【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本技術涉及滑差機構，尤其是一種芯軸布磁結構及滑差機構。
技術介紹
1、在以往的磁控滑差機構中，通常采用的是單滑差機構結合獨立的磁環(huán)結構，在一些小體積要求的滑差機構中，因為體積限制，在狹窄空間內(nèi)按照傳統(tǒng)結構進行布磁則無法達到收卷力需求，因此，本申請要解決的技術問題在于通過何種結構實現(xiàn)小體積、大收卷力的效果。
技術實現(xiàn)思路
1、鑒于上述狀況，有必要提供一種解決上述至少一種問題的芯軸布磁結構及滑差機構。
2、一種芯軸布磁結構，包括芯軸，在所述芯軸上設置若干磁體環(huán)，若干所述磁體環(huán)之間等距；
3、所述磁體環(huán)固定在所述芯軸上，且二者的旋轉(zhuǎn)軸重合；
4、所述磁體環(huán)包括磁體支架和磁體，所述磁體有若干個；
5、所述磁體支架固定在所述芯軸上，所述磁體固定在所述磁體支架上。
6、作為本技術的進一步方案：所述磁體在所述磁體支架上呈環(huán)形陣列分布，陣列中心軸為磁體支架的中心軸；
7、所述磁體的磁極分布方向依據(jù)海爾貝克原理設置。
8、作為本技術的進一步方案：所述芯軸上包括若干個環(huán)狀槽；
9、若干所述環(huán)狀槽之間的距離相等；
10、所述磁體環(huán)設置在所述環(huán)狀槽之中。
11、作為本技術的進一步方案：所述磁體環(huán)的外圓周面突出于所述芯軸的外圓周面；
12、或，齊平于所述芯軸的外圓周面。
13、本技術還提供了一種滑差機構，包括上述任一所述的芯軸布磁結構；
14、還包括若干
15、每兩個外旋轉(zhuǎn)環(huán)和一個所述磁體環(huán)為一組，所述磁體環(huán)位于這兩個所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)之間；
16、所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)包括導體環(huán)，在同一組中，兩個所述導體環(huán)與同一個所述磁體環(huán)呈徑向相對設置；
17、所述導體環(huán)與所述磁體環(huán)發(fā)生相對旋轉(zhuǎn)時，所述導體環(huán)內(nèi)部產(chǎn)生傅科電流。
18、作為本技術的進一步方案：所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)還包括外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體，所述導體環(huán)設置在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體朝向述磁體環(huán)一端的內(nèi)緣，使所述導體環(huán)套于所述磁體環(huán)的外側，二者之間存在氣隙；
19、所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)旋轉(zhuǎn)時，與所述磁體環(huán)之間無接觸。
20、作為本技術的進一步方案：所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)還包括脹鍵和反推環(huán)，二者設置在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)的一端；
21、所述反推環(huán)設置于外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體內(nèi)部，且所述反推環(huán)與所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體之間設置有彈簧，所述反推環(huán)在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體內(nèi)沿芯軸的軸向活動；
22、所述脹鍵設置于所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體內(nèi)，且所述脹鍵可以伸出所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體；
23、所述脹鍵的底部與所述反推環(huán)接觸，所述反推環(huán)與所述脹鍵相互接觸部位均呈斜面，所述彈簧在不施加外力的時候，推動所述反推環(huán)，使所述脹鍵頂出。
24、作為本技術的進一步方案：所述芯軸上還設置活塞組件，所述活塞組件設置于兩個所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)之間；
25、所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)上設置所述脹鍵和所述反推環(huán)的一端朝向所述活塞組件。
26、作為本技術的進一步方案：所述活塞組件包括活塞架和若干活塞；
27、所述活塞架呈環(huán)狀設置于所述芯軸上，所述活塞設置在所述活塞架上的孔內(nèi)；
28、所述活塞的運動方向朝向所述活塞組件兩側的所述反推環(huán)。
29、上述芯軸布磁結構采用了將磁體環(huán)設置在芯軸上的做法，解決了傳統(tǒng)滑差機構在體積限制的前提下，達不到較大收卷力的問題；上述的滑差機構由于采用了該芯軸布磁機構，同時具備了小體積和大收卷力的優(yōu)勢。
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1.一種芯軸布磁結構，其特征在于：包括芯軸(100)，在所述芯軸(100)上設置若干磁體環(huán)(110)，若干所述磁體環(huán)(110)之間等距；
2.如權利要求1所述的芯軸布磁結構，其特征在于：
3.如權利要求2所述的芯軸布磁結構，其特征在于：所述芯軸(100)上包括若干個環(huán)狀槽(120)；
4.如權利要求3所述的芯軸布磁結構，其特征在于：所述磁體環(huán)(110)的外圓周面突出于所述芯軸(100)的外圓周面；
5.一種滑差機構，其特征在于：包括權利要求1-3中任一所述的芯軸布磁結構；
6.如權利要求5所述的滑差機構，其特征在于：所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)(200)還包括外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體(220)，所述導體環(huán)(210)設置在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)本體(220)朝向述磁體環(huán)(110)一端的內(nèi)緣，使所述導體環(huán)(210)套于所述磁體環(huán)(110)的外側，二者之間存在氣隙；
7.如權利要求5所述的滑差機構，其特征在于：所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)(200)還包括脹鍵(230)和反推環(huán)(240)，二者設置在所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)(200)的一端；
8.如權利要求7所述的滑差機
9.如權利要求8所述的滑差機構，其特征在于：所述活塞組件(300)包括活塞架(310)和若干活塞(320)；
...【技術特征摘要】
1.一種芯軸布磁結構，其特征在于：包括芯軸(100)，在所述芯軸(100)上設置若干磁體環(huán)(110)，若干所述磁體環(huán)(110)之間等距；
2.如權利要求1所述的芯軸布磁結構，其特征在于：
3.如權利要求2所述的芯軸布磁結構，其特征在于：所述芯軸(100)上包括若干個環(huán)狀槽(120)；
4.如權利要求3所述的芯軸布磁結構，其特征在于：所述磁體環(huán)(110)的外圓周面突出于所述芯軸(100)的外圓周面；
5.一種滑差機構，其特征在于：包括權利要求1-3中任一所述的芯軸布磁結構；
6.如權利要求5所述的滑差機構，其特征在于：所述外旋轉(zhuǎn)環(huán)(200)還包括外旋轉(zhuǎn)環(huán)本...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：周君，霍宏偉，
申請(專利權)人：深圳市佳得設備科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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