【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及對與測定對象物的測定相關聯的光量不均進行校正的測定方法和測定系統。
技術介紹
1、在使用應用反應試劑的試驗片，以發光強度檢測試樣中的測定對象物與反應試劑的反應的測定系統中，測定光不一定均勻地照射到試驗片的測定區域。因此，進行了各種對試驗片的測定區域均勻地照射、或校正所照射的光量的不均的嘗試。
2、在下述專利文獻1所記載的技術中，在利用圖像傳感器進行測定時，實施入射光的分布校正和使基準物質的測定結果均勻的光量不均的校正。在下述專利文獻2所記載的技術中，為了定期地檢查照明裝置的照度是否充分、拍攝裝置中的拍攝元件的靈敏度是否劣化等，使用專用的檢查用試驗片進行精度管理。在下述專利文獻3所記載的技術中，公開了基于熄滅狀態下的光量分布和校正用光量分布來校正點亮狀態下的光量分布。
3、在下述專利文獻4和下述專利文獻5所記載的技術中，公開了如下技術：利用智能手機的相機對涂布試樣前的光學試驗條和涂布試樣后的光學試驗條這兩者進行拍攝，并對涂布前后的圖像進行解析。即，在專利文獻4中，公開了用于對涂布前后的圖像的強度進行比較，并在周圍的照明條件隨時間變化的情況下進行應對的技術，在專利文獻5中，目的在于根據涂布前后的圖像使拍攝位置相同。
4、現有技術文獻
5、專利文獻
6、專利文獻1：wo2002/039094a1
7、專利文獻2：日本特開2014-190926號公報
8、專利文獻3：日本特開平7-332935號公報
9、專利文獻4：日本特表20
10、專利文獻5：日本特表2023-503863號公報
技術實現思路
1、專利技術所要解決的課題
2、本公開的實施方式提供一種測定方法和測定系統，通過簡單的構成要素來校正與測定對象物的測定相關聯的光量不均。
3、用于解決課題的技術方案
4、本公開的一個方式的測定方法為：對于應用反應試劑并且導入含有與該反應試劑發生反應的測定對象物的試樣的試驗片，在對導入試樣前的試驗片的測定區域照射測定光的狀態下拍攝測定前圖像；針對拍攝到的測定前圖像中的多個測定部位的每一個測定發光強度；針對每個測定部位確定使測定前圖像中的各測定部位的發光強度均勻的運算值；在對導入試樣后的試驗片的測定區域照射測定光的狀態下拍攝測定圖像；針對拍攝到的測定圖像中的與測定前圖像的各測定部位對應的每個測定部位測定發光強度；及將測定圖像中的各測定部位的發光強度利用該測定部位的所述運算值進行校正。
5、本公開的一個方式是一種測定系統，將試驗片配置于內部的測定區域來測定試驗片，該試驗片應用反應試劑并且導入含有與該反應試劑發生反應的測定對象物的試樣，其中，所述測定系統具備：光源，對配置于測定區域的試驗片的測定區域照射測定光；拍攝部，拍攝試驗片的測定區域的圖像；及解析部，對拍攝部拍攝到的圖像進行解析，拍攝部通過對導入試樣前的試驗片的測定區域在從光源照射測定光的狀態下進行拍攝而取得測定前圖像，并且通過對導入試樣后的試驗片的測定區域在從光源照射測定光的狀態下進行拍攝而取得測定圖像，解析部針對測定前圖像中的多個測定部位的每一個確定使各測定部位的發光強度均勻的運算值，并且基于運算值對與測定前圖像的各測定部位對應的測定圖像的每個測定部位的發光強度進行校正。
6、專利技術效果
7、根據本公開的實施方式，提供一種測定方法和測定系統，通過簡單的構成要素來校正與測定對象物的測定相關聯的光量不均。
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1.一種測定方法，
2.根據權利要求1所述的測定方法，其中，
3.根據權利要求2所述的測定方法，其中，
4.一種測定系統，將試驗片配置于內部的測定區域來測定所述試驗片，所述試驗片應用反應試劑并且導入含有與該反應試劑發生反應的測定對象物的試樣，該測定系統具備：
5.根據權利要求4所述的測定系統，其中，
6.根據權利要求5所述的測定系統，其中，
7.根據權利要求4至6中任一項所述的測定系統，其中，
【技術特征摘要】
1.一種測定方法，
2.根據權利要求1所述的測定方法，其中，
3.根據權利要求2所述的測定方法，其中，
4.一種測定系統，將試驗片配置于內部的測定區域來測定所述試驗片，所述試驗片應用反應試劑并且導入...
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