【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本公開一般涉及光電器件，具體涉及一種超表面陣列及具有其的光學(xué)模組、電子設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、散斑結(jié)構(gòu)光3d傳感器通過投射特殊編碼的散斑圖案并捕捉其反射形變，即結(jié)合圖像匹配算法計(jì)算像素變形量，來獲取物體的深度信息。具體地，散斑結(jié)構(gòu)光圖像匹配算法首先將標(biāo)定好的平面散斑圖作為參考圖，其次以反射圖中單個(gè)像素點(diǎn)為基準(zhǔn)選擇一個(gè)圖像塊，并在參考圖上搜索與之相匹配的圖像塊，最后計(jì)算這兩個(gè)圖像塊的偏移，就可以得到該像素點(diǎn)的視差，從而可以根據(jù)三角測量原理算出深度值。
2、目前，相關(guān)技術(shù)中散斑結(jié)構(gòu)光3d傳感器的散斑密度小，使得深度圖存在“黑洞”等不良現(xiàn)象，后續(xù)無法進(jìn)行正確地圖像匹配，嚴(yán)重影響了3d感知的準(zhǔn)確性和可靠性。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、鑒于相關(guān)技術(shù)中的上述缺陷或不足，期望提供一種超表面陣列及具有其的光學(xué)模組、電子設(shè)備，能夠有效增大散斑密度，提高后續(xù)深度信息計(jì)算的準(zhǔn)確性和可靠性。
2、第一方面，本公開提供一種超表面陣列，所述超表面陣列包括多個(gè)光學(xué)單元，所述光學(xué)單元的幾何參數(shù)基于幾何參數(shù)與透射率的對應(yīng)關(guān)系以及幾何參數(shù)與透射相位的對應(yīng)關(guān)系，分別與不同偏振方向光對應(yīng)的二維相位分布進(jìn)行匹配得到；
3、其中，所述幾何參數(shù)與透射率的對應(yīng)關(guān)系表征所述不同偏振方向光入射條件下，不同幾何參數(shù)的光學(xué)單元所對應(yīng)的透射率；所述幾何參數(shù)與透射相位的對應(yīng)關(guān)系表征所述不同偏振方向光入射條件下，不同幾何參數(shù)的光學(xué)單元所對應(yīng)的透射相位。
4、可選地，在本公開一些實(shí)施例中，所述不同偏振方向光
5、可選地，在本公開一些實(shí)施例中，所述光學(xué)單元的幾何參數(shù)中長度范圍為50nm～450nm，寬度范圍為50nm～450nm，高度為750nm。
6、可選地，在本公開一些實(shí)施例中，所述光學(xué)單元的形狀包括圓柱結(jié)構(gòu)和棱柱結(jié)構(gòu)中的任意一種。
7、第二方面，本公開提供一種光學(xué)模組，所述光學(xué)模組包括沿出射光方向依次設(shè)置的光源、準(zhǔn)直透鏡、偏振片以及第一方面中任意一項(xiàng)所述的超表面陣列。
8、可選地，在本公開一些實(shí)施例中，所述光源為垂直腔面發(fā)射激光器。
9、第三方面，本公開提供一種電子設(shè)備，所述電子設(shè)備包括第二方面中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)模組。
10、從以上技術(shù)方案可以看出，本公開具有以下優(yōu)點(diǎn)：
11、本公開提供了一種超表面陣列及具有其的光學(xué)模組、電子設(shè)備，該超表面陣列包括多個(gè)光學(xué)單元，而光學(xué)單元的幾何參數(shù)基于幾何參數(shù)與透射率的對應(yīng)關(guān)系以及幾何參數(shù)與透射相位的對應(yīng)關(guān)系，分別與不同偏振方向光對應(yīng)的二維相位分布進(jìn)行匹配得到。其中，幾何參數(shù)與透射率的對應(yīng)關(guān)系表示不同偏振方向光入射條件下，不同幾何參數(shù)的光學(xué)單元所對應(yīng)的透射率，而幾何參數(shù)與透射相位的對應(yīng)關(guān)系表示不同偏振方向光入射條件下，不同幾何參數(shù)的光學(xué)單元所對應(yīng)的透射相位。由于該超表面陣列融合了不同偏振方向光對應(yīng)的二維相位分布，從而可以利用超表面在亞波長尺度上精確控制入射電磁波的相位等特性，能夠在遠(yuǎn)場生成相互疊加的散斑分布圖，有效增大了散斑密度，同時(shí)極大地提高了后續(xù)深度信息計(jì)算的準(zhǔn)確性，可靠性強(qiáng)。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種超表面陣列，其特征在于，所述超表面陣列包括多個(gè)光學(xué)單元，所述光學(xué)單元的幾何參數(shù)基于幾何參數(shù)與透射率的對應(yīng)關(guān)系以及幾何參數(shù)與透射相位的對應(yīng)關(guān)系，分別與不同偏振方向光對應(yīng)的二維相位分布進(jìn)行匹配得到；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超表面陣列，其特征在于，所述不同偏振方向光包括第一偏振方向光和第二偏振方向光，其中第一偏振方向和第二偏振方向相互垂直。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超表面陣列，其特征在于，所述光學(xué)單元的幾何參數(shù)中長度范圍為50nm～450nm，寬度范圍為50nm～450nm，高度為750nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的超表面陣列，其特征在于，所述光學(xué)單元的形狀包括圓柱結(jié)構(gòu)和棱柱結(jié)構(gòu)中的任意一種。
5.一種光學(xué)模組，其特征在于，所述光學(xué)模組包括沿出射光方向依次設(shè)置的光源、準(zhǔn)直透鏡、偏振片以及權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的超表面陣列。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)模組，其特征在于，所述光源為垂直腔面發(fā)射激光器。
7.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備包括權(quán)利要求5至6中任意一項(xiàng)所述的光學(xué)模組
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種超表面陣列，其特征在于，所述超表面陣列包括多個(gè)光學(xué)單元，所述光學(xué)單元的幾何參數(shù)基于幾何參數(shù)與透射率的對應(yīng)關(guān)系以及幾何參數(shù)與透射相位的對應(yīng)關(guān)系，分別與不同偏振方向光對應(yīng)的二維相位分布進(jìn)行匹配得到；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超表面陣列，其特征在于，所述不同偏振方向光包括第一偏振方向光和第二偏振方向光，其中第一偏振方向和第二偏振方向相互垂直。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超表面陣列，其特征在于，所述光學(xué)單元的幾何參數(shù)中長度范圍為50nm～450nm，寬度范圍為50nm～4...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：吳辰陽，黃選綸，紀(jì)一鵬，王嘉星，常瑞華，
申請(專利權(quán))人：深圳博升光電科技有限公司，
類型：新型
國別省市：
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