【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本申請實施例涉及晶圓后處理，尤其涉及一種晶圓后處理系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
1、在晶圓制造流程中，化學(xué)機(jī)械拋光后對晶圓進(jìn)行清潔處理是必不可少的，該清潔處理通常是通過晶圓后處理系統(tǒng)完成的。
2、目前的晶圓后處理系統(tǒng)通常包括多個模塊，該多個模塊可以分別為兆聲清洗模塊、刷洗模塊、單片清洗模塊和甩干模塊，在使用晶圓后處理系統(tǒng)對晶圓進(jìn)行清潔處理的過程中，要在多個模塊之間搬運(yùn)晶圓，通常是采用多軸機(jī)械手或皮帶等搬運(yùn)工具進(jìn)行晶圓的搬運(yùn)。
3、但是，在多個模塊之間搬運(yùn)晶圓時，晶圓會反復(fù)與搬運(yùn)工具接觸，且晶圓會在搬運(yùn)工具的帶動下進(jìn)行多次移動，因此容易引起交叉污染的問題，這會影響晶圓的清潔效果。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、有鑒于此，本申請實施例提供一種晶圓后處理系統(tǒng)，以至少部分解決上述問題。
2、本申請的實施例提供了一種晶圓后處理系統(tǒng)，包括：承載裝置和多個作業(yè)裝置，所述多個作業(yè)裝置包括刷洗作業(yè)裝置和至少一個噴淋作業(yè)裝置；所述承載裝置，用于在所述噴淋作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，帶動放置于所述承載裝置上的晶圓進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；所述刷洗作業(yè)裝置，用于對晶圓進(jìn)行刷洗作業(yè)，并帶動晶圓相對于所述承載裝置進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；所述噴淋作業(yè)裝置，用于對晶圓進(jìn)行噴淋作業(yè)；其中，在所述多個作業(yè)裝置中的目標(biāo)作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，所述多個作業(yè)裝置中所述目標(biāo)作業(yè)裝置以外的每一所述作業(yè)裝置，均處于非作業(yè)狀態(tài)且位于避讓所述目標(biāo)作業(yè)裝置的作業(yè)范圍的位置，所述目標(biāo)作業(yè)裝置為所述多個作業(yè)裝置中的任一所述作業(yè)裝置。
3、在一種
4、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述第一承載體上轉(zhuǎn)動連接有多個限位輪；當(dāng)晶圓放置于所述第一承載體上時，晶圓抵接在所述多個限位輪之間，且晶圓的軸線與所述限位輪的軸線平行。
5、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述第二承載體上連接有多個卡柱；當(dāng)晶圓放置于所述第二承載體上時，晶圓抵接在所述多個卡柱之間。
6、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括箱體，所述承載裝置和所述多個作業(yè)裝置均位于所述箱體內(nèi)；所述第一承載體與所述箱體的底面之間連接有多個立板，至少兩個相鄰的所述立板之間存在空隙，當(dāng)所述第二承載體位于所述第一承載體的下方時，所述第二承載體位于所述多個立板之間；所述第二承載體與所述箱體的底面之間連接有支撐柱，所述支撐柱連接有用于控制支撐柱相對于所述箱體進(jìn)行旋轉(zhuǎn)和升降的控制裝置。
7、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括噴液裝置，所述噴液裝置設(shè)置在所述箱體內(nèi)；所述噴液裝置，用于在所述刷洗作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，通過所述多個立板中相鄰立板之間的空隙向所述第二承載體噴液。
8、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括防護(hù)罩；所述防護(hù)罩設(shè)置在所述箱體內(nèi)，所述防護(hù)罩的頂面開口，所述立板和所述支撐柱穿過所述防護(hù)罩的底面。
9、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述防護(hù)罩連接有用于控制所述防護(hù)罩相對于所述箱體升降的罩控制件，以使所述刷洗作業(yè)裝置作業(yè)時所述防護(hù)罩的位置低于所述噴淋作業(yè)裝置作業(yè)時所述防護(hù)罩的位置，其中，所述防護(hù)罩的位置為所述防護(hù)罩相對于所述箱體的位置。
10、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括箱體，所述承載裝置和所述多個作業(yè)裝置均位于所述箱體內(nèi)；所述箱體內(nèi)設(shè)置有第一立柱，所述第一立柱的下端與所述箱體的底面轉(zhuǎn)動連接；所述刷洗作業(yè)裝置的第一端與所述第一立柱連接，所述刷洗作業(yè)裝置的第二端用于對晶圓進(jìn)行刷洗；所述第一立柱連接有第一控制件，所述第一控制件用于控制所述第一立柱相對于所述箱體的底面轉(zhuǎn)動，以使在所述刷洗作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，所述刷洗作業(yè)裝置的第二端與晶圓抵接。
11、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述刷洗作業(yè)裝置包括兩個滾刷和兩個噴液管；所述滾刷為圓柱狀，所述滾刷的第一端繞所述滾刷的軸向與所述第一立柱轉(zhuǎn)動連接，在所述刷洗作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，所述兩個滾刷的第二端分別抵接在晶圓的兩側(cè)；所述滾刷連接有轉(zhuǎn)動控制件，所述轉(zhuǎn)動控制件用于控制所述滾刷轉(zhuǎn)動，以使在所述刷洗作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，所述兩個滾刷相對于所述第一立柱反向轉(zhuǎn)動；所述噴液管的第一端與所述第一立柱連接，在所述刷洗作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，所述兩個噴液管的第二端分別位于晶圓的兩側(cè)；所述噴液管連接有噴液控制件，所述噴液控制件用于控制所述噴液管的第二端噴液，以使在所述刷洗作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，所述噴液管的第二端向晶圓噴液。
12、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括箱體，所述承載裝置和所述多個作業(yè)裝置均位于所述箱體內(nèi)；所述箱體內(nèi)設(shè)置有第二立柱，所述第二立柱的下端與所述箱體的底面轉(zhuǎn)動連接；所述至少一個噴淋作業(yè)裝置包括兆聲噴淋作業(yè)裝置，所述兆聲噴淋作業(yè)裝置的第一端與所述第二立柱連接，所述兆聲噴淋作業(yè)裝置的第二端用于噴淋兆聲流體；所述第二立柱連接有第二控制件，所述第二控制件用于控制所述第二立柱相對于所述箱體的底面轉(zhuǎn)動，以使在所述兆聲噴淋作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，所述兆聲噴淋作業(yè)裝置的第二端位于晶圓的上方。
13、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括箱體，所述承載裝置和所述多個作業(yè)裝置均位于所述箱體內(nèi)；所述箱體內(nèi)設(shè)置有第三立柱，所述第三立柱的下端與所述箱體的底面轉(zhuǎn)動連接；所述至少一個噴淋作業(yè)裝置包括清洗液噴淋作業(yè)裝置，所述清洗液噴淋作業(yè)裝置的第一端與所述第三立柱連接，所述清洗液噴淋作業(yè)裝置的第二端用于噴淋清洗液；所述第三立柱連接有第三控制件，所述第三控制件用于控制所述第三立柱相對于所述箱體的底面轉(zhuǎn)動，以使在所述清洗液噴淋作業(yè)裝置進(jìn)行作業(yè)的過程中，所述清洗液噴淋作業(yè)裝置的第二端位于晶圓的上方。
14、在一種可能的實現(xiàn)方式中，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括噴氣裝置；所述噴氣裝置，用于在所述承載裝置帶動晶圓進(jìn)行旋轉(zhuǎn)以甩干晶圓的過程中，向晶圓表面噴射干燥氣體。
15、本專利技術(shù)的有益效果包括：
16、a.在晶圓后處理系統(tǒng)對晶圓進(jìn)行清潔處理時，無論是晶圓后處理系統(tǒng)對晶圓進(jìn)行刷洗作業(yè)還是噴淋作業(yè)，晶圓均安放在承載裝置上，有效縮小了晶圓后處理系統(tǒng)的占地面積；
17、b.相比于晶圓后處理系統(tǒng)在多個作業(yè)裝置之間搬運(yùn)晶圓的方案，本申請的晶圓后處理系統(tǒng)僅需對晶圓進(jìn)行上料搬運(yùn)和下料搬運(yùn)，無需在切換作業(yè)裝置作業(yè)時對晶圓進(jìn)行搬運(yùn)，即晶圓與搬運(yùn)工具接觸較少，且晶圓在搬運(yùn)工具的帶動下移動的次數(shù)較少，能夠減小清潔晶圓過程中晶圓后處理系統(tǒng)對晶圓的污染程度，優(yōu)化了晶圓后處理系統(tǒng)對晶圓的清潔效果；
18、c.相比于兆聲清洗模塊、刷洗模塊、單片清洗模塊和甩干模塊相互本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點】
1.一種晶圓后處理系統(tǒng)，其特征在于，包括：承載裝置和多個作業(yè)裝置，所述多個作業(yè)裝置包括刷洗作業(yè)裝置和至少一個噴淋作業(yè)裝置；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述承載裝置包括第一承載體和第二承載體，所述第一承載體內(nèi)設(shè)置有升降槽，所述第二承載體用于從所述升降槽穿過所述第一承載體進(jìn)行升降；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一承載體上轉(zhuǎn)動連接有多個限位輪；當(dāng)晶圓放置于所述第一承載體上時，晶圓抵接在所述多個限位輪之間，且晶圓的軸線與所述限位輪的軸線平行。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述第二承載體上連接有多個卡柱；當(dāng)晶圓放置于所述第二承載體上時，晶圓抵接在所述多個卡柱之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括箱體，所述承載裝置和所述多個作業(yè)裝置均位于所述箱體內(nèi)；
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括噴液裝置，所述噴液裝置設(shè)置在所述箱體內(nèi)；
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括防護(hù)罩；>
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述防護(hù)罩連接有用于控制所述防護(hù)罩相對于所述箱體升降的罩控制件，以使所述刷洗作業(yè)裝置作業(yè)時所述防護(hù)罩的位置低于所述噴淋作業(yè)裝置作業(yè)時所述防護(hù)罩的位置，其中，所述防護(hù)罩的位置為所述防護(hù)罩相對于所述箱體的位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括箱體，所述承載裝置和所述多個作業(yè)裝置均位于所述箱體內(nèi)；
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述刷洗作業(yè)裝置包括滾刷和噴液管；
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括箱體，所述承載裝置和所述多個作業(yè)裝置均位于所述箱體內(nèi)；
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括箱體，所述承載裝置和所述多個作業(yè)裝置均位于所述箱體內(nèi)；
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括噴氣裝置；
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種晶圓后處理系統(tǒng)，其特征在于，包括：承載裝置和多個作業(yè)裝置，所述多個作業(yè)裝置包括刷洗作業(yè)裝置和至少一個噴淋作業(yè)裝置；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述承載裝置包括第一承載體和第二承載體，所述第一承載體內(nèi)設(shè)置有升降槽，所述第二承載體用于從所述升降槽穿過所述第一承載體進(jìn)行升降；
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一承載體上轉(zhuǎn)動連接有多個限位輪；當(dāng)晶圓放置于所述第一承載體上時，晶圓抵接在所述多個限位輪之間，且晶圓的軸線與所述限位輪的軸線平行。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述第二承載體上連接有多個卡柱；當(dāng)晶圓放置于所述第二承載體上時，晶圓抵接在所述多個卡柱之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括箱體，所述承載裝置和所述多個作業(yè)裝置均位于所述箱體內(nèi)；
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓后處理系統(tǒng)還包括噴液裝置，所述噴液裝置設(shè)置在所述箱體內(nèi)；
7.根...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：劉效巖，楊雪梅，劉豐迪，
申請(專利權(quán))人：華海清科北京科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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