【技術實現步驟摘要】
本申請涉及集成電路，具體涉及一種光學鄰近修正方法、電子設備及計算機可讀存儲介質。
技術介紹
1、在半導體制造中，隨著設計尺寸的不斷縮小，設計尺寸越來越接近光刻成像系統的極限，光的衍射效應變得越來越明顯，導致最終對設計圖形產生光學影像退化，實際形成的光刻圖案相對于掩膜版上的圖案發生嚴重畸變，最終在硅片上經過光刻形成的實際圖形和設計圖形不同，這種現象稱為光鄰近效應(optical?proximity?effect，ope)。
2、為了修正光學鄰近效應，便產生了光學鄰近修正(optical?proximitycorrection，opc)。光學鄰近修正的核心思想就是基于抵消光學鄰近效應的考慮建立光學鄰近修正模型，根據光學鄰近修正模型設計光掩模圖形，這樣雖然光刻后的光刻圖形相對應光掩模圖形發生了光學鄰近效應，但是由于在根據光學鄰近修正模型設計光掩模圖形時已經考慮了對該現象的抵消，因此，光刻后的光刻圖形接近于用戶實際希望得到的目標圖形。
3、現有的光學鄰近修正方法是把整個版圖分成互為相鄰的分塊，且同屬于一個分塊的多邊形在單獨的中央處理器(central?processing?unit，cpu)上做opc運算，當全部分塊的opc計算完成后，隨后將不同的分塊合并成一個完整的版圖。但該方法無法完全統一考慮到全局多邊形在不同分塊中的行為及變化，因此在分塊附近經常會出現由于不一致性導致的縫合不當從而引起難以解決的弱點。
技術實現思路
1、本申請提出了一種光學鄰近修正方法、電子設
2、為解決上述技術問題，本申請采用的一個技術方案是：提供一種光學鄰近修正方法，該光學鄰近修正方法包括：對電路版圖進行劃分，以獲取多個分塊；基于所有分塊及電路版圖的第一多邊形信息構建電路版圖對應的第一四叉樹；對分塊進行光學鄰近修正操作；響應于分塊中多邊形發生變化，則對第一四叉樹中的第一多邊形信息進行更新。
3、其中，在對分塊進行光學鄰近修正操作的步驟之前還包括：將多個分塊劃分為多個分塊組；對分塊進行光學鄰近修正操作的步驟包括：依次對每個分塊組中的所有分塊同步進行光學鄰近修正操作。
4、其中，對電路版圖進行劃分，以獲取多個分塊的步驟包括：對電路版圖采用遞歸劃分方式進行區域四等分，以獲取多個第一預設尺寸的子區域；將每個子區域的四周邊緣向外擴展一定距離的緩沖保護區，以形成多個分塊。
5、其中，基于所有分塊及電路版圖的第一多邊形信息構建電路版圖對應的第一四叉樹的步驟，包括：響應于第一多邊形信息中某個多邊形完全位于一個分塊中，則將多邊形保存于第一四叉樹與分塊對應的葉子節點中；響應于第一多邊形信息中某個多邊形跨越至少兩個分塊，則獲取電路版圖遞歸劃分過程中完全包含多邊形的最小中間分塊，將多邊形保存于第一四叉樹與最小中間分塊對應的節點中。
6、其中，第一預設尺寸設置為30～50微米。
7、其中，對分塊進行光學鄰近修正操作的步驟包括：在第一四叉樹中進行搜索，以獲取與分塊相交的第一目標多邊形作為第二多邊形信息；基于第二多邊形信息對分塊進行光學鄰近修正操作。
8、其中，基于第二多邊形信息對分塊進行光學鄰近修正操作的步驟包括：將分塊采用遞歸劃分方式進行區域四等分，以獲取多個第二預設尺寸的子分塊；基于所有子分塊及第二多邊形信息構建分塊對應的第二四叉樹；獲取第二多邊形信息中某一多邊形的光學鄰近修正區域，并在第二四叉樹中搜索，以獲取與光學鄰近修正區域相交的子分塊；提取第二四叉樹從根節點到與子分塊對應的葉子節點的搜索路徑上所有節點中與子分塊相交的第二目標多邊形，基于第二目標多邊形對多邊形進行光學鄰近修正操作。
9、其中，基于所有子分塊及第二多邊形信息構建分塊對應的第二四叉樹的步驟包括：響應于第二多邊形信息中某個多邊形完全位于一個子分塊中，則將多邊形保存于第二四叉樹與子分塊對應的葉子節點中；響應于第二多邊形信息中某個多邊形跨越至少兩個子分塊；則獲取分塊遞歸劃分過程中完全包含多邊形的最小中間子分塊，將多邊形保存于第二四叉樹與最小中間子分塊對應的節點中。
10、其中，基于第二多邊形信息對分塊進行光學鄰近修正操作的步驟還包括：判斷光學鄰近修正區域中多邊形是否發生變化；響應于發生變化，則對第二四叉樹中的第二多邊形信息進行更新。
11、其中，第二預設尺寸設置為2～5微米。
12、為解決上述技術問題，本申請采用的另一個技術方案是：提供一種電子設備，該電子設備包括處理器以及與處理器連接的存儲器，其中，存儲器中存儲有程序數據，處理器執行存儲器存儲的程序數據，以執行實現上述任意一項的光學鄰近修正方法。
13、為解決上述技術問題，本申請采用的另一個技術方案是：提供一種計算機可讀儲存介質，其內部存儲有程序指令，程序指令被處理器執行以實現上述任意一項的光學鄰近修正方法。
14、本申請的有益效果是：區別于現有技術的情況，本申請光學鄰近修正方法包括：對電路版圖進行劃分，以獲取多個分塊；基于所有分塊及電路版圖的第一多邊形信息構建電路版圖對應的第一四叉樹；對分塊進行光學鄰近修正操作；響應于分塊中多邊形發生變化，則對第一四叉樹中的第一多邊形信息進行更新。通過上述方式，本申請的光學鄰近修正方法可以通過第一四叉樹更新第一多邊形信息中全局多邊形在不同分塊中的行為及變化，從而解決全局多邊形由于分塊所產生的不一致性而導致壞點的問題。
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1.一種光學鄰近修正方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，在所述對所述分塊進行光學鄰近修正操作的步驟之前，還包括：
3.根據權利要求1所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述對電路版圖進行劃分，以獲取多個分塊的步驟，包括：
4.根據權利要求3所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述基于所有所述分塊及所述電路版圖的第一多邊形信息構建所述電路版圖對應的第一四叉樹的步驟，包括：
5.根據權利要求3所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述第一預設尺寸設置為30～50微米。
6.根據權利要求1所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述對所述分塊進行光學鄰近修正操作的步驟，包括：
7.根據權利要求6所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述基于所述第二多邊形信息對所述分塊進行光學鄰近修正操作的步驟，包括：
8.根據權利要求7所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述基于所有所述子分塊及所述第二多邊形信息構建所述分塊對應的第二四叉樹的步驟，包括：
9.根據權利要求
10.根據權利要求7所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述第二預設尺寸設置為2～5微米。
11.一種電子設備，其特征在于，所述電子設備包括處理器以及與所述處理器連接的存儲器，其中，所述存儲器中存儲有程序數據，所述處理器執行所述存儲器存儲的所述程序數據，以執行實現權利要求1-10任意一項所述的光學鄰近修正方法。
12.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，其內部存儲有程序指令，所述程序指令被執行以實現權利要求1-10任意一項所述的光學鄰近修正方法。
...【技術特征摘要】
1.一種光學鄰近修正方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，在所述對所述分塊進行光學鄰近修正操作的步驟之前，還包括：
3.根據權利要求1所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述對電路版圖進行劃分，以獲取多個分塊的步驟，包括：
4.根據權利要求3所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述基于所有所述分塊及所述電路版圖的第一多邊形信息構建所述電路版圖對應的第一四叉樹的步驟，包括：
5.根據權利要求3所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述第一預設尺寸設置為30～50微米。
6.根據權利要求1所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述對所述分塊進行光學鄰近修正操作的步驟，包括：
7.根據權利要求6所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述基于所述第二多邊形信息對所述分塊進行光學鄰近修正操...
【專利技術屬性】
技術研發人員：杜杳雋，董蒙，肖崗，
申請(專利權)人：深圳國微芯科技有限公司，
類型：發明
國別省市：
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