本發(fā)明專利技術(shù)實(shí)施例提供了一種上下料裝置及外延設(shè)備，其中，上下料裝置包括主腔室、存儲結(jié)構(gòu)、取放片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)；主腔室具有第一開口和第二開口；第一開口用于向主腔室內(nèi)放置襯底或從主腔室內(nèi)取出外延片；第二開口用于與傳輸腔連通；存儲結(jié)構(gòu)固定設(shè)置在主腔室內(nèi)，并位于第一開口處，用以存放襯底和/或外延片，存儲結(jié)構(gòu)具有沿其高度方向依次設(shè)置的多個(gè)存儲位；升降機(jī)構(gòu)設(shè)置在主腔室內(nèi)，用以帶動(dòng)取放片機(jī)構(gòu)在主腔室內(nèi)上升或下降；取放片機(jī)構(gòu)設(shè)置在主腔室內(nèi)，用以與升降機(jī)構(gòu)配合，將襯底從存儲結(jié)構(gòu)取出，并經(jīng)第二開口運(yùn)輸至主腔室的外部，和將從傳輸腔運(yùn)輸過來的外延片，經(jīng)第二開口運(yùn)輸至存儲結(jié)構(gòu)存儲。本申請實(shí)施例的上下料裝置自動(dòng)化程度高。
1、隨著半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展，外延片的需求逐漸增加。通常使用碳化硅外延爐生產(chǎn)外延片，外延爐包括用以生長外延層的反應(yīng)室，以及位于反應(yīng)室開口處的傳輸腔。相關(guān)技術(shù)中，碳化硅外延爐每完成一個(gè)外延片的生產(chǎn)，都需要安排操作人員取走碳化硅外延片，并重新放入一個(gè)碳化硅襯底，才能進(jìn)行下一個(gè)外延片的生產(chǎn)，作業(yè)連續(xù)性差，自動(dòng)化程度低，進(jìn)而導(dǎo)致生產(chǎn)效率低。
1、本專利技術(shù)實(shí)施例的目的在于提供一種上下料裝置及外延設(shè)備，以提高外延片生產(chǎn)過程中的連續(xù)性，從而提高生產(chǎn)效率。具體技術(shù)方案如下：
2、本申請第一方面的實(shí)施例提出了一種上下料裝置，用于對外延設(shè)備的傳輸腔進(jìn)行上下料，上下料裝置包括主腔室、存儲結(jié)構(gòu)、取放片機(jī)構(gòu)和升降機(jī)構(gòu)；所述主腔室具有設(shè)置在其側(cè)壁上的第一開口和設(shè)置在其頂壁上的第二開口；所述第一開口用于向所述主腔室內(nèi)放置襯底或從所述主腔室內(nèi)取出外延片；所述第二開口用于與所述傳輸腔連通；所述存儲結(jié)構(gòu)固定設(shè)置在所述主腔室內(nèi)，并位于所述第一開口處，用以存放所述襯底和/或所述外延片，所述存儲結(jié)構(gòu)具有沿其高度方向依次設(shè)置的多個(gè)存儲位；所述升降機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述主腔室內(nèi)，用以帶動(dòng)所述取放片機(jī)構(gòu)在所述主腔室內(nèi)上升或下降；所述取放片機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述主腔室內(nèi)，用以與所述升降機(jī)構(gòu)配合，將所述襯底從所述存儲結(jié)構(gòu)取出，并經(jīng)所述第二開口運(yùn)輸至所述主腔室的外部，和將從所述傳輸腔運(yùn)輸過來的所述外延片，經(jīng)所述第二開口運(yùn)輸至所述存儲結(jié)構(gòu)存儲。
>3、在本申請的一些實(shí)施例中，所述上下料裝置還包括：進(jìn)樣室；4、所述進(jìn)樣室固定設(shè)置在所述第二開口處；
5、所述進(jìn)樣室內(nèi)部形成有進(jìn)樣腔，所述進(jìn)樣腔的一端與所述傳輸腔連通，另一端通過所述第二開口與所述主腔室連通。
6、在本申請的一些實(shí)施例中，所述升降機(jī)構(gòu)包括：動(dòng)力設(shè)備、同步組件、至少一個(gè)絲杠和至少一個(gè)導(dǎo)向桿；
7、所述絲杠沿豎直方向延伸，且其兩端與所述主腔室內(nèi)的頂端和底端轉(zhuǎn)動(dòng)連接；
8、所述導(dǎo)向桿與所述絲杠平行且間隔設(shè)置，且其兩端與所述主腔室內(nèi)的頂端和底端固定連接；
9、所述同步組件與所述動(dòng)力設(shè)備和所述絲杠分別連接；所述動(dòng)力設(shè)備通過所述同步組件驅(qū)動(dòng)所述絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)；
10、所述取放片機(jī)構(gòu)與所述絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)連接，并與所述導(dǎo)向桿滑動(dòng)連接；所述絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)以帶動(dòng)所述取放片機(jī)構(gòu)上升或下降。
11、在本申請的一些實(shí)施例中，所述取放片機(jī)構(gòu)包括：水平運(yùn)輸組件、豎直運(yùn)輸組件和固定組件；
12、所述水平運(yùn)輸組件和所述豎直運(yùn)輸組件分別與所述固定組件固定連接，所述固定組件與所述導(dǎo)向桿滑動(dòng)連接，并與所述絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)連接；
13、所述水平運(yùn)輸組件包括水平電缸和第一承載件；所述第一承載件與所述水平電缸連接；所述水平電缸帶動(dòng)所述第一承載件沿水平方向運(yùn)動(dòng)；
14、所述豎直運(yùn)輸組件包括豎直電缸和第二承載件；所述第二承載件與所述豎直電缸連接；所述豎直電缸帶動(dòng)所述第二承載件沿豎直方向運(yùn)動(dòng)，以從所述第一承載件上取走所述襯底，或向所述第一承載件放置所述外延片。
15、在本申請的一些實(shí)施例中，所述水平電缸包括：沿水平方向延伸的水平活塞桿；
16、所述第一承載件為叉子；所述叉子的一端與所述水平活塞桿的自由端固定連接，另一端具有兩個(gè)在水平方向上間隔設(shè)置的插齒；
17、所述豎直電缸包括：沿豎直方向延伸的豎直活塞桿；
18、所述第二承載件包括：第一托盤基座；所述第一托盤基座的底面與所述豎直活塞桿的自由端固定連接；所述第二承載件在所述主腔室的底壁上的正投影，位于兩個(gè)所述插齒在所述主腔室的底壁上的正投影之間。
19、在本申請的一些實(shí)施例中，所述固定組件包括：豎直電缸安裝座和水平電缸安裝座；
20、所述豎直電缸安裝座上設(shè)置有供所述導(dǎo)向桿穿過的第一連接孔和供所述絲杠穿過的第一絲杠連接孔；所述豎直電缸固定設(shè)置在所述豎直電缸安裝座的下方；所述豎直電缸安裝座上開設(shè)有供所述豎直活塞桿穿過的第一通孔；所述第二承載件位于所述豎直電缸安裝座的上方；
21、所述水平電缸安裝座上設(shè)置有供所述導(dǎo)向桿穿過的第二連接孔和供所述絲杠穿過的第二絲杠連接孔；所述水平電缸與所述水平電缸安裝座固定連接；所述水平電缸安裝座上開設(shè)有供所述水平活塞桿穿過的第二通孔；所述水平電缸和所述第一承載件分別位于所述水平電缸安裝座的兩側(cè)。
22、在本申請的一些實(shí)施例中，所述動(dòng)力設(shè)備與所述主腔室的底壁固定連接，所述動(dòng)力設(shè)備為減速電機(jī)，所述減速電機(jī)的輸出端與所述絲杠的下端間隔且平行設(shè)置；
23、所述同步組件包括：同步帶和兩個(gè)同步帶輪；所述兩個(gè)同步帶輪分別與所述減速電機(jī)的輸出端和所述絲杠的下端固定連接；所述同步帶設(shè)置在所述兩個(gè)同步帶輪的外部，并與所述兩個(gè)同步帶輪相適配；
24、所述絲杠的上端設(shè)有上軸套，下端設(shè)有下軸套；所述同步帶輪位于所述上軸套和所述下軸套之間，所述上軸套和所述下軸套均與所述主腔室固定連接，并與所述絲杠轉(zhuǎn)動(dòng)連接。
25、在本申請的一些實(shí)施例中，所述存儲結(jié)構(gòu)包括：四個(gè)支撐立柱和多個(gè)第二托盤基座；
26、所述四個(gè)支撐立柱均沿豎直方向延伸，平行且間隔設(shè)置；所述支撐立柱的兩端與所述主腔室固定連接；
27、每一所述第二托盤基座的邊緣處設(shè)置有四個(gè)安裝孔；所述四個(gè)支撐立柱一一對應(yīng)的穿設(shè)于所述四個(gè)安裝孔內(nèi)；
28、所述多個(gè)第二托盤基座沿豎直方向，平行且間隔設(shè)置，形成所述多個(gè)存儲位；
29、所述多個(gè)存儲位均具有朝向所述取放片機(jī)構(gòu)設(shè)置的的第一取放開口，以及朝向所述第一開口設(shè)置的第二取放開口；所述第一取放開口供所述第一承載件從所述存儲位取出所述襯底或向所述存儲位放置所述外延片；所述第二取放開口用以向所述存儲位放置所述襯底或從所述存儲位取出所述外延片。
30、在本申請的一些實(shí)施例中，所述第一開口處設(shè)有主腔室門；所述進(jìn)樣室和所述傳輸腔之間設(shè)有門閥，以使所述主腔室和所述進(jìn)樣室形成密封空間；
31、所述上下料裝置還包括：設(shè)置在所述主腔室外部的吹掃裝置、氣體回收裝置和控制器；
32、所述吹掃裝置包括氣源、進(jìn)氣管和多個(gè)進(jìn)氣接頭；所述主腔室門上設(shè)有多個(gè)進(jìn)氣孔，所述多個(gè)進(jìn)氣接頭與所述主腔室門固定連接，并與所述多個(gè)進(jìn)氣孔一一對應(yīng)設(shè)置；所述進(jìn)氣管的兩端分別與所述多個(gè)進(jìn)氣接頭和所述氣源連接；
33、所述主腔室上設(shè)有排氣孔；所述氣體回收裝置通過所述排氣孔與所述主腔室的內(nèi)部連通；
34、所述控制器與所述取放片機(jī)構(gòu)和所述升降機(jī)構(gòu)電連接。
35、本申請第二方面的實(shí)施例提出了一種外延設(shè)備，包括第一方面任一實(shí)施例的上下料裝置、傳輸腔和反應(yīng)室；
36、所述反應(yīng)室用以生產(chǎn)所述外延片；
37、所述傳輸腔位于所述上下料裝置和所述反應(yīng)室之間；所述傳輸腔內(nèi)設(shè)置有機(jī)械手，所述機(jī)械手用以在所述上下料裝置和所述反應(yīng)室之間運(yùn)輸所述襯本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種上下料裝置，其特征在于，用于對外延設(shè)備的傳輸腔(20)進(jìn)行上下料，包括：主腔室(100)、存儲結(jié)構(gòu)(200)、取放片機(jī)構(gòu)(300)和升降機(jī)構(gòu)(400)；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的上下料裝置，其特征在于，所述上下料裝置還包括：進(jìn)樣室(500)；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的上下料裝置，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)(400)包括：動(dòng)力設(shè)備(410)、同步組件(420)、至少一個(gè)絲杠(430)和至少一個(gè)導(dǎo)向桿(440)；
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的上下料裝置，其特征在于，所述取放片機(jī)構(gòu)(300)包括：水平運(yùn)輸組件(310)、豎直運(yùn)輸組件(320)和固定組件(330)；
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的上下料裝置，其特征在于，
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的上下料裝置，其特征在于，所述固定組件(330)包括：豎直電缸安裝座(331)和水平電缸安裝座(332)；
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的上下料裝置，其特征在于，
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的上下料裝置，其特征在于，所述存儲結(jié)構(gòu)(200)包括：四個(gè)支撐立柱(210)和多個(gè)第二托盤基座(220)；
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的上下料裝置，其特征在于，
10.一種外延設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的上下料裝置、傳輸腔(20)和反應(yīng)室；
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【技術(shù)特征摘要】
1.一種上下料裝置，其特征在于，用于對外延設(shè)備的傳輸腔(20)進(jìn)行上下料，包括：主腔室(100)、存儲結(jié)構(gòu)(200)、取放片機(jī)構(gòu)(300)和升降機(jī)構(gòu)(400)；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的上下料裝置，其特征在于，所述上下料裝置還包括：進(jìn)樣室(500)；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的上下料裝置，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)(400)包括：動(dòng)力設(shè)備(410)、同步組件(420)、至少一個(gè)絲杠(430)和至少一個(gè)導(dǎo)向桿(440)；
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的上下料裝置，其特征在于，所述取放片機(jī)構(gòu)(300)包括：水平運(yùn)輸組件(310)、豎直運(yùn)輸組件(320)和固定組件(330...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：曾慶森，林逸，楊軍偉，陳蛟，
申請(專利權(quán))人：廣州粵升半導(dǎo)體設(shè)備有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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