反膜層具有所述第一頂層膜層中分布有外加的所述第二非晶碳膜層材料的第三膜層結構,且所述第一頂層膜層中分布的所述第二非晶碳膜層材料在所述第一減反膜層和所述第一過渡保護膜層的界面處與所述第二非晶碳膜層的表面相接觸。

    6.根據權利要求5所述的光學復合膜層,其特征在于,所述保護膜層與所述af膜層之間還設有第二過渡保護膜層,所述第二過渡...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:唐智陳豪徐瑤
    申請(專利權)人:納峰真空鍍膜上海有限公司
    類型:新型
    國別省市:

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