【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及吸盤生產(chǎn)，特別是涉及一種電控?zé)o源真空吸盤。
技術(shù)介紹
1、真空吸盤是一種利用負(fù)壓原理來實(shí)現(xiàn)物體搬運(yùn)或固定的裝置，在工業(yè)生產(chǎn)制造過程中會(huì)存在很多使用真空吸盤的場(chǎng)景，例如，手機(jī)平板生產(chǎn)過程中需要對(duì)屏幕、蓋板等進(jìn)行拉拔測(cè)試時(shí)，就需要使用到真空吸盤。
2、現(xiàn)有的真空吸盤一般有有源吸盤及無源吸盤兩種，但無論是傳統(tǒng)的有源吸盤還是無源吸盤，均有其各自存在的缺陷：
3、1、傳統(tǒng)有源吸盤：傳統(tǒng)的有源吸盤一般通過控制吸盤腔內(nèi)的氣壓與大氣壓的壓力差進(jìn)行吸力控制，需要?dú)庠础⒄婵瞻l(fā)生器、氣壓檢測(cè)與控制裝置的投入，導(dǎo)致整體結(jié)構(gòu)復(fù)雜體積較為龐大，且設(shè)備制造及維護(hù)成本高。
4、2、傳統(tǒng)無源吸盤：傳統(tǒng)的無源吸盤沒有氣源，吸力取決于吸盤面積、吸盤腔體內(nèi)殘留氣體體積、吸盤接觸面的密封性以及拉拔過程中的速度與角度，這些變量的存在都會(huì)導(dǎo)致實(shí)際吸力無法有效管控。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，提供一種電控?zé)o源真空吸盤，從而不僅能夠有效管控真空吸盤的吸力，同時(shí)降低成本，減少真空吸盤整體結(jié)構(gòu)的體積。
2、本專利技術(shù)的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的：
3、一種電控?zé)o源真空吸盤，包括：吸盤本體、手柄、電磁控制組件及泄壓件，所述吸盤本體上設(shè)置有吸盤腔；所述手柄開設(shè)有容置腔，且所述手柄上設(shè)置有行程調(diào)節(jié)環(huán)；所述電磁控制組件包括磁力桿及電磁線圈，所述磁力桿貫穿于所述容置腔內(nèi)，所述吸盤本體設(shè)置于所述磁力桿靠近所述行程調(diào)節(jié)環(huán)的一端上，所述電
4、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述吸盤本體上設(shè)置有安裝部，所述安裝部上開設(shè)有連通孔，所述連通孔的一端與所述吸盤腔相連通，所述連通孔的另一端與所述泄壓件相連通。
5、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述行程調(diào)節(jié)環(huán)上設(shè)置有泄壓開啟部，所述泄壓開啟部穿設(shè)于所述容置腔內(nèi)，所述手柄相對(duì)所述磁力桿移動(dòng)，直至所述行程調(diào)節(jié)環(huán)與所述泄壓件相抵持，以開啟所述泄壓件。
6、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述磁力桿包括中心桿、限位件及多塊磁鐵，所述中心桿上開設(shè)有安裝腔，各所述磁鐵排列容置于所述安裝腔內(nèi)，且所述限位件的一端穿設(shè)于所述安裝腔內(nèi)，所述限位件用于對(duì)各所述磁鐵進(jìn)行限位固定。
7、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述磁鐵為永磁體。
8、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述限位件為固定螺接件。
9、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述手柄的外表面上開設(shè)有限位槽，所述電磁線圈套設(shè)于所述限位槽上。
10、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述磁力桿上開設(shè)有避讓孔，所述泄壓件設(shè)置于所述避讓孔內(nèi)。
11、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述泄壓件包括泄壓塊、彈簧及固定塊，所述彈簧的一端與所述固定塊相連接，所述彈簧的另一端與所述泄壓塊相連接，所述泄壓塊、所述彈簧及所述固定塊分別容置于所述避讓孔內(nèi)，且所述泄壓塊部分相對(duì)于所述磁力桿的表面凸起，以使所述行程調(diào)節(jié)環(huán)推動(dòng)所述泄壓塊向靠近所述固定塊的方向移動(dòng)。
12、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述泄壓塊為球形鋼珠。
13、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)至少具有以下優(yōu)點(diǎn)：
14、本專利技術(shù)的電控?zé)o源真空吸盤通過設(shè)置吸盤本體、手柄、電磁控制組件及泄壓件，從而能夠通過吸盤本體實(shí)現(xiàn)吸附作用，同時(shí)通過電磁控制組件實(shí)現(xiàn)間接控制吸盤本體的吸附力，具體是通過電磁線圈與磁力桿形成電磁力，當(dāng)進(jìn)行拉拔測(cè)試時(shí)，克服電磁力，使得手柄相對(duì)磁力桿移動(dòng)，并通過在吸盤本體上設(shè)置泄壓件，手柄相對(duì)磁力桿移動(dòng)開啟泄壓件，通過泄壓件實(shí)現(xiàn)卸除吸盤本體的吸附力，如此，由于電磁力可控，不僅能夠有效管控真空吸盤的吸力，同時(shí)還能夠降低成本，減少真空吸盤整體結(jié)構(gòu)的體積。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述吸盤本體上設(shè)置有安裝部，所述安裝部上開設(shè)有連通孔，所述連通孔的一端與所述吸盤腔相連通，所述連通孔的另一端與所述泄壓件相連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述行程調(diào)節(jié)環(huán)上設(shè)置有泄壓開啟部，所述泄壓開啟部穿設(shè)于所述容置腔內(nèi)，所述手柄相對(duì)所述磁力桿移動(dòng)，直至所述行程調(diào)節(jié)環(huán)與所述泄壓件相抵持，以開啟所述泄壓件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述磁力桿包括中心桿、限位件及多塊磁鐵，所述中心桿上開設(shè)有安裝腔，各所述磁鐵排列容置于所述安裝腔內(nèi)，且所述限位件的一端穿設(shè)于所述安裝腔內(nèi)，所述限位件用于對(duì)各所述磁鐵進(jìn)行限位固定。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述磁鐵為永磁體。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述限位件為固定螺接件。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任意一項(xiàng)所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述手柄的外表面上開設(shè)有限位
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任意一項(xiàng)所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述磁力桿上開設(shè)有避讓孔，所述泄壓件設(shè)置于所述避讓孔內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述泄壓件包括泄壓塊、彈簧及固定塊，所述彈簧的一端與所述固定塊相連接，所述彈簧的另一端與所述泄壓塊相連接，所述泄壓塊、所述彈簧及所述固定塊分別容置于所述避讓孔內(nèi)，且所述泄壓塊部分相對(duì)于所述磁力桿的表面凸起，以使所述行程調(diào)節(jié)環(huán)推動(dòng)所述泄壓塊向靠近所述固定塊的方向移動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述泄壓塊為球形鋼珠。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述吸盤本體上設(shè)置有安裝部，所述安裝部上開設(shè)有連通孔，所述連通孔的一端與所述吸盤腔相連通，所述連通孔的另一端與所述泄壓件相連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述行程調(diào)節(jié)環(huán)上設(shè)置有泄壓開啟部，所述泄壓開啟部穿設(shè)于所述容置腔內(nèi)，所述手柄相對(duì)所述磁力桿移動(dòng)，直至所述行程調(diào)節(jié)環(huán)與所述泄壓件相抵持，以開啟所述泄壓件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述磁力桿包括中心桿、限位件及多塊磁鐵，所述中心桿上開設(shè)有安裝腔，各所述磁鐵排列容置于所述安裝腔內(nèi)，且所述限位件的一端穿設(shè)于所述安裝腔內(nèi)，所述限位件用于對(duì)各所述磁鐵進(jìn)行限位固定。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電控?zé)o源真空吸盤，其特征在于，所述磁鐵為永磁體。
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：宋樊，程黎輝，關(guān)亞東，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：龍旗電子惠州有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
還沒有人留言評(píng)論。發(fā)表了對(duì)其他瀏覽者有用的留言會(huì)獲得科技券。