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    一種氣路噴嘴單元及其制成的氣體吹掃裝置、裝載埠制造方法及圖紙

    技術(shù)編號:42687749 閱讀:24 留言:0更新日期:2024-09-10 12:35
    本發(fā)明專利技術(shù)提供了一種氣路噴嘴單元及其制成的氣體吹掃裝置、裝載埠,其中該氣路噴嘴單元包括:噴嘴件、支架組件,所述噴嘴件上部設(shè)有軸肩、軸頸、底部設(shè)有承接部,所述支架組件成對設(shè)置于噴嘴件兩側(cè),并與噴嘴件承接部彈性連接,其中各所述支架組件包括:支架、轉(zhuǎn)軸、扭簧,所述扭簧一端延伸有固定臂,另一端延伸有施力臂,所述支架呈肩甲狀設(shè)置于噴嘴件兩側(cè),并與其軸肩間隔,以在兩者之間相隔出第一容差調(diào)節(jié)空間,所述扭簧經(jīng)轉(zhuǎn)軸與支架連接,以使其固定臂與支架內(nèi)肩面彈性相抵、施力臂分別彈性承托噴嘴件的承接部,迫使噴嘴件彈性懸浮于支架之間。籍此以在實現(xiàn)結(jié)構(gòu)薄型化設(shè)計的同時,具備容差調(diào)節(jié)及主動壓緊功能。

    【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及氣體傳輸?shù)膶蛹夹g(shù),尤其涉及半導體制造工藝中,使用在類似裝載埠(load?port)中的氣體吹掃設(shè)備上的氣路噴嘴單元。


    技術(shù)介紹

    1、在半導體的制造工藝中,為了保證良品率及品質(zhì),晶圓的處理必須處于無塵環(huán)境下進行。隨著技術(shù)的革新,近年來行業(yè)中逐步開始采用foup(front-opening?unified?pod)來作為晶圓轉(zhuǎn)運過程中的高清潔存儲容器,以此保持比外部大氣更高的清潔度。

    2、而對應(yīng)foup進行晶圓的存取,現(xiàn)有技術(shù)還提供了一種裝載埠(load?port)以配套將半導體晶圓裝載到foup中,或從foup中卸載晶圓,并在此過程中,保持清潔環(huán)境的同時,將儲存在foup中的半導體晶圓運送到下一個工序。

    3、此外裝載埠還被作為對foup進行清潔的重要的裝置來使用,由于半導體制造裝置內(nèi),雖維持在適合晶圓的處理或者加工的預定的氣體氣氛,?但foup向半導體制造裝置送出晶圓時,兩者內(nèi)部空間還是會相互連通。因此當foup內(nèi)環(huán)境的清潔度較低時,將會對半導體制造裝置內(nèi)的氣體氣氛產(chǎn)生不良影響。

    4、為此現(xiàn)有裝載埠中,通常會配備氣體吹掃裝置,并通過其氣路噴嘴,從foup底部的氣路接口,向其內(nèi)部注入預定的惰性氣體,從而將foup內(nèi)置換為預定的氣體氣氛,此外該過程還能防止晶圓在工藝過程中的氧化,使foup內(nèi)維持較低的氧濃度。

    5、然而現(xiàn)有氣體吹掃裝置的氣路噴嘴,或多或少存在一些設(shè)計缺點,如專利公開號tw201350220a公開了一種凈化噴嘴單元的結(jié)構(gòu)方案,其結(jié)構(gòu)使用外部氣源驅(qū)動噴嘴升降,以在接合面提供密封所需的壓緊力,因此無主動壓緊力維持密封性,并且該結(jié)構(gòu)需要增加額外的氣路以及密封圈,因此結(jié)構(gòu)較為復雜,整體會占用較多的豎向空間,且無容差調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu),當foup接口歪斜時,噴嘴無法自適應(yīng)的調(diào)節(jié)并貼合。


    技術(shù)實現(xiàn)思路

    1、為此,本專利技術(shù)的主要目的在于提供一種氣路噴嘴單元及其制成的氣體吹掃裝置、裝載埠,以在實現(xiàn)結(jié)構(gòu)薄型化設(shè)計的同時,具備容差調(diào)節(jié)及主動壓緊功能。

    2、為了實現(xiàn)上述目的,根據(jù)本專利技術(shù)的一個方面,提供了一種氣路噴嘴單元,其包括:噴嘴件、支架組件,所述噴嘴件上部設(shè)有軸肩、軸頸、底部設(shè)有承接部,所述支架組件成對設(shè)置于噴嘴件兩側(cè),并與噴嘴件承接部彈性連接,其中各所述支架組件包括:支架、轉(zhuǎn)軸、扭簧,所述扭簧一端延伸有固定臂,另一端延伸有施力臂,所述支架呈肩甲狀設(shè)置于噴嘴件兩側(cè),并與其軸肩間隔,以在兩者之間相隔出第一容差調(diào)節(jié)空間,所述扭簧經(jīng)轉(zhuǎn)軸與支架連接,以使其固定臂與支架內(nèi)肩面彈性相抵、施力臂分別彈性承托噴嘴件的承接部,迫使噴嘴件彈性懸浮于支架之間。

    3、在可能的優(yōu)選實施方式中,所述氣路噴嘴單元,其中至少一側(cè)支架組件扭簧的施力臂自扭簧的簧圈兩側(cè)分別延伸而出,形成一對非接觸式施力臂,同側(cè)非接觸式施力臂分別從兩側(cè)承托噴嘴件的承接部,以形成對承接部的至少三點位彈性承托。

    4、在可能的優(yōu)選實施方式中,所述承接部呈條槽狀分設(shè)于噴嘴件底部兩側(cè)。

    5、在可能的優(yōu)選實施方式中,所述扭簧的簧圈由固定臂兩端分別延伸而出,相互分立,所述施力臂自各簧圈一端延伸而出,同側(cè)施力臂間相互間隔,分別從兩側(cè)承托噴嘴件承接部,其中同側(cè)簧圈采用共用同一轉(zhuǎn)軸、或分別獨立配備轉(zhuǎn)軸中的任一方式與支架連接,使同側(cè)簧圈同軸布置。

    6、在可能的優(yōu)選實施方式中,所述噴嘴件底部延伸有阻隔壁,以分隔兩側(cè)承接部,阻擋施力臂侵入對側(cè)。

    7、在可能的優(yōu)選實施方式中,所述噴嘴件內(nèi)設(shè)有l(wèi)形氣路,所述氣路的入氣口設(shè)在噴嘴件側(cè)面位于阻隔壁上、出氣口設(shè)在噴嘴件頂部。

    8、在可能的優(yōu)選實施方式中,所述氣路噴嘴單元還包括:密封圈,其中所述噴嘴件頂部出氣口處設(shè)有環(huán)形壁,所述密封圈套在環(huán)形壁外,且所述密封圈高于環(huán)形壁。

    9、在可能的優(yōu)選實施方式中,所述氣路噴嘴單元還包括:開口擋圈,其中所述轉(zhuǎn)軸兩端設(shè)有環(huán)形槽,以供與開口擋圈配接,使轉(zhuǎn)軸與支架呈快卸式連接。

    10、為了實現(xiàn)上述目的,根據(jù)本專利技術(shù)的另一方面,還提供了一種氣體吹掃裝置,包括:平臺基座,供氣單元,其中還包括:如上示例中任一所述的氣路噴嘴單元,其中所述平臺基座上,對應(yīng)晶圓裝載容器的內(nèi)部給氣口位置處,分別設(shè)有噴嘴孔,各氣路噴嘴單元的支架組件連接在平臺基座背面,以承托噴嘴件使其軸肩與噴嘴孔處的平臺基座面相抵限位,令其軸頸于噴嘴孔處受壓彈性伸縮,其中所述噴嘴孔尺寸大于軸頸,以在兩者之間相隔出第二容差調(diào)節(jié)空間,所述供氣單元與噴嘴件連通。

    11、為了實現(xiàn)上述目的,根據(jù)本專利技術(shù)的另一方面,還提供了一種裝載埠,用于接收被輸送的吹掃對象晶圓裝載容器,并與晶圓裝載容器交互進行晶圓裝卸,其包括:如上所述的氣體吹掃裝置,以從晶圓裝載容器底部的氣路接口,向其內(nèi)部注入預定的惰性氣體,將晶圓裝載容器內(nèi)置換為預定的氣體氣氛。

    12、通過本專利技術(shù)提供的該氣路噴嘴單元及其制成的氣體吹掃裝置、裝載埠,巧妙的設(shè)計了支架組件與噴嘴件之間的彈性懸掛結(jié)構(gòu),從而無需過多依賴平臺基座的豎向空間便能具備主動壓緊能力及多自由度容差調(diào)節(jié)功能,因此使得噴嘴件能夠支持扁平化設(shè)計,以減少豎向空間的占用要求,此外,由于支架組件采用類似肩甲結(jié)構(gòu)的設(shè)計,以在保持與噴嘴件兩側(cè)具備一定容差調(diào)節(jié)空間的同時,對其彈性承接,從而使得噴嘴件能具有一定彈性下沉空間,同時配合平臺基座噴嘴孔處的容差調(diào)節(jié)空間,從而使得該噴嘴件在具備主動壓緊能力,以維持密封性的同時,可實現(xiàn)多自由度、可自動回正的容差調(diào)節(jié)功能,使得噴嘴件能夠與foup氣路接口在各方向上更好的貼合,從而提升氣密性。

    本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護點】

    1.一種氣路噴嘴單元,其特征在于包括:噴嘴件、支架組件,所述噴嘴件上部設(shè)有軸肩、軸頸、底部設(shè)有承接部,所述支架組件成對設(shè)置于噴嘴件兩側(cè),并與噴嘴件承接部彈性連接,其中各所述支架組件包括:支架、轉(zhuǎn)軸、扭簧,所述扭簧一端延伸有固定臂,另一端延伸有施力臂,所述支架呈肩甲狀設(shè)置于噴嘴件兩側(cè),并與其軸肩間隔,以在兩者之間相隔出第一容差調(diào)節(jié)空間,所述扭簧經(jīng)轉(zhuǎn)軸與支架連接,以使其固定臂與支架內(nèi)肩面彈性相抵、施力臂分別彈性承托噴嘴件的承接部,迫使噴嘴件彈性懸浮于支架之間。

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,其中至少一側(cè)支架組件扭簧的施力臂自扭簧的簧圈兩側(cè)分別延伸而出,形成一對非接觸式施力臂,同側(cè)非接觸式施力臂分別從兩側(cè)承托噴嘴件的承接部,以形成對承接部的至少三點位彈性承托。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,所述承接部呈條槽狀分設(shè)于噴嘴件底部兩側(cè)。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,所述扭簧的簧圈由固定臂兩端分別延伸而出,相互分立,所述施力臂自各簧圈一端延伸而出,同側(cè)施力臂間相互間隔,分別從兩側(cè)承托噴嘴件承接部,其中同側(cè)簧圈采用共用同一轉(zhuǎn)軸、或分別獨立配備轉(zhuǎn)軸中的任一方式與支架連接,使同側(cè)簧圈同軸布置。

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,所述噴嘴件底部延伸有阻隔壁,以分隔兩側(cè)承接部,阻擋施力臂侵入對側(cè)。

    6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,所述噴嘴件內(nèi)設(shè)有L形氣路,所述氣路的入氣口設(shè)在噴嘴件側(cè)面位于阻隔壁上、出氣口設(shè)在噴嘴件頂部。

    7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,還包括:密封圈,其中所述噴嘴件頂部出氣口處設(shè)有環(huán)形壁,所述密封圈套在環(huán)形壁外,且所述密封圈高于環(huán)形壁。

    8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,還包括:開口擋圈,其中所述轉(zhuǎn)軸兩端設(shè)有環(huán)形槽,以供與開口擋圈配接,使轉(zhuǎn)軸與支架呈快卸式連接。

    9.一種氣體吹掃裝置,包括:平臺基座,供氣單元,其特征在于,還包括:如權(quán)利要求1至8中任一所述的氣路噴嘴單元,其中所述平臺基座上,對應(yīng)晶圓裝載容器的內(nèi)部給氣口位置處,分別設(shè)有噴嘴孔,各氣路噴嘴單元的支架組件連接在平臺基座背面,以承托噴嘴件使其軸肩與噴嘴孔處的平臺基座面相抵限位,令其軸頸于噴嘴孔處受壓彈性伸縮,其中所述噴嘴孔尺寸大于軸頸,以在兩者之間相隔出第二容差調(diào)節(jié)空間,所述供氣單元與噴嘴件連通。

    10.一種裝載埠,用于接收被輸送的吹掃對象晶圓裝載容器,并與晶圓裝載容器交互進行晶圓裝卸,其特征在于包括:如權(quán)利要求9所述的氣體吹掃裝置,以從晶圓裝載容器底部的氣路接口,向其內(nèi)部注入預定的惰性氣體,將晶圓裝載容器內(nèi)置換為預定的氣體氣氛。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種氣路噴嘴單元,其特征在于包括:噴嘴件、支架組件,所述噴嘴件上部設(shè)有軸肩、軸頸、底部設(shè)有承接部,所述支架組件成對設(shè)置于噴嘴件兩側(cè),并與噴嘴件承接部彈性連接,其中各所述支架組件包括:支架、轉(zhuǎn)軸、扭簧,所述扭簧一端延伸有固定臂,另一端延伸有施力臂,所述支架呈肩甲狀設(shè)置于噴嘴件兩側(cè),并與其軸肩間隔,以在兩者之間相隔出第一容差調(diào)節(jié)空間,所述扭簧經(jīng)轉(zhuǎn)軸與支架連接,以使其固定臂與支架內(nèi)肩面彈性相抵、施力臂分別彈性承托噴嘴件的承接部,迫使噴嘴件彈性懸浮于支架之間。

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,其中至少一側(cè)支架組件扭簧的施力臂自扭簧的簧圈兩側(cè)分別延伸而出,形成一對非接觸式施力臂,同側(cè)非接觸式施力臂分別從兩側(cè)承托噴嘴件的承接部,以形成對承接部的至少三點位彈性承托。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,所述承接部呈條槽狀分設(shè)于噴嘴件底部兩側(cè)。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,所述扭簧的簧圈由固定臂兩端分別延伸而出,相互分立,所述施力臂自各簧圈一端延伸而出,同側(cè)施力臂間相互間隔,分別從兩側(cè)承托噴嘴件承接部,其中同側(cè)簧圈采用共用同一轉(zhuǎn)軸、或分別獨立配備轉(zhuǎn)軸中的任一方式與支架連接,使同側(cè)簧圈同軸布置。

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣路噴嘴單元,其特征在于,所述噴嘴件底部延伸有阻隔壁,以...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:仰爽馬剛
    申請(專利權(quán))人:上海廣川科技有限公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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