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    一種高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法技術

    技術編號:43470365 閱讀:14 留言:0更新日期:2024-11-27 13:08
    本發明專利技術提供了一種高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,該制備方法的步驟為:使用金剛石刀在潔凈的P型氮化物半導體表面作有規律的橫或縱向劃痕,實現粗糙化處理;將常用的電烙鐵加熱至400?500℃;用擠壓器將銦球或銦錫合金球預壓至劃痕區;用加熱至預設溫度的電烙鐵在銦球或銦錫合金球電極上做連續旋涂;最后讓電極自然冷卻至室溫即可得到P型歐姆接觸電極。本發明專利技術通過將P型氮化物半導體粗糙化處理,并在合適的溫度下將銦球電極旋涂處理,從而實現透明低阻歐姆接觸并提高電極的光透射率,為后續電學性能的測試提供了有效地保障。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術屬于半導體光電,特別涉及一種高效率環保型p型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法。


    技術介紹

    1、近年來,氮化物材料由于其寬禁帶、電子遷移率高等特點,在光電子和電力電子領域有著廣泛的應用。p型歐姆接觸影響器件的性能和可靠性,實現低阻、可重復性好的p型歐姆接觸對于氮化鎵(gan)基光電器件,特別是在高電流密度工作下的激光器非常重要。在實際應用中,制作低阻的p型gan歐姆接觸比較困難,主要是因為重摻雜的p型gan材料(p型濃度>1018cm-3)較難生長,還有就是缺乏合適的接觸金屬材料,p型gan材料的功函數很大(7.5ev),而功函數最大的金屬pt也只有5.65ev。除此之外,金屬化工藝(包括表面處理,金屬沉積和合金化處理)的條件也會影響p型gan的接觸電阻。雖然采用不同的工藝條件可以獲得類似歐姆性質的i-v特性,但是接觸電阻率通常為10-2-10-3w·cm2,這樣的阻值對于一般顯示用的發光二極管(led)不存在嚴重的問題,但是對于高電流密度工作的激光二極管(ld),會引起諸如缺陷生成,退化或者互擴散等問題,實現ld要求接觸電阻率必須低于10-4w·cm2。特別是p型gan歐姆接觸問題的研究還不夠成熟,依然還需要從p型gan本身的制備工藝、金屬化方案、表面預處理和合金化處理等方面做進一步的優化。


    技術實現思路

    1、本專利技術的目的在于提供一種高效率環保型p型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法。

    2、本專利技術的目的通過如下技術方案實現:

    3、一種高效率環保型p型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,包括以下步驟:

    4、在p型氮化物半導體表面作有規律的橫向或縱向劃痕;將銦球或銦錫合金球預壓至劃痕區;用400-500℃的電烙鐵在銦球或銦錫合金球電極上做連續旋涂;最后讓電極自然冷卻至室溫即可得到p型歐姆接觸電極。

    5、優選的是,所述的p型氮化物半導體用丙酮、酒精做表面潔凈處理。

    6、優選的是,所述的p型氮化物半導體表面橫向或縱向的劃痕深度為10-20nm。

    7、優選的是,所述的預壓的壓力為1.8-2.5kgf/cm2。

    8、優選的是,所述的銦球直徑規格為0.6-0.8mm、純度為99.99%。

    9、優選的是,所述的銦錫合金球直徑規格為1-1.5mm,合金質量含量中錫含量占比為15-35%。

    10、優選的是,所述的銦球電極做連續2-3min的旋涂。

    11、優選的是,所述的銦錫合金球電極做連續5-10min的旋涂。

    12、本專利技術方法涉及的高效率環保型p型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,是以銦球或銦錫合金球為前體,通過擠壓和熱熔手段將其附著于半導體片的劃痕區上,在熱融過程也間接實現了對電極的熱處理,使得電極與半導體能達到低阻接觸效果,這是后續電學性能測試中不可或缺的重要環節,有望在高電流密度工作下的激光器中得到廣泛應用。本專利技術的制備方法具有原料廉價易得、制備過程簡單、無環境污染等優點。

    本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    1.一種高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:

    2.根據權利要求1所述的高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的P型氮化物半導體用丙酮、酒精做表面潔凈處理。

    3.根據權利要求1所述的高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的P型氮化物半導體表面橫向或縱向的劃痕深度為10-20nm。

    4.根據權利要求1所述的高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的預壓的壓力為1.8-2.5kgf/cm2。

    5.根據權利要求1所述的高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的銦球直徑規格為0.6-0.8mm、純度為99.99%。

    6.根據權利要求1所述的高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的銦錫合金球直徑規格為1-1.5mm,合金質量含量中錫含量占比為15-35%。

    7.根據權利要求5所述的高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的銦球電極做連續2-3min的旋涂。

    8.根據權利要求6所述的高效率環保型P型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的銦錫合金球電極做連續5-10min的旋涂。

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    【技術特征摘要】

    1.一種高效率環保型p型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:

    2.根據權利要求1所述的高效率環保型p型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的p型氮化物半導體用丙酮、酒精做表面潔凈處理。

    3.根據權利要求1所述的高效率環保型p型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的p型氮化物半導體表面橫向或縱向的劃痕深度為10-20nm。

    4.根據權利要求1所述的高效率環保型p型氮化物半導體歐姆接觸電極制備方法,其特征在于,所述的預壓的壓力為1.8-2.5kgf/cm2。

    5.根據權利要求1所述的...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:韋文旺許秀寧謝泉文韓飛飛劉玉英龔靜怡李迪阮薇燕陸玉瑩
    申請(專利權)人:賀州學院
    類型:發明
    國別省市:

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