【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請涉及鍍膜,具體涉及一種墊板組件和鍍膜設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、在光伏鍍膜領(lǐng)域,一般利用鍍膜設(shè)備給產(chǎn)品鍍膜,鍍膜設(shè)備的工藝腔體的腔壁上也會(huì)被鍍上相應(yīng)的膜層,由于工藝腔體使用時(shí)間長,日積月累膜層逐漸增厚。由于鍍膜設(shè)備一般都是高溫鍍膜,因此工藝腔體的材質(zhì)一般為石英而非金屬。石英硬度高、脆性大。過厚的膜層會(huì)讓工藝腔體的腔壁上應(yīng)力過大,從而導(dǎo)致反應(yīng)腔碎裂。
2、工藝腔體的外側(cè)是加熱腔體。因此,工藝腔體碎裂后,工藝腔體的碎片會(huì)掉進(jìn)鍍膜設(shè)備的加熱腔室以及加熱腔室的爐絲縫隙,污染加熱腔室。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、有鑒于此,本申請實(shí)施例提供了一種墊板組件和鍍膜設(shè)備,解決了鍍膜設(shè)備中,工藝腔體碎裂后容易污染加熱腔室的問題。
2、第一方面,本申請的實(shí)施例提供了一種墊板組件,應(yīng)用于鍍膜設(shè)備,鍍膜設(shè)備包括加熱爐和工藝腔體,加熱爐包括加熱腔室,工藝腔體設(shè)置于加熱腔室內(nèi),墊板組件包括:至少一個(gè)墊板,設(shè)置于加熱腔室與工藝腔體之間;其中,墊板至少位于工藝腔體的下方。
3、結(jié)合第一方面,在第一方面的某些實(shí)現(xiàn)方式中,加熱腔室的底部包括加熱絲;其中,墊板設(shè)置于加熱絲上。
4、結(jié)合第一方面,在第一方面的某些實(shí)現(xiàn)方式中,加熱腔室的形狀為水平放置的圓柱形;其中,墊板在加熱腔室的徑向的截面形狀為第一圓弧形,第一圓弧形的圓心與加熱腔室的軸線重合。
5、結(jié)合第一方面,在第一方面的某些實(shí)現(xiàn)方式中,第一圓弧形的第一端、第一圓弧形的圓心和第一圓弧形的第二端形成的靠近墊板一側(cè)的第一夾
6、結(jié)合第一方面,在第一方面的某些實(shí)現(xiàn)方式中,墊板相對于加熱腔室的軸線所在豎直平面對稱。
7、結(jié)合第一方面,在第一方面的某些實(shí)現(xiàn)方式中,墊板的數(shù)量為多個(gè),多個(gè)墊板沿述加熱腔室的軸線方向依次連接。
8、結(jié)合第一方面,在第一方面的某些實(shí)現(xiàn)方式中,墊板的數(shù)量為多個(gè),多個(gè)墊板沿加熱腔室的周向依次連接,以形成第二圓弧形的墊板組件,第二圓弧形的圓心與加熱腔室的軸線重合,第二圓弧形的第一端、第二圓弧形的圓心和第二圓弧形的第二端形成的靠近墊板一側(cè)的第二夾角大于或等于180°。
9、結(jié)合第一方面,在第一方面的某些實(shí)現(xiàn)方式中,至少一個(gè)墊板包括相鄰設(shè)置的第一墊板和第二墊板;其中,第一墊板與第二墊板相接觸的一側(cè)具有凸起,第二墊板與第一墊板相接觸的一側(cè)具有凹陷,凸起與凹陷凹凸連接。
10、結(jié)合第一方面,在第一方面的某些實(shí)現(xiàn)方式中,墊板的材質(zhì)為透明石英或紅外輻射陶瓷。
11、第二方面,本申請的實(shí)施例提供了一種鍍膜設(shè)備,該鍍膜設(shè)備包括:加熱爐,加熱爐包括加熱腔室;工藝腔體,工藝腔體設(shè)置于加熱腔室內(nèi);第一方面任一項(xiàng)提及的墊板組件,設(shè)置于加熱腔室與工藝腔體之間。
12、本申請實(shí)施例提供的一種墊板組件,應(yīng)用于鍍膜設(shè)備,鍍膜設(shè)備包括加熱爐和工藝腔體,加熱爐包括加熱腔室,工藝腔體設(shè)置于加熱腔室內(nèi),墊板組件包括:至少一個(gè)墊板,設(shè)置于加熱腔室與工藝腔體之間;其中,墊板至少位于工藝腔體的下方。由于墊板設(shè)置于加熱腔室與工藝腔體之間,并且至少位于工藝腔體的下方,在工藝腔體碎裂的情況下,工藝腔體的碎片會(huì)掉落在其下方的墊板組件上,使得墊板組件可以接住工藝腔體的碎片,防止碎片污染加熱腔室。此外,這樣設(shè)置,使得墊板組件可以對加熱爐起到保護(hù)作用,工藝腔體的碎片會(huì)掉落在墊板組件的表面,在清理加熱腔室內(nèi)的工藝腔體的碎片時(shí),可以在墊板組件的表面將工藝腔體的碎片清理出去,從而降低碎片刮傷加熱爐的風(fēng)險(xiǎn),延長了加熱爐的使用壽命。
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1.一種墊板組件,其特征在于,應(yīng)用于鍍膜設(shè)備,所述鍍膜設(shè)備包括加熱爐和工藝腔體,所述加熱爐包括加熱腔室,所述工藝腔體設(shè)置于所述加熱腔室內(nèi),所述墊板組件包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊板組件,其特征在于,所述加熱腔室的底部包括加熱絲;
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊板組件,其特征在于,所述加熱腔室的形狀為水平放置的圓柱形;
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的墊板組件,其特征在于,所述第一圓弧形的第一端、所述第一圓弧形的圓心和所述第一圓弧形的第二端形成的靠近所述墊板一側(cè)的第一夾角小于180°。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的墊板組件,其特征在于,所述墊板相對于所述加熱腔室的軸線所在豎直平面對稱。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的墊板組件,其特征在于,所述墊板的數(shù)量為多個(gè),多個(gè)所述墊板沿所述加熱腔室的軸線方向依次連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的墊板組件,其特征在于,所述墊板的數(shù)量為多個(gè),多個(gè)所述墊板沿所述加熱腔室的周向依次連接,以形成第二圓弧形的所述墊板組件,所述第二圓弧形的圓心與所述加熱腔室的軸線重合,所述第二圓弧形的第一端、所述第二圓弧
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的墊板組件,其特征在于,至少一個(gè)所述墊板包括相鄰設(shè)置的第一墊板和第二墊板;
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的墊板組件,其特征在于,所述墊板的材質(zhì)為透明石英或紅外輻射陶瓷。
10.一種鍍膜設(shè)備,其特征在于,包括:
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種墊板組件,其特征在于,應(yīng)用于鍍膜設(shè)備,所述鍍膜設(shè)備包括加熱爐和工藝腔體,所述加熱爐包括加熱腔室,所述工藝腔體設(shè)置于所述加熱腔室內(nèi),所述墊板組件包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊板組件,其特征在于,所述加熱腔室的底部包括加熱絲;
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的墊板組件,其特征在于,所述加熱腔室的形狀為水平放置的圓柱形;
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的墊板組件,其特征在于,所述第一圓弧形的第一端、所述第一圓弧形的圓心和所述第一圓弧形的第二端形成的靠近所述墊板一側(cè)的第一夾角小于180°。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的墊板組件,其特征在于,所述墊板相對于所述加熱腔室的軸線所在豎直平面對稱。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的墊板組件,其特...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:屈亞運(yùn),朱太榮,易術(shù),張武,
申請(專利權(quán))人:拉普拉斯新能源科技股份有限公司,
類型:新型
國別省市:
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