表面局部等離子處理裝置治具制造方法及圖紙

本技術(shù)涉及一種表面局部等離子處理裝置治具，包括外形控制部、等離子處理部、底座保護(hù)ITO部、連接支架和取放部，在所述的外形控制部上設(shè)置有容納底座保護(hù)ITO部的區(qū)域，該底座保護(hù)ITO部與所述的外形控制部之間通過(guò)所述的連接支架連接在一起，該容納底座保護(hù)ITO部與所述的外形控制部之間形成等離子處理部，所述的外形控制部上還設(shè)置有所述的取放部，兩處所述的取放部在外形控制部上對(duì)稱設(shè)置。本技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)是：通過(guò)設(shè)置外形控制部、等離子處理部、底座保護(hù)ITO部和連接支架，其中，外形控制部與所述底座保護(hù)ITO區(qū)用于放置待加工玻璃；能很好的控制玻璃進(jìn)行等離子局部處理加工等。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及一種表面局部等離子處理裝置治具，涉及玻璃或其它產(chǎn)品表面加工處理。

技術(shù)介紹

1、現(xiàn)有的玻璃表面等離子處理前需要在ito區(qū)域貼保護(hù)膜，部分玻璃會(huì)在貼膜時(shí)造成壓傷，劃傷、劃痕、壓點(diǎn)、臟污、碎片、碰撞，且接觸面易損傷玻璃制品表面功能，目前還沒有一款產(chǎn)品能很好的同時(shí)解決上述問(wèn)題。

2、基于現(xiàn)有技術(shù)的弊端，需要設(shè)計(jì)一款表面等離子處理裝置治具實(shí)現(xiàn)對(duì)產(chǎn)品所需要局部位置進(jìn)行指定等離子加工處理，要求精準(zhǔn)，不影響視窗區(qū)的ito線路。

3、為滿足對(duì)玻璃表面局部有效的等離子處理加工，既要有效的對(duì)玻璃表面局部實(shí)現(xiàn)等離子處理，又要達(dá)到精準(zhǔn)保護(hù)玻璃制品的ito線路不被破壞目的，需要開發(fā)一種達(dá)到此目的的裝置治具。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本技術(shù)提供一種表面局部等離子處理裝置治具，本技術(shù)的技術(shù)方案是：

2、一種表面局部等離子處理裝置治具，包括外形控制部、等離子處理部、底座保護(hù)ito部、連接支架和取放部，在所述的外形控制部上設(shè)置有容納底座保護(hù)ito部的區(qū)域，該底座保護(hù)ito部與所述的外形控制部之間通過(guò)所述的連接支架連接在一起，該容納底座保護(hù)ito部與所述的外形控制部之間形成等離子處理部，所述的外形控制部上還設(shè)置有所述的取放部，兩處所述的取放部在外形控制部上對(duì)稱設(shè)置。

3、所述的等離子處理部為局部等離子通過(guò)區(qū)，該等離子處理部沿所述的容納底座保護(hù)ito部的周邊設(shè)置。

4、所述的外形控制部整體呈矩形設(shè)置，長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度為40mm-60mm，寬邊的長(zhǎng)度為30mm-50mm。

5、所述取放位呈鏤空狀，設(shè)置在所述的外形控制部的寬邊居中處，與所述的等離子處理部相鄰設(shè)置。

6、所述的底座保護(hù)ito區(qū)為承片臺(tái)，用于保護(hù)產(chǎn)品視窗區(qū)的ito線路。

7、所述外形控制部、底座保護(hù)ito區(qū)和連接支架的材質(zhì)為電木或塑鋼。

8、所述的等離子處理部在所述外形控制部的四個(gè)角與所述的連接支架連接。

9、所述的底座保護(hù)ito部的表面形成拋光區(qū)。

10、本技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)是：

11、1、通過(guò)設(shè)置外形控制部、等離子處理部、底座保護(hù)ito部和連接支架，其中，外形控制部與所述底座保護(hù)ito區(qū)用于放置待加工玻璃；能很好的控制玻璃進(jìn)行等離子局部處理加工。

12、2、外形控制部與所述底座保護(hù)ito區(qū)連通，所述外形控制部與所述的底座保護(hù)ito區(qū)連通，能解決玻璃局部等離子處理時(shí)偏位問(wèn)題，防止玻璃視窗區(qū)域不被等離子破壞。

13、3、所述的外形控制部、等離子處理部、底座保護(hù)ito區(qū)和連接支架4形成一個(gè)整體，能高效在產(chǎn)品局部等離子時(shí)不易損傷玻璃制品表面的ito線路。

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【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

1.一種表面局部等離子處理裝置治具，其特征在于，包括外形控制部、等離子處理部、底座保護(hù)ITO部、連接支架和取放部，在所述的外形控制部上設(shè)置有容納底座保護(hù)ITO部的區(qū)域，該底座保護(hù)ITO部與所述的外形控制部之間通過(guò)所述的連接支架連接在一起，該容納底座保護(hù)ITO部與所述的外形控制部之間形成等離子處理部，所述的外形控制部上還設(shè)置有所述的取放部，兩處所述的取放部在外形控制部上對(duì)稱設(shè)置；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面局部等離子處理裝置治具，其特征在于，所述的等離子處理部為局部等離子通過(guò)區(qū)，該等離子處理部沿所述的容納底座保護(hù)ITO部的周邊設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的表面局部等離子處理裝置治具，其特征在于，所述的外形控制部整體呈矩形設(shè)置，長(zhǎng)邊的長(zhǎng)度為40mm-60mm，寬邊的長(zhǎng)度為30mm-50mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面局部等離子處理裝置治具，其特征在于，所述外形控制部、底座保護(hù)ITO區(qū)和連接支架的材質(zhì)為電木或塑鋼。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面局部等離子處理裝置治具，其特征在于，所述的等離子處理部在所述外形控制部的四個(gè)角與所述的連接支架連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的表面局部等離子處理裝置治具，其特征在于，所述的底座保護(hù)ITO部的表面形成拋光區(qū)。

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【技術(shù)特征摘要】

1.一種表面局部等離子處理裝置治具，其特征在于，包括外形控制部、等離子處理部、底座保護(hù)ito部、連接支架和取放部，在所述的外形控制部上設(shè)置有容納底座保護(hù)ito部的區(qū)域，該底座保護(hù)ito部與所述的外形控制部之間通過(guò)所述的連接支架連接在一起，該容納底座保護(hù)ito部與所述的外形控制部之間形成等離子處理部，所述的外形控制部上還設(shè)置有所述的取放部，兩處所述的取放部在外形控制部上對(duì)稱設(shè)置；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面局部等離子處理裝置治具，其特征在于，所述的等離子處理部為局部等離子通過(guò)區(qū)，該等離子處理部沿所述的容納底座保護(hù)ito部的周邊設(shè)置。

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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：朱偉，魏威，劉騰，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：東莞市安合鑫光電科技有限公司，
類型：新型
國(guó)別省市：