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    一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置制造方法及圖紙

    技術編號:43323629 閱讀:11 留言:0更新日期:2024-11-15 20:23
    本技術涉及一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,包括第一除霧器、第二除霧器、第三除霧器、第一冷卻器以及第二冷卻器,所述第一除霧器的第一出口管線連通所述第一冷卻器,所述第一冷卻器的第二出口管線連通所述第二冷卻器,所述第二冷卻器的第三出口管線連通所述第二除霧器,所述第二除霧器的第四出口管線連通所述第三除霧器。通過本結(jié)構(gòu),解決了現(xiàn)有的常規(guī)的經(jīng)濃硫酸干燥工藝解析裝置產(chǎn)生的HCL氣體經(jīng)過兩級冷卻至15℃后含水量依然較高,若直接通入轉(zhuǎn)化工序混合器中,會產(chǎn)生大量的鹽酸而腐蝕管線、設備,存在極大的安全生產(chǎn)隱患的問題。

    【技術實現(xiàn)步驟摘要】

    本技術涉及hcl氣體除水的工藝,具體涉及一種hcl氣體除霧除水的工藝裝置。


    技術介紹

    1、氯化氫,是一種無色非可燃性氣體,有極刺激氣味,比重大于空氣,遇潮濕的空氣產(chǎn)生白霧,極易溶于水,生成鹽酸,鹽酸具有強腐蝕性,能與多種金屬反應產(chǎn)生氫氣??膳c空氣形成爆炸性混合物,遇氰化物產(chǎn)生劇毒氰化氫。工業(yè)用鹽酸會因有雜質(zhì)三價鐵鹽而略顯黃色。主要用于制染料、香料、藥物、各種氯化物及腐蝕抑制劑。鹽酸為氯化氫的水溶液,是無色或微黃色的液體,易揮發(fā)。

    2、現(xiàn)有電石法生產(chǎn)pvc行業(yè),中間工序氯乙烯合成工序中會產(chǎn)生鹽酸,該部分鹽酸經(jīng)常規(guī)濃硫酸干燥工藝解析與深度解析后再次回用,解析裝置產(chǎn)生的hcl氣體經(jīng)過兩級冷卻至15℃后含水量依然較高(1000ppm左右),若直接通入轉(zhuǎn)化工序混合器中,會產(chǎn)生大量的鹽酸而腐蝕管線、設備,存在極大的安全生產(chǎn)隱患。


    技術實現(xiàn)思路

    1、本技術提供了一種hcl氣體除霧除水的工藝裝置,解決了常規(guī)的經(jīng)濃硫酸干燥工藝解析裝置產(chǎn)生的hcl氣體經(jīng)過兩級冷卻至15℃后含水量依然較高,若直接通入轉(zhuǎn)化工序混合器中,會產(chǎn)生大量的鹽酸而腐蝕管線、設備,存在極大的安全生產(chǎn)隱患的問題。

    2、本技術解決上述技術問題的技術方案如下:

    3、第一除霧器的第一出口管線連通第一冷卻器,第一冷卻器的第二出口管線連通第二冷卻器,第二冷卻器的第三出口管線連通第二除霧器,第二除霧器的第四出口管線連通第三除霧器。

    4、本技術的有益效果是,解析裝置產(chǎn)生的hcl氣體經(jīng)過三級除霧除水,使其出口端的含水量降至100ppm以下,hcl氣體經(jīng)兩級降溫,冷卻后的氣體溫度達到-15℃。既保障了hcl氣體的含水量,又大幅降低對設備、管線的酸腐蝕,降低了催化劑的損耗。通過與常規(guī)濃硫酸干燥工藝技術相比,本申請沒有廢硫酸處理的壓力,在工藝操作方面也更為安全。該項目可廣泛應用于化工生產(chǎn)中對hcl氣體含水較高的干燥工藝中。

    5、在上述技術方案的基礎上,本技術還可以做如下改進。

    6、進一步,第一除霧器與第二除霧器以及第三除霧器的內(nèi)部均安裝有濾芯,出口均安裝有遠傳壓差計,底部均固定安裝有第一排液管線與第一進水管線,第一除霧器、第二除霧器以及第三除霧器頂部分別安裝有第一出口管線、第四出口管線以及第五出口管線,第一出口管線與第四出口管線上均安裝有第二遠傳壓力表,第三除霧器的出口安裝有第一遠傳溫度計與第一遠傳壓力表,第五出口管線上安裝有止回閥門與在線微量水分分析儀。

    7、采用上述進一步方案的有益效果是,第一除霧器、第二除霧器以及第三除霧器內(nèi)部安裝的濾芯為高效除霧除水濾芯。通過遠傳壓差計與第一遠傳壓力表、第二遠傳壓力表對第一除霧器、第二除霧器以及第三除霧器實時監(jiān)測與報警,第一遠傳壓力表對出口管線的總管進行監(jiān)測,第二遠傳壓力表對第一出口管線與第四出口管線進行階段性的監(jiān)測。通過第一遠傳溫度計與在線微量水分分析儀對第五出口管線流出的hcl氣體進行測溫和測量水分。通過對hcl氣體經(jīng)過三級除水除霧,使得hcl氣體在出口端的含水量降至100ppm以下,既保障了hcl氣體的含水量,又大幅降低對設備、管線的酸腐蝕,降低了催化劑的損耗。通過與常規(guī)濃硫酸干燥工藝技術相比,本申請沒有廢硫酸處理的壓力,在工藝操作方面也更為安全。該項目可廣泛應用于化工生產(chǎn)中對hcl氣體含水較高的干燥工藝中。

    8、在上述技術方案的基礎上,本技術還可以做如下改進。

    9、進一步,第二除霧器與第三除霧器為串聯(lián)安裝。

    10、采用上述進一步方案的有益效果是,第二除霧器與第三除霧器為串聯(lián)安裝,可使得hcl氣體依次經(jīng)過第二除霧器與第三除霧器進行二級除霧除水,降低了hcl氣體的含水量,降低了hcl氣體對設備、管線的酸腐蝕,降低了催化劑的損耗。

    11、在上述技術方案的基礎上,本技術還可以做如下改進。

    12、進一步,第一排液管線上固定安裝有第一閥門、第二閥門與觀察視鏡,觀察視鏡的底部安裝有視鏡后閥門,第一排液管線連通冷凝鹽酸回用裝置。

    13、采用上述進一步方案的有益效果是,通過第一進水管線對第一除霧器、第二除霧器以及第三除霧器進行加水液封,通過觀察視鏡觀察,當液體的高度超過通過第一排液管線的高度時,打開第一閥門與第二閥門,將第一除霧器、第二除霧器以及第三除霧器內(nèi)多余的液體通過第一排液管線排出。

    14、在上述技術方案的基礎上,本技術還可以做如下改進。

    15、進一步,第一除霧器、第二除霧器以及第三除霧器的濾芯底部均具有排液口。

    16、采用上述進一步方案的有益效果是,在第一除霧器、第二除霧器以及第三除霧器的濾芯底部均具開設排液口,可以將鹽酸通過排液口排入到冷凝鹽酸回用管線進行回收再利用。

    17、在上述技術方案的基礎上,本技術還可以做如下改進。

    18、進一步,第一進水管線上均安裝有加水閥門,且第一進水管線連通加水管線。

    19、采用上述進一步方案的有益效果是,在第一進水管線上安裝加水閥門可以控制對第一除霧器、第二除霧器以及第三除霧器的加水量。

    20、在上述技術方案的基礎上,本技術還可以做如下改進。

    21、進一步,第一冷卻器與第二冷卻器為串聯(lián)安裝。

    22、采用上述進一步方案的有益效果是,第一冷卻器與第二冷卻器串聯(lián)安裝,可以對通入冷凝器內(nèi)的hcl氣體再次進行二級冷卻。使得hcl氣體的溫度降到更低,使得hcl氣體內(nèi)液體的凝結(jié)度更高,然后,將凝結(jié)后的液體進行排出,使得hcl氣體含水量減少,降低了對設備、管線的酸腐蝕。

    23、在上述技術方案的基礎上,本技術還可以做如下改進。

    24、進一步,第一冷卻器與第二冷卻器的頂部均設置有旁通管線,旁通管線上設置有旁通閥門,第二出口管線和第三出口管線上均設置有出口閥門。

    25、采用上述進一步方案的有益效果是,利用旁通管線可以調(diào)節(jié)、控制通入到第一冷卻器與第二冷卻器內(nèi)的hcl氣體量,以便達到最佳的降溫效果。

    26、在上述技術方案的基礎上,本技術還可以做如下改進。

    27、進一步,第一冷卻器與第二冷卻器的底部安裝第二進水管線,第二進水管線上均設置有自控閥門、進口閥門與第二遠傳溫度計,第一冷卻器與第二冷卻器的底部安裝回水管線,回水管線上設置有回水閥門,第一冷卻器與第二冷卻器的底部均安裝有第二排液管線,第二排液管線上均安裝有第三閥門、第四閥門與觀察視鏡,第二排液管線均連通冷凝鹽酸回用裝置。

    28、采用上述進一步方案的有益效果是,在第一冷卻器與第二冷卻器的出口固定設置第二遠傳溫度計,可以對第一冷卻器與第二冷卻器進行遠傳溫度實時監(jiān)測與報警。第一冷卻器與第二冷卻器安裝的第二進水管線與回水管線為冷凍水循環(huán)管線,在冷凍水供水管線上固定安裝自控閥門,自控閥門與第一冷卻器和第二冷卻器出口的溫度進行自動跟蹤與調(diào)節(jié)。第二排液管線上通過固定安裝第三閥門、第四閥門以及觀察視鏡,控制與觀察第二排液管線內(nèi)液本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術保護點】

    1.一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,包括第一除霧器(1)、第二除霧器(2)、第三除霧器(3)、第一冷卻器(4)以及第二冷卻器(5),所述第一除霧器(1)的第一出口管線(6)連通所述第一冷卻器(4),所述第一冷卻器(4)的第二出口管線(7)連通所述第二冷卻器(5),所述第二冷卻器(5)的第三出口管線(8)連通所述第二除霧器(2),所述第二除霧器(2)的第四出口管線(9)連通所述第三除霧器(3)。

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第一除霧器(1)與所述第二除霧器(2)以及所述第三除霧器(3)的內(nèi)部均安裝有濾芯(15),出口均安裝有遠傳壓差計(16),底部均固定安裝有第一排液管線(18)與第一進水管線(19),所述第一除霧器(1)、所述第二除霧器(2)以及所述第三除霧器(3)頂部分別安裝有第一出口管線(6)、第四出口管線(9)以及第五出口管線(10),所述第一出口管線(6)與所述第四出口管線(9)上均安裝有第二遠傳壓力表(17),所述第三除霧器(3)的出口安裝有第一遠傳溫度計(11)與第一遠傳壓力表(12),第五出口管線(10)上安裝有止回閥門(13)與在線微量水分分析儀(14)。

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第二除霧器(2)與所述第三除霧器(3)為串聯(lián)安裝。

    4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第一排液管線(18)上固定安裝有第一閥門(20)、第二閥門(21)與觀察視鏡(22),所述觀察視鏡(22)的底部安裝有視鏡后閥門(23),所述第一排液管線(18)連通冷凝鹽酸回用裝置。

    5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第一除霧器(1)、所述第二除霧器(2)以及所述第三除霧器(3)的所述濾芯(15)底部均具有排液口(24)。

    6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第一進水管線(19)上均安裝有加水閥門(30),且所述第一進水管線(19)連通加水管線。

    7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第一冷卻器(4)與所述第二冷卻器(5)為串聯(lián)安裝。

    8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第一冷卻器(4)與所述第二冷卻器(5)的頂部均設置有旁通管線(25),所述旁通管線(25)上設置有旁通閥門(26),所述第二出口管線(7)和所述第三出口管線(8)上均設置有出口閥門(29)。

    9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種HCL氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第一冷卻器(4)與所述第二冷卻器(5)的底部安裝第二進水管線(27),所述第二進水管線(27)上均設置有自控閥門(28)、進口閥門(35)與第二遠傳溫度計(31),所述第一冷卻器(4)與所述第二冷卻器(5)的底部安裝回水管線(32),所述回水管線(32)上設置有回水閥門(33),所述第一冷卻器(4)與所述第二冷卻器(5)的底部均安裝有第二排液管線(34),所述第二排液管線(34)上均安裝有第三閥門(36)、第四閥門(37)與觀察視鏡(22),所述第二排液管線(34)均連通冷凝鹽酸回用裝置。

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    【技術特征摘要】

    1.一種hcl氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,包括第一除霧器(1)、第二除霧器(2)、第三除霧器(3)、第一冷卻器(4)以及第二冷卻器(5),所述第一除霧器(1)的第一出口管線(6)連通所述第一冷卻器(4),所述第一冷卻器(4)的第二出口管線(7)連通所述第二冷卻器(5),所述第二冷卻器(5)的第三出口管線(8)連通所述第二除霧器(2),所述第二除霧器(2)的第四出口管線(9)連通所述第三除霧器(3)。

    2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種hcl氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第一除霧器(1)與所述第二除霧器(2)以及所述第三除霧器(3)的內(nèi)部均安裝有濾芯(15),出口均安裝有遠傳壓差計(16),底部均固定安裝有第一排液管線(18)與第一進水管線(19),所述第一除霧器(1)、所述第二除霧器(2)以及所述第三除霧器(3)頂部分別安裝有第一出口管線(6)、第四出口管線(9)以及第五出口管線(10),所述第一出口管線(6)與所述第四出口管線(9)上均安裝有第二遠傳壓力表(17),所述第三除霧器(3)的出口安裝有第一遠傳溫度計(11)與第一遠傳壓力表(12),第五出口管線(10)上安裝有止回閥門(13)與在線微量水分分析儀(14)。

    3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種hcl氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第二除霧器(2)與所述第三除霧器(3)為串聯(lián)安裝。

    4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種hcl氣體除霧除水的工藝裝置,其特征在于,所述第一排液管線(18)上固定安裝有第一閥門(20)、第二閥門(21)與觀察視鏡(22),所述觀察視鏡(22)的底部安裝有視鏡后閥門(23...

    【專利技術屬性】
    技術研發(fā)人員:徐大順,楊光王志軍,林強,任海峰,陳奇張偉成,陳克鋒,何星,張文鵬,安恒吉,范國麗
    申請(專利權(quán))人:新疆中泰化學托克遜能化有限公司,
    類型:新型
    國別省市:

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