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    一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置制造方法及圖紙

    技術編號:43390332 閱讀:7 留言:0更新日期:2024-11-19 18:04
    本發明專利技術涉及單晶爐清理裝置相關領域,尤其涉及一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,包括外連接外部升降設備的支撐固定架、循環擺動機構和刮掃機構,循環擺動機構安裝于支撐固定架上,循環擺動機構底部連接刮掃機構;本發明專利技術通過設置了循環擺動機構,在第一電機帶動下,轉動柄轉動同步帶動擺動架擺動,并配合側固定架的固定支撐,使擺動桿擺動,同步的帶動底部刮掃機構,由刮掃機構循環擺動可以有效的對單晶爐上爐室內壁進行刮掃工作,使單晶爐上爐室內壁清理更為徹底,也提高了清理效率。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及單晶爐清理裝置,具體為一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置


    技術介紹

    1、單晶爐是通過直拉法生產單晶硅的設備,單晶爐主室主要用于硅料的加熱反應,在主室中形成的晶體通過副室中的提升裝置被向上提拉至副室內,單晶拉制過程中,氬氣會通過副室流入到主室中,氬氣攜帶著反應的揮發物順著副室向下運動,揮發物在運動過程中會在爐膛內壁上產生沉積,若不及時清理,沉積物易在拉晶過程中落入主室的硅料中致使硅料受到污染,因此,保持單晶爐副室內部環境的清潔是保障晶體成晶質量的關鍵。

    2、現有清理方式有采用手動式清理,也有機械式清理,現有專利公開號為cn219150891u的一種單晶爐副室自動清理裝置,屬于單晶爐副室清理
    ,單晶爐副室自動清理裝置包括清理推車、升降機構、連桿、支撐板、清理環、清理刷頭、驅動齒輪、減速電機,升降機構安裝在清理推車上,升降機構上端固定安裝有連桿,連桿上垂直安裝有支撐板,且支撐板上設置有環形滑軌,清理環上設置有與環形滑軌相匹配的滑槽,清理環可滑動安裝在支撐板上,且清理環外壁上陣列設置有若干清理刷頭,清理環內壁上設置有輪齒,且清理環內側設置有與輪齒相嚙合的驅動齒輪,驅動齒輪與安裝在支撐板上的減速電機驅動連接。

    3、上述現有專利及傳統的清理裝置存在以下問題:傳統的清理裝置是通過設置簡單的清理刷頭對單晶爐上爐室內壁進行清掃,其清理不徹底,促使上爐室內存留一些殘留物,影響后續的使用,同時也需要人工來回的清理,費時費力,清理效率低。


    技術實現思路

    1、本專利技術的目的在于提供一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,以解決上述
    技術介紹
    中提出的問題。

    2、為了實現上述目的,本專利技術采取以下技術方案:一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,包括連接外部升降設備的支撐固定架、循環擺動機構和刮掃機構,所述循環擺動機構安裝于支撐固定架上,所述循環擺動機構底部連接刮掃機構;所述循環擺動機構包括第一電機、側固定架、連接桿、轉動柄、球形接頭、擺動架和擺動桿,所述支撐固定架兩側分別安裝有一側固定架,且兩條側固定架底部由連接桿連接,所述第一電機安裝于支撐固定架上,第一電機底部輸出端上連接有轉動柄,所述轉動柄中部孔槽內活動連接有球形接頭,所述球形接頭底部連接兩條擺動架,兩條所述擺動架底部由擺動桿連接。

    3、優選的,所述擺動桿兩端與擺動架為活動連接,所述連接桿兩端與側固定架為活動連接。

    4、優選的,所述擺動桿與連接桿為一體式連接,且連接桿與擺動桿呈十字交叉。

    5、優選的,所述刮掃機構包括外筒、通槽、第一隔板、第二隔板、第三隔板、固定柱、第一滑槽、第二滑槽、第一滑條、第二滑條、滑軸、推板、推送組件、第一滑塊、第二滑塊、第一連架桿、第二連架桿、第一清理塊和第二清理塊,兩條所述擺動架底部外側與外筒上端內兩側與連接,所述外筒底部設有一通槽,外筒內部從上至下分別設有第一隔板、第二隔板和第三隔板,所述第二隔板、第三隔板中部由固定柱連接,所述固定柱上分別設置有多組第一滑槽和第二滑槽,每組第一滑槽和第二滑槽內分別設有第一滑條、第二滑條,多組所述第一滑條上端由板體連接交匯,并在連接處上連接有滑軸,多組所述第二滑條上端均與推板底部連接,所述滑軸貫穿推板中部的一端以及推板上端均與推送組件連接,所述第一滑條、第二滑條底部分別連接第一滑塊、第二滑塊,所述第一滑塊、第二滑塊上分別轉動連接有第一連架桿、第二連架桿,所述第一連架桿、第二連架桿另一端分別連接第一清理塊和第二清理塊,所述第一清理塊和第二清理塊與通槽相配合。

    6、優選的,所述第一滑槽和第二滑槽設置有不少于兩組,且第一滑槽和第二滑槽為交替設置,所述第一滑條、第二滑條與第一滑槽和第二滑槽數量相對應。

    7、優選的,所述第一清理塊、第二清理塊與第一滑條、第二滑條數量相對應,每組第一清理塊和第二清理塊相匹配,伸出通槽的第一清理塊和第二清理塊組成圓形結構。

    8、優選的,每組所述第一清理塊外側邊緣上均設有刮刀、每組所述第二清理塊外側邊緣上均設有清掃刷。

    9、優選的,所述推送組件包括兩塊固定支座、傳動軸桿、第二電機、第一齒輪、第二齒輪、第三齒輪、中心齒條、第一側齒條和第二側齒條,兩塊所述固定支座固定于外筒內壁,且兩塊固定支座上安裝有傳動軸桿,所述傳動軸桿一端與安裝于一側固定支座上的第二電機輸出端連接,所述傳動軸桿上安裝有第一齒輪、第二齒輪和第三齒輪,所述第一齒輪位于第二齒輪和第三齒輪之間,所述第一齒輪、第二齒輪和第三齒輪后側分別設有中心齒條、第一側齒條和第二側齒條,且第一齒輪、第二齒輪和第三齒輪的齒槽分別與中心齒條、第一側齒條和第二側齒條相互嚙合,所述中心齒條底部連接滑軸,所述第一側齒條和第二側齒條底部分別連接推板。

    10、優選的,所述第一齒輪、第二齒輪和第三齒輪均設置為不完全齒輪。

    11、優選的,所述第一齒輪與第二齒輪、第三齒輪的齒槽位置不對應,且第二齒輪和第三齒輪的齒槽位置左右相對稱。

    12、與現有技術相比,本專利技術的有益效果是:

    13、本專利技術通過設置了循環擺動機構,在第一電機帶動下,轉動柄轉動同步帶動擺動架擺動,并配合側固定架的固定支撐,使擺動桿擺動,同步的帶動底部刮掃機構,由刮掃機構循環擺動可以有效的對單晶爐上爐室內壁進行刮掃工作,使單晶爐上爐室內壁清理更為徹底,也提高了清理效率。

    14、本專利技術通過設置了刮掃機構,在推送組件的帶動下,可分開帶動第一清理塊和第二清理塊移動,使第一清理塊先從通槽伸出后其上端的刮刀進行刮掃工作,再由第二清理塊伸出后其上端的清掃刷進行清掃,實現分開進行刮掃工作,使單晶爐上爐室內壁清理更加徹底,清理效率更高;

    15、進一步設置的多組第一清理塊和第二清理塊,在同步伸出通槽后,可相互拼接成圓形,增加清理范圍,提高清理效率;

    16、進一步設置的推送組件,在第二電機的帶動下,第一齒輪、第二齒輪、第三齒輪分開帶動中心齒條、第一側齒條、第二側齒條進行轉動,由于三個齒輪為不完全齒輪,其第一齒輪帶動中心齒條移動的時間與第二齒輪、第三齒輪帶動第一側齒條、第二側齒條的時間不一致,使第一清理塊、第二清理塊伸出時間不一致,實現先刮后掃,再邊刮邊掃的效果,提高了清理的效率和質量。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,包括連接外部升降設備的支撐固定架(1),其特征在于:還包括循環擺動機構(2)和刮掃機構(3),所述循環擺動機構(2)安裝于支撐固定架(1)上,所述循環擺動機構(2)底部連接刮掃機構(3);

    2.根據權利要求1所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述擺動桿(27)兩端與擺動架(26)為活動連接,所述連接桿(23)兩端與側固定架(22)為活動連接。

    3.根據權利要求2所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述擺動桿(27)與連接桿(23)為一體式連接,且連接桿(23)與擺動桿(27)呈十字交叉。

    4.根據權利要求2所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述刮掃機構(3)包括外筒(31)、通槽(32)、第一隔板(33)、第二隔板(34)、第三隔板(35)、固定柱(36)、第一滑槽(37)、第二滑槽(38)、第一滑條(39)、第二滑條(310)、滑軸(311)、推板(312)、推送組件(313)、第一滑塊(314)、第二滑塊(315)、第一連架桿(316)、第二連架桿(317)、第一清理塊(318)和第二清理塊(319),兩條所述擺動架(26)底部外側與外筒(31)上端內兩側與連接,所述外筒(31)底部設有一通槽(32),外筒(31)內部從上至下分別設有第一隔板(33)、第二隔板(34)和第三隔板(35),所述第二隔板(34)、第三隔板(35)中部由固定柱(36)連接,所述固定柱(36)上分別設置有多組第一滑槽(37)和第二滑槽(38),每組第一滑槽(37)和第二滑槽(38)內分別設有第一滑條(39)、第二滑條(310),多組所述第一滑條(39)上端由板體連接交匯,并在連接處上連接有滑軸(311),多組所述第二滑條(310)上端均與推板(312)底部連接,所述滑軸(311)貫穿推板(312)中部的一端以及推板(312)上端均與推送組件(313)連接,所述第一滑條(39)、第二滑條(310)底部分別連接第一滑塊(314)、第二滑塊(315),所述第一滑塊(314)、第二滑塊(315)上分別轉動連接有第一連架桿(316)、第二連架桿(317),所述第一連架桿(316)、第二連架桿(317)另一端分別連接第一清理塊(318)和第二清理塊(319),所述第一清理塊(318)和第二清理塊(319)與通槽(32)相配合。

    5.根據權利要求1所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述第一滑槽(37)和第二滑槽(38)設置有不少于兩組,且第一滑槽(37)和第二滑槽(38)為交替設置,所述第一滑條(39)、第二滑條(310)與第一滑槽(37)和第二滑槽(38)數量相對應。

    6.根據權利要求5所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述第一清理塊(318)、第二清理塊(319)與第一滑條(39)、第二滑條(310)數量相對應,每組第一清理塊(318)和第二清理塊(319)相匹配,伸出通槽(32)的第一清理塊(318)和第二清理塊(319)組成圓形結構。

    7.根據權利要求6所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:每組所述第一清理塊(318)外側邊緣上均設有刮刀(301)、每組所述第二清理塊(319)外側邊緣上均設有清掃刷(302)。

    8.根據權利要求4所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述推送組件(313)包括兩塊固定支座(3131)、傳動軸桿(3132)、第二電機(3133)、第一齒輪(3134)、第二齒輪(3135)、第三齒輪(3136)、中心齒條(3137)、第一側齒條(3138)和第二側齒條(3139),兩塊所述固定支座(3131)固定于外筒(31)內壁,且兩塊固定支座(3131)上安裝有傳動軸桿(3132),所述傳動軸桿(3132)一端與安裝于一側固定支座(3131)上的第二電機(3133)輸出端連接,所述傳動軸桿(3132)上安裝有第一齒輪(3134)、第二齒輪(3135)和第三齒輪(3136),所述第一齒輪(3134)位于第二齒輪(3135)和第三齒輪(3136)之間,所述第一齒輪(3134)、第二齒輪(3135)和第三齒輪(3136)后側分別設有中心齒條(3137)、第一側齒條(3138)和第二側齒條(3139),且第一齒輪(3134)、第二齒輪(3135)和第三齒輪(3136)的齒槽分別與中心齒條(3137)、第一側齒條(3138)和第二側齒條(3139)相互嚙合,所述中心齒條(3137)底部連接滑軸(311),所述第一側齒條(3138)和第二側齒條(3139)底部分別連接推板(312)。

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    【技術特征摘要】

    1.一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,包括連接外部升降設備的支撐固定架(1),其特征在于:還包括循環擺動機構(2)和刮掃機構(3),所述循環擺動機構(2)安裝于支撐固定架(1)上,所述循環擺動機構(2)底部連接刮掃機構(3);

    2.根據權利要求1所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述擺動桿(27)兩端與擺動架(26)為活動連接,所述連接桿(23)兩端與側固定架(22)為活動連接。

    3.根據權利要求2所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述擺動桿(27)與連接桿(23)為一體式連接,且連接桿(23)與擺動桿(27)呈十字交叉。

    4.根據權利要求2所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述刮掃機構(3)包括外筒(31)、通槽(32)、第一隔板(33)、第二隔板(34)、第三隔板(35)、固定柱(36)、第一滑槽(37)、第二滑槽(38)、第一滑條(39)、第二滑條(310)、滑軸(311)、推板(312)、推送組件(313)、第一滑塊(314)、第二滑塊(315)、第一連架桿(316)、第二連架桿(317)、第一清理塊(318)和第二清理塊(319),兩條所述擺動架(26)底部外側與外筒(31)上端內兩側與連接,所述外筒(31)底部設有一通槽(32),外筒(31)內部從上至下分別設有第一隔板(33)、第二隔板(34)和第三隔板(35),所述第二隔板(34)、第三隔板(35)中部由固定柱(36)連接,所述固定柱(36)上分別設置有多組第一滑槽(37)和第二滑槽(38),每組第一滑槽(37)和第二滑槽(38)內分別設有第一滑條(39)、第二滑條(310),多組所述第一滑條(39)上端由板體連接交匯,并在連接處上連接有滑軸(311),多組所述第二滑條(310)上端均與推板(312)底部連接,所述滑軸(311)貫穿推板(312)中部的一端以及推板(312)上端均與推送組件(313)連接,所述第一滑條(39)、第二滑條(310)底部分別連接第一滑塊(314)、第二滑塊(315),所述第一滑塊(314)、第二滑塊(315)上分別轉動連接有第一連架桿(316)、第二連架桿(317),所述第一連架桿(316)、第二連架桿(317)另一端分別連接第一清理塊(318)和第二清理塊(319),所述第一清理塊(318)和第二清理塊(319)與通槽(32)相配合。

    5.根據權利要求1所述一種用于清理單晶爐圓筒式上爐室的裝置,其特征在于:所述第一滑槽(37)和第二滑槽(38)設置有不少于兩...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:瞿建強陸彬鋒王凱陸圣杰
    申請(專利權)人:光科真空科技泰興有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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