【技術實現步驟摘要】
本技術涉及激光曝光機，具體涉及一種用于半導體封裝鍵合過程中切斷金屬線的切刀。
技術介紹
1、激光曝光機是一種用于制造微納電子器件和光電器件的光刻設備，它利用激光束在光刻膠上照射，實現高精度、高分辨率的圖形曝光。
2、現有的激光曝光機如圖1所示，包括工作平臺1，工作平臺1上設有拱架2，拱架2上安裝有用于對基板進行曝光的激光光源3，激光光源3與工作平臺1之間設有用于將基板輸送到激光光源3下方的滑軌4，滑軌4上設有用于放置基板的滑板5，通過任意常見的輸送機構將滑板5輸送經過激光光源3的下方從而達到對滑板5上的基板進行曝光的效果。
3、目前，在使用激光曝光機對基板進行曝光之前，需要建立坐標系，工作時先曝光基板的正面，同時用激光打標設備在基板的背面的四個角打四個圓形靶標，然后將基板翻面，利用之前打的四個靶標進行對位，由于正面和背面的坐標系不同，在翻面之后可能會產生對位誤差。
技術實現思路
1、本技術的目的在于提供一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其能夠消除基板正反兩面的對位誤差，確保基板整體的對位精度。
2、為解決上述技術問題，本技術采用了以下方案：
3、一種用于激光曝光機的基板定位裝置，包括工作平臺，工作平臺上設有拱架，拱架上安裝有用于對基板進行曝光的激光光源，激光光源與工作平臺之間設有用于將基板輸送到激光光源下方的滑軌，滑軌上設有用于放置基板的滑板，所述工作平臺上方設有兩個分別位于激光光源兩側的激光打孔器。激光打孔器和用于驅動滑板在滑軌上的
4、進一步的，所述拱架上設有導軌，導軌上設有用于安裝激光光源的滑塊，滑塊嵌入在導軌上沿導軌延伸方向移動，導軌延伸方向與滑軌延伸方向垂直設置。滑塊連接有用于輸送滑塊在導軌上移動的輸送機構，輸送機構采用任意能夠進行直線運動的現有技術即可。其作用為，通過導軌的設置，能夠使滑塊帶動激光光源在基板上方來回移動，從而能夠對基板各處進行曝光處理。
5、進一步的，所述導軌上下兩端中部設有凹槽，滑塊呈匚形狀，滑塊上相對的兩個內壁上設有用于嵌入凹槽內的凸起，滑塊頂面外壁上設有連接板，激光光源設于連接板上。凹槽的延伸方向與導軌的延伸方向相同。其作用為，通過凹槽及凸起的設置，能夠將滑塊固定在導軌上，同時使滑塊能夠沿導軌延伸方向移動。
6、進一步的，所述導軌上設有兩個分別位于滑塊左右兩側的安裝塊，安裝塊嵌入導軌上沿導軌延伸方向移動，激光打孔器設于安裝塊上。安裝塊連接有用于輸送滑塊在導軌上移動的輸送機構，輸送機構采用任意能夠進行直線運動的現有技術即可。其作用為，通過安裝塊的設置，能夠帶動激光打孔器在導軌上移動，從而對基板的四個角進行打孔操作。
7、進一步的，所述安裝塊包括安裝部和延伸部，安裝部的形狀和滑塊的形狀一樣，延伸部呈與工作平臺頂面平行設置的平板狀，激光打孔器設于延伸部上，激光打孔器與工作平臺頂面垂直設置。其作用為，通過安裝部的設置，能夠將安裝塊固定在導軌上同時實現安裝塊沿導軌延伸方向移動的效果；通過延伸部的設置，能夠將激光打孔器安裝在安裝塊上。
8、進一步的，所述延伸部垂直設于安裝部側壁頂部上，延伸部底面與安裝部側壁之間設有支撐肋。其作用為，通過支撐肋的設置，能夠增強對延伸部的支撐能力。
9、進一步的，所述工作平臺上設有安裝架，安裝架呈拱形狀橫跨滑軌上方，安裝架平行設于拱架前方，激光打孔器設于安裝架上。其作用為，通過安裝架的設置，能夠在對基板進行曝光之前，先對基板進行打孔操作，之后直接將基板輸向激光光源正下方即可。
10、進一步的，所述安裝架上設有延伸方向與滑軌延伸方向垂直設置的導向板，導向板上下兩端中部設有到導向槽，導向板上設有兩個移動塊，移動塊呈匚形狀，移動塊上相對的兩個內壁上設有用于嵌入到導向槽內的嵌入塊，激光打孔器設于移動塊上。其作用為，通過導向板及移動塊的設置，能夠將激光打孔器左右移動，以適應不同寬度的基板，確保能夠在基板的邊緣四角處打孔。
11、進一步的，所述移動塊包括滑動部和連接部，滑動部的形狀和滑塊的形狀一樣，連接部呈與工作平臺頂面平行設置的平板狀，激光打孔器設于連接部上，激光打孔器與工作平臺頂面垂直設置，連接部垂直設于滑動部側壁頂部上，連接部底面與滑動部側壁之間設有加強肋。其作用為，通過滑動部的設置，能夠將移動塊固定在導向板上同時實現移動塊沿導向板延伸方向移動的效果；通過連接部的設置，能夠將激光打孔器安裝在移動塊上。
12、進一步的，所述工作平臺上設有兩個與滑軌平行設置的移動軌道，安裝架的兩端分別安裝在兩個移動軌道上，拱架的側壁與安裝架的側壁之間連接有伸縮桿。其作用為，通過移動軌道及伸縮桿的設置，能夠將激光打孔器前后移動，以適應不同長度的基板，確保能夠在基板的邊緣四角處打孔。
13、本技術具有的有益效果：
14、1、通過激光打孔器的設置，能夠在對基本進行曝光之前，在基板的四個角處打出四個通孔，用這些通孔進行坐標系的建立，那么基板兩面的對位誤差就會被消除，整體的對位精度可以得到保證；
15、2、通過導軌的設置，能夠使滑塊帶動激光光源在基板上方來回移動，從而能夠對基板各處進行曝光處理；
16、3、通過安裝塊的設置，能夠帶動激光打孔器在導軌上移動，從而對基板的四個角進行打孔操作。
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1.一種用于激光曝光機的基板定位裝置，包括工作平臺(1)，工作平臺(1)上設有拱架(2)，拱架(2)上安裝有用于對基板進行曝光的激光光源(3)，激光光源(3)與工作平臺(1)之間設有用于將基板輸送到激光光源(3)下方的滑軌(4)，滑軌(4)上設有用于放置基板的滑板(5)，其特征在于：所述工作平臺(1)上方設有兩個分別位于激光光源(3)兩側的激光打孔器(6)。
2.根據權利要求1所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述拱架(2)上設有導軌(7)，導軌(7)上設有用于安裝激光光源(3)的滑塊(8)，滑塊(8)嵌入在導軌(7)上沿導軌(7)延伸方向移動，導軌(7)延伸方向與滑軌(4)延伸方向垂直設置。
3.根據權利要求2所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述導軌(7)上下兩端中部設有凹槽，滑塊(8)呈匚形狀，滑塊(8)上相對的兩個內壁上設有用于嵌入凹槽內的凸起，滑塊(8)頂面外壁上設有連接板(11)，激光光源(3)設于連接板(11)上。
4.根據權利要求2所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述導軌(
5.根據權利要求4所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述安裝塊(12)包括安裝部(13)和延伸部(14)，安裝部(13)的形狀和滑塊(8)的形狀一樣，延伸部(14)呈與工作平臺(1)頂面平行設置的平板狀，激光打孔器(6)設于延伸部(14)上，激光打孔器(6)與工作平臺(1)頂面垂直設置。
6.根據權利要求5所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述延伸部(14)垂直設于安裝部(13)側壁頂部上，延伸部(14)底面與安裝部(13)側壁之間設有支撐肋(15)。
7.根據權利要求3所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述工作平臺(1)上設有安裝架(16)，安裝架(16)呈拱形狀橫跨滑軌(4)上方，安裝架(16)平行設于拱架(2)前方，激光打孔器(6)設于安裝架(16)上。
8.根據權利要求7所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述安裝架(16)上設有延伸方向與滑軌(4)延伸方向垂直設置的導向板(17)，導向板(17)上下兩端中部設有到導向槽，導向板(17)上設有兩個移動塊(19)，移動塊(19)呈匚形狀，移動塊(19)上相對的兩個內壁上設有用于嵌入到導向槽內的嵌入塊，激光打孔器(6)設于移動塊(19)上。
9.根據權利要求8所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述移動塊(19)包括滑動部(21)和連接部(22)，滑動部(21)的形狀和滑塊(8)的形狀一樣，連接部(22)呈與工作平臺(1)頂面平行設置的平板狀，激光打孔器(6)設于連接部(22)上，激光打孔器(6)與工作平臺(1)頂面垂直設置，連接部(22)垂直設于滑動部(21)側壁頂部上，連接部(22)底面與滑動部(21)側壁之間設有加強肋(23)。
10.根據權利要求9所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述工作平臺(1)上設有兩個與滑軌(4)平行設置的移動軌道(24)，安裝架(16)的兩端分別安裝在兩個移動軌道(24)上，拱架(2)的側壁與安裝架(16)的側壁之間連接有伸縮桿(25)。
...【技術特征摘要】
1.一種用于激光曝光機的基板定位裝置，包括工作平臺(1)，工作平臺(1)上設有拱架(2)，拱架(2)上安裝有用于對基板進行曝光的激光光源(3)，激光光源(3)與工作平臺(1)之間設有用于將基板輸送到激光光源(3)下方的滑軌(4)，滑軌(4)上設有用于放置基板的滑板(5)，其特征在于：所述工作平臺(1)上方設有兩個分別位于激光光源(3)兩側的激光打孔器(6)。
2.根據權利要求1所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述拱架(2)上設有導軌(7)，導軌(7)上設有用于安裝激光光源(3)的滑塊(8)，滑塊(8)嵌入在導軌(7)上沿導軌(7)延伸方向移動，導軌(7)延伸方向與滑軌(4)延伸方向垂直設置。
3.根據權利要求2所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述導軌(7)上下兩端中部設有凹槽，滑塊(8)呈匚形狀，滑塊(8)上相對的兩個內壁上設有用于嵌入凹槽內的凸起，滑塊(8)頂面外壁上設有連接板(11)，激光光源(3)設于連接板(11)上。
4.根據權利要求2所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述導軌(7)上設有兩個分別位于滑塊(8)左右兩側的安裝塊(12)，安裝塊(12)嵌入導軌(7)上沿導軌(7)延伸方向移動，激光打孔器(6)設于安裝塊(12)上。
5.根據權利要求4所述的一種用于激光曝光機的基板定位裝置，其特征在于：所述安裝塊(12)包括安裝部(13)和延伸部(14)，安裝部(13)的形狀和滑塊(8)的形狀一樣，延伸部(14)呈與工作平臺(1)頂面平行設置的平板狀，激光打孔器(6)設于延伸部(14)上，激光打孔器(6)與工作平臺(1)頂面垂直設置。
6.根據...
【專利技術屬性】
技術研發人員：唐元剛，
申請(專利權)人：成都拓維高科光電科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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