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    一種用于晶體爐的副爐室定位裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號(hào):43166039 閱讀:11 留言:0更新日期:2024-11-01 19:57
    一種用于晶體爐的副爐室定位裝置,涉及人工晶體爐技術(shù)領(lǐng)域,本技術(shù)通過(guò)在副爐室下法蘭(9)的上面設(shè)置可以旋轉(zhuǎn)的鎖緊環(huán),通過(guò)鎖緊環(huán)及副爐室下法蘭上的定位銷穿孔(12)與定位銷(11)配合,實(shí)現(xiàn)了在副爐室下降時(shí)快速將副爐室與主爐室或旋板閥(6)進(jìn)行定位的目的,避免了人工定位的操作等,然后通過(guò)旋轉(zhuǎn)鎖緊環(huán),使位于鎖緊環(huán)上的定位銷穿孔的右端孔滑入定位銷中部的環(huán)形槽內(nèi),此時(shí)環(huán)形槽的上端面與鎖緊環(huán)的上面接觸起到鎖緊副爐室與主爐室或旋板閥的目的,本技術(shù)具有定位效率高、使用安全的特點(diǎn),適合大范圍的推廣和應(yīng)用。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本技術(shù)涉及人工晶體爐,尤其涉及一種用于晶體爐的副爐室定位裝置。


    技術(shù)介紹

    1、以單晶爐為例,單晶爐是多晶硅轉(zhuǎn)化為單晶硅工藝過(guò)程中的必備設(shè)備,單晶硅作為現(xiàn)代信息社會(huì)的單晶材料之一,它不僅是發(fā)展計(jì)算機(jī)與集成電路的主要功能材料,也是光伏發(fā)電的主要功能材料。隨著半導(dǎo)體、光電子、太陽(yáng)能等行業(yè)的快速發(fā)展,對(duì)于單晶爐的需求也越來(lái)越大。

    2、現(xiàn)有單晶爐在使用時(shí),當(dāng)爐料拉制完成后,需要將單晶爐的副爐室向上升起使副爐室與主爐室分離,當(dāng)副爐室上升到預(yù)定高度后旋轉(zhuǎn)副爐室,副爐室旋轉(zhuǎn)到預(yù)定位置后操作者將位于副爐室內(nèi)的晶棒取出,并對(duì)副爐室的內(nèi)壁進(jìn)行清理(主要清理粘附在副爐室內(nèi)壁上的揮發(fā)物),然后在主爐室內(nèi)重新放入原料,將副爐室旋轉(zhuǎn)至主爐室的上方,隨后下降副爐室,當(dāng)副爐室與主爐室接觸后需要通過(guò)人工將副爐室與主爐室上的連接螺栓孔對(duì)齊,由于副爐室的重量較大,在人工調(diào)整時(shí)費(fèi)時(shí)費(fèi)力,有時(shí)還會(huì)發(fā)生夾傷操作者手指的事故等。

    3、那么,如何提供一種用于晶體爐的副爐室定位裝置就成了本領(lǐng)域技術(shù)人員的長(zhǎng)期技術(shù)訴求。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、為了克服
    技術(shù)介紹
    中的不足,本技術(shù)公開(kāi)了一種用于晶體爐的副爐室定位裝置,本技術(shù)通過(guò)在副爐室下法蘭的上面設(shè)置可以旋轉(zhuǎn)的鎖緊環(huán),通過(guò)鎖緊環(huán)及副爐室下法蘭上的定位銷穿孔與定位銷配合,實(shí)現(xiàn)了在副爐室下降時(shí)快速將副爐室與主爐室或旋板閥進(jìn)行定位的目的,避免了人工定位的操作等。

    2、為了實(shí)現(xiàn)所述的專利技術(shù)目的,本技術(shù)采用如下技術(shù)方案:

    3、一種用于晶體爐的副爐室定位裝置,包括右半鎖緊環(huán)、右半鎖緊環(huán)限位銷、旋轉(zhuǎn)手柄、左半鎖緊環(huán)和定位銷,所述右半鎖緊環(huán)和左半鎖緊環(huán)組合后形成鎖緊環(huán),在鎖緊環(huán)上設(shè)有至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)手柄,在鎖緊環(huán)上間隔設(shè)有至少兩個(gè)限位孔,所述鎖緊環(huán)設(shè)置在副爐室的副爐室下法蘭的上面,且鎖緊環(huán)在副爐室下法蘭上面做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),設(shè)置在鎖緊環(huán)上的限位孔分別套接在位于副爐室下法蘭上面的鎖緊環(huán)限位銷上,通過(guò)限位孔與鎖緊環(huán)限位銷的配合限制鎖緊環(huán)的旋轉(zhuǎn)范圍值,在鎖緊環(huán)的上面設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)貫通至副爐室下法蘭下面的定位銷穿孔,在主爐室的上法蘭或旋板閥的上面設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)定位銷,每個(gè)定位銷分別插接在定位銷穿孔內(nèi)。

    4、所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,所述右半鎖緊環(huán)和左半鎖緊環(huán)通過(guò)兩個(gè)旋轉(zhuǎn)手柄固定連接。

    5、所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,所述定位銷的下端頭固定設(shè)置在主爐室的上法蘭或旋板閥的上面,在定位銷的上端頭設(shè)有上端小下端大的錐形面,在定位銷的中部設(shè)有環(huán)形槽。

    6、所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,所述定位銷穿孔為左端直徑大右端直徑小的球拍型長(zhǎng)孔。

    7、所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,所述鎖緊環(huán)的外緣面上間隔設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)限位槽。

    8、所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,所述副爐室下法蘭的外緣面上間隔設(shè)有多個(gè)限位器固定座,在每個(gè)限位器固定座上分別設(shè)有限位器,所述限位器上的定位球?qū)?yīng)位于鎖緊環(huán)上設(shè)置的限位槽。

    9、所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,所述限位器包括定位球、彈簧安裝孔、彈簧和限位器主體,在所述限位器主體的中部設(shè)有彈簧安裝孔,在所述彈簧安裝孔內(nèi)設(shè)有彈簧,在所述彈簧的上端頭設(shè)有定位球。

    10、所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,所述限位器主體的下端面設(shè)有旋擰孔。

    11、所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,所述旋轉(zhuǎn)手柄通過(guò)旋轉(zhuǎn)銷軸連接連接接頭,所述連接接頭連接氣缸的活塞桿,所述氣缸的氣缸座通過(guò)氣缸旋轉(zhuǎn)銷軸連接設(shè)置在副爐室下法蘭外緣面上的氣缸安裝座。

    12、所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,所述氣缸的替換結(jié)構(gòu)為液壓缸。

    13、采用上述技術(shù)方案,本技術(shù)的有益效果是:

    14、本技術(shù)通過(guò)在副爐室下法蘭的上面設(shè)置可以旋轉(zhuǎn)的鎖緊環(huán),通過(guò)鎖緊環(huán)及副爐室下法蘭上的定位銷穿孔與定位銷配合,實(shí)現(xiàn)了在副爐室下降時(shí)快速將副爐室與主爐室或旋板閥進(jìn)行定位的目的,避免了人工定位的操作等,然后通過(guò)旋轉(zhuǎn)鎖緊環(huán),使位于鎖緊環(huán)上的定位銷穿孔的右端孔滑入定位銷中部的環(huán)形槽內(nèi),此時(shí)環(huán)形槽的上端面與鎖緊環(huán)的上面接觸起到鎖緊副爐室與主爐室或旋板閥的目的,本技術(shù)具有定位效率高、使用安全的特點(diǎn),適合大范圍的推廣和應(yīng)用。

    本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種用于晶體爐的副爐室定位裝置,包括右半鎖緊環(huán)(2)、右半鎖緊環(huán)限位銷(3)、旋轉(zhuǎn)手柄(5)、左半鎖緊環(huán)(10)和定位銷(11),其特征是:所述右半鎖緊環(huán)(2)和左半鎖緊環(huán)(10)組合后形成鎖緊環(huán),在鎖緊環(huán)上設(shè)有至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)手柄(5),在鎖緊環(huán)上間隔設(shè)有至少兩個(gè)限位孔(13),所述鎖緊環(huán)設(shè)置在副爐室(1)的副爐室下法蘭(9)的上面,且鎖緊環(huán)在副爐室下法蘭(9)上面做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),設(shè)置在鎖緊環(huán)上的限位孔(13)分別套接在位于副爐室下法蘭(9)上面的鎖緊環(huán)限位銷(3)上,通過(guò)限位孔(13)與鎖緊環(huán)限位銷(3)的配合限制鎖緊環(huán)的旋轉(zhuǎn)范圍值,在鎖緊環(huán)的上面設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)貫通至副爐室下法蘭(9)下面的定位銷穿孔(12),在主爐室的上法蘭或旋板閥(6)的上面設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)定位銷(11),每個(gè)定位銷(11)分別插接在定位銷穿孔(12)內(nèi)。

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述右半鎖緊環(huán)(2)和左半鎖緊環(huán)(10)通過(guò)兩個(gè)旋轉(zhuǎn)手柄(5)固定連接。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述定位銷(11)的下端頭固定設(shè)置在主爐室的上法蘭或旋板閥(6)的上面,在定位銷(11)的上端頭設(shè)有上端小下端大的錐形面,在定位銷(11)的中部設(shè)有環(huán)形槽。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述定位銷穿孔(12)為左端直徑大右端直徑小的球拍型長(zhǎng)孔。

    5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述鎖緊環(huán)的外緣面上間隔設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)限位槽(4)。

    6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述副爐室下法蘭(9)的外緣面上間隔設(shè)有多個(gè)限位器固定座(7),在每個(gè)限位器固定座(7)上分別設(shè)有限位器(8),所述限位器(8)上的定位球(801)對(duì)應(yīng)位于鎖緊環(huán)上設(shè)置的限位槽(4)。

    7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述限位器(8)包括定位球(801)、彈簧安裝孔(802)、彈簧(803)和限位器主體(804),在所述限位器主體(804)的中部設(shè)有彈簧安裝孔(802),在所述彈簧安裝孔(802)內(nèi)設(shè)有彈簧(803),在所述彈簧(803)的上端頭設(shè)有定位球(801)。

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述限位器主體(804)的下端面設(shè)有旋擰孔。

    9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述旋轉(zhuǎn)手柄(5)通過(guò)旋轉(zhuǎn)銷軸(18)連接連接接頭(17),所述連接接頭(17)連接氣缸(16)的活塞桿,所述氣缸(16)的氣缸座通過(guò)氣缸旋轉(zhuǎn)銷軸(14)連接設(shè)置在副爐室下法蘭(9)外緣面上的氣缸安裝座(15)。

    10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述氣缸(16)的替換結(jié)構(gòu)為液壓缸。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種用于晶體爐的副爐室定位裝置,包括右半鎖緊環(huán)(2)、右半鎖緊環(huán)限位銷(3)、旋轉(zhuǎn)手柄(5)、左半鎖緊環(huán)(10)和定位銷(11),其特征是:所述右半鎖緊環(huán)(2)和左半鎖緊環(huán)(10)組合后形成鎖緊環(huán),在鎖緊環(huán)上設(shè)有至少一個(gè)旋轉(zhuǎn)手柄(5),在鎖緊環(huán)上間隔設(shè)有至少兩個(gè)限位孔(13),所述鎖緊環(huán)設(shè)置在副爐室(1)的副爐室下法蘭(9)的上面,且鎖緊環(huán)在副爐室下法蘭(9)上面做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),設(shè)置在鎖緊環(huán)上的限位孔(13)分別套接在位于副爐室下法蘭(9)上面的鎖緊環(huán)限位銷(3)上,通過(guò)限位孔(13)與鎖緊環(huán)限位銷(3)的配合限制鎖緊環(huán)的旋轉(zhuǎn)范圍值,在鎖緊環(huán)的上面設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)貫通至副爐室下法蘭(9)下面的定位銷穿孔(12),在主爐室的上法蘭或旋板閥(6)的上面設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)定位銷(11),每個(gè)定位銷(11)分別插接在定位銷穿孔(12)內(nèi)。

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述右半鎖緊環(huán)(2)和左半鎖緊環(huán)(10)通過(guò)兩個(gè)旋轉(zhuǎn)手柄(5)固定連接。

    3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述定位銷(11)的下端頭固定設(shè)置在主爐室的上法蘭或旋板閥(6)的上面,在定位銷(11)的上端頭設(shè)有上端小下端大的錐形面,在定位銷(11)的中部設(shè)有環(huán)形槽。

    4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于晶體爐的副爐室定位裝置,其特征是:所述定位銷穿孔(12)為左端直徑大右端直徑小的球拍型長(zhǎng)孔...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:劉朝軒,邵瑋,王興龍,王獻(xiàn)偉藺紅輝
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:洛陽(yáng)長(zhǎng)纓新能源科技有限公司
    類型:新型
    國(guó)別省市:

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