System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和長度必須引用該字符串內(nèi)的位置。 參數(shù)名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及油墨,具體涉及一種高遮蓋油墨及其制備方法。
技術(shù)介紹
1、電子產(chǎn)品所使用的強(qiáng)化玻璃需要使用特定的油墨進(jìn)行遮光處理,以實(shí)現(xiàn)光阻隔的效果。現(xiàn)有技術(shù)中通過增加油墨中炭黑的比例或者增加油墨的印刷遍數(shù)來提高油墨的遮蓋性能,但是當(dāng)炭黑用量過多時(shí),炭黑粒子容易團(tuán)聚,油墨會(huì)產(chǎn)生透光現(xiàn)象,并且炭黑具有導(dǎo)電性,過量的炭黑在油墨中會(huì)降低油墨膜層的電阻值,影響電子產(chǎn)品的使用安全性;而增加油墨印刷遍數(shù)則會(huì)導(dǎo)致油墨膜層厚度增加,產(chǎn)品的不良率也會(huì)增加。
2、現(xiàn)有技術(shù)如中國專利申請(qǐng)cn114656837a公開了一種高遮蓋高絕緣黑色油墨及其制備方法,通過在丙烯酸樹脂中添加炭黑、硫酸鋇、環(huán)氧改性聚硅氧烷、分散劑、消泡劑、流平劑,使制得的黑色油墨具有高遮蓋力、高絕緣性,更好的適用于電子產(chǎn)品的強(qiáng)化玻璃的遮光層,但是由于沒有對(duì)炭黑粒子進(jìn)行表面處理,炭黑在油墨中存在分散性不足的缺陷,遮蓋性能和絕緣性能有待提高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本專利技術(shù)的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種高附著力耐候性油墨及其制備方法,該油墨具有高遮蓋性和絕緣性。
2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本專利技術(shù)采用的技術(shù)方案如下:
3、一種高遮蓋油墨的制備方法,包括以下步驟:
4、步驟一:制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料和丙烯酸酯單體;
5、其中,炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料包括以下步驟制備而成:
6、步驟(1)、將炭黑與硝酸水溶液混合,超聲分散,攪拌反應(yīng),反應(yīng)結(jié)束后,過濾,洗滌,干燥,得
7、步驟(2)、將己內(nèi)酯改性甲基丙烯酸酯、丙酮、三乙胺混合攪拌,加入酰氯化炭黑和對(duì)苯二酚,反應(yīng),反應(yīng)結(jié)束后,繼續(xù)反應(yīng),反應(yīng)結(jié)束后,加入端羥基超支化聚酯,再次反應(yīng),反應(yīng)結(jié)束后,旋蒸去除溶劑丙酮,得到炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料;
8、其中,丙烯酸酯單體包括以下步驟制備而成:
9、步驟(1)、將氣相法二氧化硅與乙酸乙酯混合,超聲分散,加入3-(2,3-環(huán)氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷和水,反應(yīng),反應(yīng)結(jié)束后,過濾,洗滌,干燥,得到環(huán)氧基氣相法二氧化硅;
10、將環(huán)氧基氣相法二氧化硅、馬來酸單-2-(甲基丙烯酰氧基)乙酯、丙酮混合,反應(yīng),反應(yīng)結(jié)束后,冷卻至室溫,抽濾,丙酮洗滌,干燥,得到烯基氣相法二氧化硅;
11、步驟(2)、將烯基氣相法二氧化硅、丙烯酸酯丁酯、甲基丙烯酸羥乙酯、n-羥甲基丙烯酰胺、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯混合,得到丙烯酸酯單體;
12、步驟二、將炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料、丙烯酸酯單體、光引發(fā)劑、消泡劑、流平劑、丙酮混合,攪拌,得到高遮蓋油墨。
13、優(yōu)選地,所述制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料時(shí),步驟(1)中:炭黑與硝酸水溶液的質(zhì)量比為1:14-16,硝酸水溶液為65wt%的硝酸水溶液;制備羧基化炭黑時(shí),反應(yīng)條件為:在氮?dú)夥諊小?0-100℃溫度下攪拌反應(yīng)24-28h;羧基化炭黑與氯化亞砜的質(zhì)量比為1:8-10;制備酰氯化炭黑時(shí),反應(yīng)條件為:在氮?dú)夥諊小?5-65℃溫度下反應(yīng)18-24h。
14、優(yōu)選地,所述制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料時(shí),步驟(2)中:己內(nèi)酯改性甲基丙烯酸酯、酰氯化炭黑、端羥基超支化聚酯、丙酮、三乙胺、對(duì)苯二酚的質(zhì)量比為5-5.5:12-14:22-24:50-60:3-3.5:0.01;反應(yīng)條件為:在-5-0℃溫度下反應(yīng)1-2h;繼續(xù)反應(yīng)條件為:在25-30℃溫度下繼續(xù)反應(yīng)3-4h;再次反應(yīng)條件為:在25-30℃溫度下再次反應(yīng)2-3h。
15、優(yōu)選地,所述制備丙烯酸酯單體時(shí),步驟(1)中:氣相法二氧化硅、乙酸乙酯、3-(2,3-環(huán)氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、水的質(zhì)量比為3.5-4:180-200:35-40:1;在制備環(huán)氧基氣相法二氧化硅時(shí),反應(yīng)條件為:在60-70℃溫度下反應(yīng)10-12h。
16、優(yōu)選地,在制備環(huán)氧基氣相法二氧化硅時(shí),洗滌操作中所用的洗滌劑包括乙酸乙酯。
17、優(yōu)選地,所述制備丙烯酸酯單體時(shí),步驟(1)中:環(huán)氧基氣相法二氧化硅、馬來酸單-2-(甲基丙烯酰氧基)乙酯、丙酮的質(zhì)量比為1:25-30:30-40;在制備烯基氣相法二氧化硅時(shí),反應(yīng)條件為:在氮?dú)夥諊小?0-90℃溫度下反應(yīng)8-10h。
18、優(yōu)選地,在烯基氣相法二氧化硅時(shí),洗滌操作中所用的洗滌劑包括丙酮。
19、優(yōu)選地,所述制備丙烯酸酯單體時(shí),步驟(2)中:烯基氣相法二氧化硅、丙烯酸酯丁酯、甲基丙烯酸羥乙酯、n-羥甲基丙烯酰胺、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯的質(zhì)量比為2-3:25-30:5-8:5-8:10-15:35-40。
20、優(yōu)選地,所述步驟二中:炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料、丙烯酸酯單體、光引發(fā)劑、消泡劑、流平劑、丙酮的質(zhì)量比為90-100:40:5-6:0.8-1:0.8-1:25-30,光引發(fā)劑為光引發(fā)劑itx與光引發(fā)劑1173以質(zhì)量比1:1混合配制而成。
21、優(yōu)選地,一種采用如上所述的高遮蓋油墨的制備方法制備得到的高遮蓋油墨。
22、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本專利技術(shù)的有益效果為:
23、本專利技術(shù)制備的油墨中,通過將炭黑進(jìn)行表面改性,制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料,與丙烯酸酯單體、光引發(fā)劑、添加劑、溶劑混合,提高炭黑在油墨中的分散性的同時(shí)降低炭黑的導(dǎo)電性能,改善油墨的遮蓋性。
24、本專利技術(shù)將炭黑經(jīng)過硝酸氧化法制備得到羧基化炭黑,使羧基化炭黑表面的羧基被氯化亞砜活化,轉(zhuǎn)變成酰氯基團(tuán),制得的酰氯化炭黑與己內(nèi)酯改性甲基丙烯酸酯的羥基反應(yīng),反應(yīng)后剩余的酰氯基團(tuán)與端羥基超支化聚酯的端羥基繼續(xù)反應(yīng),得到炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料;其中,己內(nèi)酯改性甲基丙烯酸酯是由甲基丙烯酸羥乙酯與己內(nèi)酯單體聚合而成的大分子單體,可以改善油墨的柔韌性等力學(xué)性能,并且由于其具有活性基團(tuán)碳碳雙鍵,接枝在炭黑表面后可以參與光固化反應(yīng);端羥基超支化聚酯是一種超支化聚合物,具有良好的溶解性,優(yōu)異的成膜性能、耐候性和力學(xué)性能,可以作為活性聚合物添加在油墨中,改善油墨的綜合性能,同時(shí)其擁有大量活性官能團(tuán)羥基,可以與酰氯化炭黑的酰氯基團(tuán)反應(yīng)接枝,作為表面改性劑改善炭黑在油墨中的分散狀況,阻礙炭黑粒子之間接觸,降低炭黑的導(dǎo)電性能;
25、本專利技術(shù)將氣相法二氧化硅通過環(huán)氧基硅烷偶聯(lián)劑進(jìn)行表面改性,得到的環(huán)氧基氣相法二氧化硅與馬來酸單-2-(甲基丙烯酰氧基)乙酯發(fā)生開環(huán)反應(yīng),制得烯基氣相法二氧化硅;將烯基氣相法二氧化硅、丙烯酸酯丁酯、甲基丙烯酸羥乙酯、n-羥甲基丙烯酰胺、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯混合,得到丙烯酸酯單體;其中,氣相法二氧化硅具有高效的消光效果,通過將其表面改性接枝碳碳雙鍵,使其可以參與光固化反應(yīng),提高氣相法二氧化硅在油墨基體中的分散性和相容性,改善油墨的遮蓋效果;
26、本專利技術(shù)將炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料與丙烯酸酯單本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟一中,制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料時(shí),酰氯化炭黑包括以下步驟制備而成:
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟一中,制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料時(shí):己內(nèi)酯改性甲基丙烯酸酯、酰氯化炭黑、端羥基超支化聚酯、丙酮、三乙胺、對(duì)苯二酚的質(zhì)量比為5-5.5:12-14:22-24:50-60:3-3.5:0.01。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟一中,制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料時(shí):反應(yīng)條件為:在-5-0℃溫度下反應(yīng)1-2h;繼續(xù)反應(yīng)條件為:在25-30℃溫度下繼續(xù)反應(yīng)3-4h;再次反應(yīng)條件為:在25-30℃溫度下再次反應(yīng)2-3h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟一中,制備丙烯酸酯單體時(shí),環(huán)氧基氣相法二氧化硅包括以下步驟制備而成:
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟一中,制備丙烯酸酯單體時(shí),步驟(2)中:烯基氣相法二氧化硅、丙烯酸酯丁酯、甲基丙烯酸羥乙酯、N-羥甲基丙烯酰胺、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯的質(zhì)量比為2-3:25-30:5-8:5-8:10-15:35-40。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟二中:炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料、丙烯酸酯單體、光引發(fā)劑、消泡劑、流平劑、丙酮的質(zhì)量比為90-100:40:5-6:0.8-1:0.8-1:25-30。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟二中:光引發(fā)劑為光引發(fā)劑ITX與光引發(fā)劑1173以質(zhì)量比1:1混合配制而成。
10.一種采用如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的高遮蓋油墨的制備方法制備得到的高遮蓋油墨。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟一中,制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料時(shí),酰氯化炭黑包括以下步驟制備而成:
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟一中,制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料時(shí):己內(nèi)酯改性甲基丙烯酸酯、酰氯化炭黑、端羥基超支化聚酯、丙酮、三乙胺、對(duì)苯二酚的質(zhì)量比為5-5.5:12-14:22-24:50-60:3-3.5:0.01。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟一中,制備炭黑/超支化聚酯復(fù)合材料時(shí):反應(yīng)條件為:在-5-0℃溫度下反應(yīng)1-2h;繼續(xù)反應(yīng)條件為:在25-30℃溫度下繼續(xù)反應(yīng)3-4h;再次反應(yīng)條件為:在25-30℃溫度下再次反應(yīng)2-3h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟一中,制備丙烯酸酯單體時(shí),環(huán)氧基氣相法二氧化硅包括以下步驟制備而成:
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高遮蓋油墨的制備方法,其特征在于,所述步驟...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:近藤厚,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:精工油墨四會(huì)有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
還沒有人留言評(píng)論。發(fā)表了對(duì)其他瀏覽者有用的留言會(huì)獲得科技券。