【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及電池制造清洗系統，尤其涉及一種用于表面殘留鋰的零部件的清洗方法以及清洗系統。
技術介紹
1、目前，對電池片進行鍍膜時常采用物理氣相沉積(physical?vapor?deposition，以下簡稱pvd)技術形成的pvd設備加工，其通過磁控濺射的方式以將電子在電場作用下加速飛向待鍍件，直至鍍膜完成。
2、一般情況下，在該鍍膜設備的加工腔室內的襯板的表面和鋰靶材的背管的表面常會附著殘留的鍍層靶材，這就需要進行清洗，對于附有常規靶材的襯板和靶材用完后的背管，只需要進行噴砂操作即可把表面所鍍材料去除，并重新加工表面至所要求的粗糙度，從而使得上述零部件可進行重復使用。但是如果腔室內涉及鋰靶材的鍍膜，因為金屬鋰的特殊活性，其采用噴砂的方式進行清理時無法完全清理干凈，且存在反向附著的情況，處理過程較為費勁。
3、因此，亟需一種用于表面殘留鋰的零部件的清洗方法以及清洗系統，以解決上述技術問題。
技術實現思路
1、本專利技術的一個目的在于提供一種清洗方法，能夠通過將殘留鋰反應形成穩定的結構并進行清除的方式，以對零部件進行較好的清洗，同時反應穩定，安全性高。
2、為達此目的，本專利技術采用以下技術方案：
3、清洗方法，用于對表面殘留鋰的零部件進行清洗，上述清洗方法包括以下步驟：
4、s10、準備階段：將待洗件放置于清洗籃中，并將上述清洗籃與運輸裝置連接；
5、s20、化學清洗：使用上述運輸裝置將上述清洗籃依次運送至
6、s30、噴淋清洗：使用上述運輸裝置將上述清洗籃運送至第一集液槽內，并使用噴淋結構對上述待洗件進行沖洗；
7、s40、后處理：使用上述運輸裝置將上述清洗籃運送至第二集液槽內，并使用吹干結構對上述待洗件進行吹水瀝干，完成對上述待洗件的清洗。
8、可選地，上述清洗槽內設有對應的清洗液，上述待洗件浸沒于上述清洗液內，上述清洗液中含有反應介質，以與上述待洗件表面殘留的鋰發生化學反應進行去除。
9、可選地，沿上述待洗件的運送方向，上述清洗槽內的上述清洗液的反應介質的濃度逐漸降低。
10、可選地，步驟s20還包括：在上述待洗件表面殘留的鋰進行化學清洗時，使用排氣結構對清洗過程中產生的氣體進行排出。
11、可選地，上述排氣結構包括排氣通道和排氣風扇，上述排氣通道用于氣體的排出，上述排氣風扇用于加速氣體的排出速率。
12、可選地，上述噴淋結構包括噴淋水槍，上述噴淋水槍的壓力為p1，6kg≤p1≤8kg。
13、可選地，上述吹干結構包括氣槍，上述氣槍的壓力為p2，p2＝6kg。
14、可選地，上述第一集液槽的側壁和上述第二集液槽的側壁均設有支架，上述清洗籃固定于上述支架上，以將上述清洗籃懸空設置。
15、可選地，步驟s30中上述待洗件進行沖洗完成后，將上述第一集液槽內的廢液排出至廢液槽內進行廢液處理；
16、步驟s40中對上述待洗件進行吹水瀝干后，將上述第二集液槽內的廢液排出至廢液槽內進行廢液處理。
17、本專利技術的另一個目的在于提供一種用于清洗系統，能夠通過將殘留鋰反應形成穩定的結構并進行清除的方式，以對零部件進行較好的清洗，同時反應穩定，安全性高。
18、為達此目的，本專利技術采用以下技術方案：
19、清洗系統，應用于上述的清洗方法，包括運輸裝置以及依次設置的上料位、至少兩個清洗組件、噴淋組件、吹干組件和下料位，其中，
20、上述上料位用于存放上述待洗件；
21、上述清洗組件包括清洗槽，上述清洗槽用于對上述待洗件進行化學清洗；
22、上述噴淋組件包括第一集液槽和噴淋結構，上述第一集液槽用于放置上述待洗件并收集清洗后的廢液，上述噴淋結構用于對上述待洗件噴淋水進行清洗；
23、上述吹干組件包括第二集液槽和吹干結構，上述第二集液槽用于放置上述待洗件并收集上述待洗件吹干過程中的廢液，上述吹干結構用于吹干噴淋清洗后的上述待洗件；
24、上述下料位用于存放清洗完成后的上述待洗件；
25、上述運輸裝置運送流轉于上述上料位、至少兩個清洗組件、上述噴淋組件、上述吹干組件和上述下料位之間，以對上述待洗件進行運送。
26、本專利技術的有益效果：
27、本專利技術提供了一種用于表面殘留鋰的零部件的清洗方法以及清洗系統，通過使用運輸裝置，將待洗件從上料位上獲取，并依次運送至至少兩個清洗組件中進行化學清洗，即可將表面金屬鋰通過化學反應轉化為排放物或其他穩定的結構；然后再將待洗件運送至噴淋組件中進行水噴淋清洗，即可將待洗件表面反應后的殘余物進行清洗，最后運送至吹干組件吹干即可完成對待洗件的清洗，并將完成清洗后的待洗件放置于下料位上進行存放。通過至少兩個化學清洗，確保了待洗件表面的鋰的完全清洗，清洗效果更佳，且不會發生劇烈的化學反應，無需工作人員接觸危險的清洗過程，提高了該清洗系統清洗過程中的安全性。
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1.清洗方法，其特征在于，用于對表面殘留鋰的零部件進行清洗，所述清洗方法包括以下步驟：
2.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗槽內設有對應的清洗液，所述待洗件浸沒于所述清洗液內，所述清洗液中含有反應介質，以與所述待洗件表面殘留的鋰發生化學反應進行去除。
3.根據權利要求2所述的清洗方法，其特征在于，沿所述待洗件的運送方向，所述清洗槽內的所述清洗液的反應介質的濃度逐漸降低。
4.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，步驟S20還包括：在所述待洗件表面殘留的鋰進行化學清洗時，使用排氣結構對清洗過程中產生的氣體進行排出。
5.根據權利要求4所述的清洗方法，其特征在于，所述排氣結構包括排氣通道和排氣風扇，所述排氣通道用于氣體的排出，所述排氣風扇用于加速氣體的排出速率。
6.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述噴淋結構包括噴淋水槍，所述噴淋水槍的壓力為P1，6kg≤P1≤8kg。
7.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述吹干結構包括氣槍，所述氣槍的壓力為P2，P2＝6kg。>
8.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述第一集液槽的側壁和所述第二集液槽的側壁均設有支架，所述清洗籃固定于所述支架上，以將所述清洗籃懸空設置。
9.根據權利要求1-8中任一項所述的清洗方法，其特征在于，
10.清洗系統，應用于如權利要求1-9中所述的清洗方法，其特征在于，包括運輸裝置以及依次設置的上料位(10)、至少兩個清洗組件(20)、噴淋組件(30)、吹干組件(40)和下料位(50)，其中，
...【技術特征摘要】
1.清洗方法，其特征在于，用于對表面殘留鋰的零部件進行清洗，所述清洗方法包括以下步驟：
2.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗槽內設有對應的清洗液，所述待洗件浸沒于所述清洗液內，所述清洗液中含有反應介質，以與所述待洗件表面殘留的鋰發生化學反應進行去除。
3.根據權利要求2所述的清洗方法，其特征在于，沿所述待洗件的運送方向，所述清洗槽內的所述清洗液的反應介質的濃度逐漸降低。
4.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，步驟s20還包括：在所述待洗件表面殘留的鋰進行化學清洗時，使用排氣結構對清洗過程中產生的氣體進行排出。
5.根據權利要求4所述的清洗方法，其特征在于，所述排氣結構包括排氣通道和排氣風扇，所述排氣通道用于氣體的排出，所述排氣風扇用于加...
【專利技術屬性】
技術研發人員：姚力軍，姚舜，王予叢，沈棟棟，陳子鳴，
申請(專利權)人：浙江景昇薄膜科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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