【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及x射線產生裝置、x射線成像裝置以及x射線產生裝置的調整方法。
技術介紹
1、在透射型微焦x射線管中，利用電子束照射靶材以產生x射線。然而，在這樣的x射線管中，由于利用電子束照射靶材而產生熱，因此靶材容易劣化。
2、專利文獻1描述了一種技術，其中在x射線產生管球的周圍布置磁鐵部，通過旋轉磁鐵部來改變電子束在靶材上的照射位置，從而延長x射線產生管球的壽命。然而，如果如專利文獻1所述通過移動磁鐵部來改變電子束在靶材上的照射位置，則來自x射線產生裝置的x射線的發射位置即焦點位置被改變。因此，在每次移動磁鐵部時，即每次改變焦點位置時，必須對用于檢測從x射線產生裝置發射的x射線的x射線檢測器進行對位。
3、現有技術文獻
4、專利文獻
5、專利文獻1：日本專利第4309176號公報
技術實現思路
1、本專利技術提供一種有利于不改變焦點位置而延長靶材或x射線產生管的壽命的技術。
2、本專利技術的第一方面涉及一種x射線成像裝置，所述x射線成像裝置包括：x射線產生裝置，所述x射線產生裝置包括：x射線產生管，包括電子槍以及被配置為接收從所述電子槍發射的電子束以產生x射線的靶材；支撐結構，被配置為支撐所述x射線產生管；以及偏轉器，被配置為使所述電子束偏轉；x射線檢測器，被配置為檢測從所述x射線產生裝置發射的x射線；以及控制裝置，被配置為控制所述x射線產生裝置。所述支撐結構支撐所述x射線產生管，以在所述偏轉器被固定的狀態下至少允許所述
3、本專利技術的第二方面涉及x射線產生裝置的調整方法，所述x射線產生裝置包括：x射線產生管，包括電子槍以及被配置為接收從所述電子槍發射的電子束以產生x射線的靶材；支撐結構，被配置為支撐所述x射線產生管；以及偏轉器，被配置為使所述電子束偏轉。所述方法包括：轉動步驟，根據所述x射線產生裝置的使用量和/或所述x射線產生裝置產生的x射線的改變，在所述偏轉器被固定的狀態下至少使所述靶材轉動。
4、本專利技術的第三方面涉及x射線產生裝置，所述x射線產生裝置包括：x射線產生管，包括電子槍以及被配置為接收從所述電子槍發射的電子束以產生x射線的靶材；支撐結構，被配置為支撐所述x射線產生管；以及偏轉器，被配置為使所述電子束偏轉。所述靶材具有圓形形狀且由單一金屬或單一合金形成，所述支撐結構支撐所述x射線產生管，以在所述偏轉器被固定的狀態下至少允許所述靶材繞與所述電子槍的中心軸一致的轉動軸轉動。
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1.一種X射線成像裝置，包括：
2.如權利要求1所述的X射線成像裝置，其中，所述支撐結構支撐所述X射線產生管，以在所述偏轉器被固定的狀態下允許所述X射線產生管轉動。
3.如權利要求1或2所述的X射線成像裝置，其中，所述支撐結構支撐所述X射線產生管，以允許所述X射線產生管繞與所述電子槍的中心軸一致的轉動軸轉動。
4.如權利要求3所述的X射線成像裝置，其中，所述電子槍的中心軸通過所述靶材的中心。
5.如權利要求1至4中任一項所述的X射線成像裝置，其中，在所述電子束未被所述偏轉器偏轉的情況下，所述電子束入射至所述靶材的中心。
6.如權利要求1至5中任一項所述的X射線成像裝置，其中，
7.如權利要求6所述的X射線成像裝置，其中，在所述X射線產生管與所述儲存部之間的空間中布置有絕緣流體。
8.如權利要求7所述的X射線成像裝置，還包括O形環，
9.如權利要求6至8中任一項所述的X射線成像裝置，其中，所述偏轉器包括被布置為隔著所述儲存部而彼此面對的第一磁鐵和第二磁鐵。
10.如權利要求1
11.一種X射線產生裝置的調整方法，所述X射線產生裝置包括：X射線產生管，包括電子槍以及被配置為接收從所述電子槍發射的電子束以產生X射線的靶材；支撐結構，被配置為支撐所述X射線產生管；以及偏轉器，被配置為使所述電子束偏轉，所述方法包括：
12.如權利要求11所述的X射線產生裝置的調整方法，其中，在所述轉動步驟中，在所述偏轉器被固定的狀態下使所述X射線產生管轉動。
13.如權利要求11或12所述的X射線產生裝置的調整方法，其中，在所述轉動步驟中，使所述X射線產生管繞與所述電子槍的中心軸一致的轉動軸轉動。
14.如權利要求13所述的X射線產生裝置的調整方法，其中，所述電子槍的中心軸通過所述靶材的中心。
15.如權利要求11至14中任一項所述的X射線產生裝置的調整方法，其中，在所述電子束未被所述偏轉器偏轉的情況下，所述電子束入射至所述靶材的中心。
16.如權利要求11至15中任一項所述的X射線產生裝置的調整方法，其中，
17.如權利要求16所述的X射線產生裝置的調整方法，其中，所述偏轉器包括被布置為隔著所述儲存部而彼此面對的第一磁鐵和第二磁鐵。
18.一種X射線產生裝置，包括：
...【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】
1.一種x射線成像裝置，包括：
2.如權利要求1所述的x射線成像裝置，其中，所述支撐結構支撐所述x射線產生管，以在所述偏轉器被固定的狀態下允許所述x射線產生管轉動。
3.如權利要求1或2所述的x射線成像裝置，其中，所述支撐結構支撐所述x射線產生管，以允許所述x射線產生管繞與所述電子槍的中心軸一致的轉動軸轉動。
4.如權利要求3所述的x射線成像裝置，其中，所述電子槍的中心軸通過所述靶材的中心。
5.如權利要求1至4中任一項所述的x射線成像裝置，其中，在所述電子束未被所述偏轉器偏轉的情況下，所述電子束入射至所述靶材的中心。
6.如權利要求1至5中任一項所述的x射線成像裝置，其中，
7.如權利要求6所述的x射線成像裝置，其中，在所述x射線產生管與所述儲存部之間的空間中布置有絕緣流體。
8.如權利要求7所述的x射線成像裝置，還包括o形環，
9.如權利要求6至8中任一項所述的x射線成像裝置，其中，所述偏轉器包括被布置為隔著所述儲存部而彼此面對的第一磁鐵和第二磁鐵。
10.如權利要求1至9中任一項所述的x射線成像裝置，其中，所述x射線產生管包括表示所述x射線產生管相對于所述支撐結構的轉...
【專利技術屬性】
技術研發人員：安藤洋一，
申請(專利權)人：佳能安內華股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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