【技術實現步驟摘要】
本技術涉及半導體制造，更具體的說，涉及一種流阻可調的抽氣環結構。
技術介紹
1、在現有的半導體薄膜沉積設備中，抽氣環是一個重要的組成部分，通常被安裝在反應腔室內，能夠將反應后的多余氣體有效地抽離腔室。當半導體設備進行沉積反應時，反應氣體通過噴淋頭進入腔室內，然后經過抽氣環的抽離作用，將反應后的多余氣體從腔室中排出。
2、為了確保工藝的可靠性和穩定性，需要根據不同的流量條件實時調整抽氣環內部的流阻，以調節流場的均勻性并獲得最佳的工藝性能。然而，目前的技術中，抽氣環的結構設計還存在一些問題。
3、圖1揭示了現有技術的固定擋板的抽氣環結構示意圖，如圖1所示，現有技術的抽氣環結構，內部采用如虛線框所示的固定擋板設計，這種設計無法實現對流阻的實時控制和調節。
4、因此，在現有的技術條件下，要實現流阻的精確控制和調節還存在一定的困難。為了解決這個問題，需要探索新的抽氣環結構設計方案，以便更好地適應不同的流量條件并提高工藝性能。
技術實現思路
1、本技術的目的是提供一種抽氣環，解決現有技術中對于抽氣環內的流阻難以實時進行精確控制和調節的問題。
2、為了實現上述目的，本技術提供了一種抽氣環，至少包括抽氣環基體和可調擋板：
3、所述基體為空腔結構，中間部位設置有圓形通孔；
4、所述圓形通孔，周向分布若干抽氣孔；
5、所述基體，設置有出氣孔；
6、所述可調擋板，設置在抽氣孔與出氣孔的氣流路徑上，由數個子擋板
7、在一實施例中，所述出氣孔，數量為2個，呈中心對稱地設置在基體兩側；
8、所述可調擋板，數量為2個，分別設置在抽氣孔與出氣孔的氣流路徑上。
9、在一實施例中，所述可調擋板，包含固定子擋板和若干活動子擋板：
10、所述若干活動子擋板，布置在固定子擋板的兩側。
11、在一實施例中，所述活動子擋板數量為大于或等于2的偶數。
12、在一實施例中，所述固定子擋板為圓弧形，對應的軸心與抽氣環軸心相重合。
13、在一實施例中，所述固定子擋板的弧度范圍為5度至30度。
14、在一實施例中，所述活動子擋板的內徑為圓弧形，對應的軸心與抽氣環軸心相重合，以軸心為軸轉動。
15、在一實施例中，所述活動子擋板的弧度范圍為5度至30度。
16、在一實施例中，所述活動子擋板的外徑設置臺階，所述臺階與固定子擋板相匹配。
17、在一實施例中，所述活動子擋板與基體連接處設置有活動槽；
18、所述活動子擋板，通過驅動機構進行驅動，在活動槽內進行移動。
19、針對現有技術的抽氣環無法調節流阻的技術問題，本技術提出的一種流阻可調的抽氣環，通過使用可調擋板，實現了對流阻的實時控制，進一步調節了流場的均勻性，可以更好地適應不同的應用場景和需求，從而提供更加穩定、可靠、高效的流場調節。
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1.一種抽氣環，其特征在于，至少包括抽氣環基體和可調擋板：
2.根據權利要求1所述的抽氣環，其特征在于，所述出氣孔，數量為2個，呈中心對稱地設置在基體兩側；
3.根據權利要求1所述的抽氣環，其特征在于，所述可調擋板，包含固定子擋板和若干活動子擋板：
4.根據權利要求3所述的抽氣環，其特征在于，所述活動子擋板數量為大于或等于2的偶數。
5.根據權利要求3所述的抽氣環，其特征在于，所述固定子擋板為圓弧形，對應的軸心與抽氣環軸心相重合。
6.根據權利要求5所述的抽氣環，其特征在于，所述固定子擋板的弧度范圍為5度至30度。
7.根據權利要求3所述的抽氣環，其特征在于，所述活動子擋板的內徑為圓弧形，對應的軸心與抽氣環軸心相重合，以軸心為軸轉動。
8.根據權利要求7所述的抽氣環，其特征在于，所述活動子擋板的弧度范圍為5度至30度。
9.根據權利要求7所述的抽氣環，其特征在于，所述活動子擋板的外徑設置臺階，所述臺階與固定子擋板相匹配。
10.根據權利要求3所述的抽氣環，其特征在于，所述活
...【技術特征摘要】
1.一種抽氣環，其特征在于，至少包括抽氣環基體和可調擋板：
2.根據權利要求1所述的抽氣環，其特征在于，所述出氣孔，數量為2個，呈中心對稱地設置在基體兩側；
3.根據權利要求1所述的抽氣環，其特征在于，所述可調擋板，包含固定子擋板和若干活動子擋板：
4.根據權利要求3所述的抽氣環，其特征在于，所述活動子擋板數量為大于或等于2的偶數。
5.根據權利要求3所述的抽氣環，其特征在于，所述固定子擋板為圓弧形，對應的軸心與抽氣環軸心相重合。
6.根據權利要求5...
【專利技術屬性】
技術研發人員：王志剛，
申請(專利權)人：拓荊創益沈陽半導體設備有限公司，
類型：新型
國別省市：
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