一種稀釋機(jī)構(gòu)(10)，與通過動(dòng)態(tài)光散射法測量粒徑分布的粒徑分布測量裝置(20)一起使用，為了在使用動(dòng)態(tài)光散射法的粒徑分布測量中，即便在樣品所含的粒子的粒徑分布變動(dòng)時(shí)也可精度良好地控制該樣品所含的粒子的濃度，以便保證測量精度，包括：樣品管線(L1)，將包含粒子的樣品引導(dǎo)至粒徑分布測量裝置(20)；稀釋管線(L2)，與樣品管線(L1)匯合且供稀釋液流動(dòng)；濃度調(diào)整部件(11)，調(diào)整稀釋后的樣品所含的粒子的濃度；導(dǎo)電率測量部件(12)，測量稀釋后的樣品的導(dǎo)電率；控制部(13)，以由導(dǎo)電率測量部件(12)測量的導(dǎo)電率或根據(jù)該導(dǎo)電率算出的值即導(dǎo)電率關(guān)聯(lián)值成為預(yù)定的目標(biāo)值的方式控制濃度調(diào)整部件(11)。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及稀釋機(jī)構(gòu)、粒徑分布測量系統(tǒng)、粒徑分布測量方法和粒徑分布測量用程序。
技術(shù)介紹
1、例如，在半導(dǎo)體制造工藝等中，有時(shí)在半導(dǎo)體的研磨中使用漿料等粒子，若該粒子中包含過大的粒子，則有可能對半導(dǎo)體造成損傷，因此有時(shí)使用以在線的方式利用了動(dòng)態(tài)光散射法的粒徑分布測量裝置(專利文獻(xiàn)1)。
2、在該情況下，若引導(dǎo)至粒徑分布測量裝置的樣品的濃度高，則會因多重散射導(dǎo)致測量精度降低，因此為了保證測量精度，需要對從管線采集的樣品進(jìn)行稀釋后進(jìn)行測量。
3、另一方面，由于通過動(dòng)態(tài)光散射法的粒徑分布測量具有濃度依賴性，因此就該觀點(diǎn)而言，為了保證測量精度，需要將稀釋后的濃度控制為固定，作為在線的濃度測量，已知有一種對光的透射光強(qiáng)度或散射光強(qiáng)度進(jìn)行檢測的方法。
4、然而，在對透射光強(qiáng)度進(jìn)行檢測的情況下，需要相應(yīng)地增加樣品的濃度，如此一來存在引起所述多重散射的傾向，因此不適合作為與動(dòng)態(tài)光散射法的粒徑分布的組合，若粒子微小(例如納米級)，則會產(chǎn)生透射光強(qiáng)度高且變化率小，難以精度良好地控制濃度等問題。
5、另外，在對散射光強(qiáng)度進(jìn)行檢測的情況下，散射光強(qiáng)度依賴于粒徑分布，在對某個(gè)散射角度的散射光進(jìn)行檢測時(shí)，僅在粒徑分布固定的情況下求出濃度，因此在粒徑分布發(fā)生變動(dòng)的情況下，難以精度良好地控制濃度，但是若欲對多個(gè)散射角度的散射光進(jìn)行檢測，則會導(dǎo)致檢測器的大型化，從而產(chǎn)生難以在線處理的問題。
6、專利文獻(xiàn)1：日本特開2002-22644號公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
>1、因此，本專利技術(shù)是為了一舉解決所述問題而完成的，其主要課題在于，在使用動(dòng)態(tài)光散射法的粒徑分布測量中，即便在樣品所含的粒子的粒徑分布發(fā)生變動(dòng)的情況下，也可以精度良好地對該樣品所含的粒子的濃度進(jìn)行控制，以便保證測量精度。2、即，本專利技術(shù)的稀釋機(jī)構(gòu)與通過動(dòng)態(tài)光散射法對粒徑分布進(jìn)行測量的粒徑分布測量裝置一起使用，其包括：樣品管線，將包含粒子的樣品引導(dǎo)至所述粒徑分布測量裝置；稀釋管線，與所述樣品管線匯合且供稀釋液流動(dòng)；濃度調(diào)整部件，對稀釋后的所述樣品所含的粒子的濃度進(jìn)行調(diào)整；導(dǎo)電率測量部件，對稀釋后的所述樣品的導(dǎo)電率進(jìn)行測量；以及控制部，以由所述導(dǎo)電率測量部件測量出的導(dǎo)電率或作為根據(jù)所述導(dǎo)電率算出的值的導(dǎo)電率關(guān)聯(lián)值成為預(yù)定的目標(biāo)值的方式，對所述濃度調(diào)整部件進(jìn)行控制。
3、按照如此構(gòu)成的稀釋機(jī)構(gòu)，以樣品的導(dǎo)電率或根據(jù)該導(dǎo)電率算出的導(dǎo)電率關(guān)聯(lián)值成為預(yù)定的目標(biāo)值的方式對濃度控制部件進(jìn)行控制，因此與使用光的透射光強(qiáng)度或散射光強(qiáng)度來控制濃度的情況不同，即便在樣品所含的粒子的粒徑分布發(fā)生變動(dòng)的情況下，也可以精度良好地對該樣品所含的粒子的濃度進(jìn)行控制，其結(jié)果是能夠保證粒徑分布測量裝置的測量精度。
4、優(yōu)選的是，還包括濃度算出部，所述濃度算出部根據(jù)由所述導(dǎo)電率測量部件測量出的導(dǎo)電率，算出稀釋后的所述樣品所含的粒子的濃度作為所述導(dǎo)電率關(guān)聯(lián)值，所述控制部以由所述濃度算出部算出的濃度成為所述目標(biāo)值的方式對所述濃度調(diào)整部件進(jìn)行控制。
5、如此，可對樣品所含的粒子的濃度直接進(jìn)行控制，從而能夠更可靠地保證粒徑分布測量裝置的測量精度。
6、作為更具體的實(shí)施方式，可列舉如下形態(tài)：還包括相關(guān)數(shù)據(jù)存儲部，所述相關(guān)數(shù)據(jù)存儲部存儲有表示稀釋后的所述樣品的導(dǎo)電率與所述樣品所含的粒子的濃度的相關(guān)的相關(guān)數(shù)據(jù)，所述濃度算出部使用所述相關(guān)數(shù)據(jù)來算出稀釋后的所述樣品所含的粒子的濃度。
7、作為所述濃度調(diào)整部件，可列舉設(shè)置于所述樣品管線和所述稀釋管線中的至少一方的流體控制閥。
8、如此，可以廉價(jià)且以簡單的結(jié)構(gòu)對濃度進(jìn)行控制。
9、優(yōu)選的是，所述樣品管線從預(yù)定的制造工藝中使用的制造系統(tǒng)采集所述樣品。
10、如此，可以在線測量制造系統(tǒng)中使用的粒子的粒徑分布。
11、作為更顯著地發(fā)揮由所述稀釋機(jī)構(gòu)帶來的作用效果的形態(tài)，可列舉如下形態(tài)：所述樣品具有使所述所含的粒子的濃度與樣品的導(dǎo)電率產(chǎn)生相關(guān)的化學(xué)成分。
12、本專利技術(shù)的粒徑分布測量系統(tǒng)包括：所述稀釋機(jī)構(gòu)；以及粒徑分布測量裝置，通過動(dòng)態(tài)光散射法對由所述稀釋機(jī)構(gòu)稀釋的所述樣品所含的粒子的粒徑分布進(jìn)行測量。
13、本專利技術(shù)的粒徑分布測量方法通過動(dòng)態(tài)光散射法對粒徑分布進(jìn)行測量，粒徑分布測方法包括：利用樣品管線將包含粒子的樣品引導(dǎo)至粒徑分布測量裝置的步驟；使稀釋液與所述樣品管線匯合的步驟；使用濃度調(diào)整部件對稀釋后的所述樣品所含的粒子的濃度進(jìn)行調(diào)整的步驟；使用導(dǎo)電率測量部件對稀釋后的所述樣品的導(dǎo)電率進(jìn)行測量的步驟；以及以由所述導(dǎo)電率測量部件測量出的導(dǎo)電率或作為根據(jù)所述導(dǎo)電率算出的值的導(dǎo)電率關(guān)聯(lián)值成為預(yù)定的目標(biāo)值的方式，對所述濃度調(diào)整部件進(jìn)行控制的步驟。
14、本專利技術(shù)的粒徑分布測量用程序用于粒徑分布測量系統(tǒng)，所述粒徑分布測量系統(tǒng)包括：粒徑分布測量裝置，通過動(dòng)態(tài)光散射法對粒徑分布進(jìn)行測量；樣品管線，將包含粒子的樣品引導(dǎo)至所述粒徑分布測量裝置；稀釋管線，與所述樣品管線匯合且供稀釋液流動(dòng)；濃度調(diào)整部件，對稀釋后的所述樣品所含的粒子的濃度進(jìn)行調(diào)整；以及導(dǎo)電率測量部件，對稀釋后的所述樣品的導(dǎo)電率進(jìn)行測量，所述粒徑分布測量用程序使計(jì)算機(jī)發(fā)揮作為控制部的功能，所述控制部以由所述導(dǎo)電率測量部件測量出的導(dǎo)電率或作為根據(jù)所述導(dǎo)電率算出的值的導(dǎo)電率關(guān)聯(lián)值成為預(yù)定的目標(biāo)值的方式，對所述濃度調(diào)整部件進(jìn)行控制。
15、若為如此構(gòu)成的粒徑分布測量系統(tǒng)、粒徑分布測量方法和粒徑分布測量用程序，則可發(fā)揮與由所述稀釋機(jī)帶來的作用效果相同的作用效果。
16、按照如此構(gòu)成的本專利技術(shù)，在使用動(dòng)態(tài)光散射法的粒徑分布測量中，即便在樣品所含的粒子的粒徑分布發(fā)生變動(dòng)的情況下，也可以精度良好地對該樣品所含的粒子的濃度進(jìn)行控制，以便保證測量精度。
本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種稀釋機(jī)構(gòu)，與通過動(dòng)態(tài)光散射法對粒徑分布進(jìn)行測量的粒徑分布測量裝置一起使用，所述稀釋機(jī)構(gòu)的特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的稀釋機(jī)構(gòu)，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的稀釋機(jī)構(gòu)，其特征在于，
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的稀釋機(jī)構(gòu)，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的稀釋機(jī)構(gòu)，其特征在于，
6.一種粒徑分布測量系統(tǒng)，其特征在于，包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的粒徑分布測量系統(tǒng)，其特征在于，
8.一種粒徑分布測量方法，通過動(dòng)態(tài)光散射法對粒徑分布進(jìn)行測量，所述粒徑分布測方法的特征在于，包括：
9.一種粒徑分布測量用程序，其特征在于，用于粒徑分布測量系統(tǒng)，所述粒徑分布測量系統(tǒng)包括：粒徑分布測量裝置，通過動(dòng)態(tài)光散射法對粒徑分布進(jìn)行測量；樣品管線，將包含粒子的樣品引導(dǎo)至所述粒徑分布測量裝置；稀釋管線，與所述樣品管線匯合且供稀釋液流動(dòng)；濃度調(diào)整部件，對稀釋后的所述樣品所含的粒子的濃度進(jìn)行調(diào)整；以及導(dǎo)電率測量部件，對稀釋后的所述樣品的導(dǎo)電率進(jìn)行測量，
【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
1.一種稀釋機(jī)構(gòu)，與通過動(dòng)態(tài)光散射法對粒徑分布進(jìn)行測量的粒徑分布測量裝置一起使用，所述稀釋機(jī)構(gòu)的特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的稀釋機(jī)構(gòu)，其特征在于，
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的稀釋機(jī)構(gòu)，其特征在于，
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的稀釋機(jī)構(gòu)，其特征在于，
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的稀釋機(jī)構(gòu)，其特征在于，
6.一種粒徑分布測量系統(tǒng)，其特征在于，包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的粒徑分布測量系統(tǒng)，...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：櫻本啟二郎，森哲也，土生一德，
申請(專利權(quán))人：株式會社堀場制作所，
類型：發(fā)明
國別省市：
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