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    一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)技術(shù)方案

    技術(shù)編號(hào):43473904 閱讀:14 留言:0更新日期:2024-11-27 13:13
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì),方法包括以下步驟:建立差分過(guò)孔的等效物理模型;根據(jù)差分過(guò)孔的等效物理模型,建立對(duì)應(yīng)的等效電路模型;將等效電路模型簡(jiǎn)化為耦合雙桿傳輸線模型,預(yù)測(cè)和優(yōu)化差分過(guò)孔對(duì)高速信號(hào)傳輸?shù)挠绊懀焕肁DS仿真軟件對(duì)差分過(guò)孔的差分信號(hào)與共模信號(hào)的性能進(jìn)行分析,根據(jù)分析結(jié)果調(diào)整過(guò)孔參數(shù),得到過(guò)孔模型。能夠顯著減少信號(hào)在過(guò)孔處的損耗和失真,確保高速信號(hào)在PCB板上傳輸時(shí)具有更高的完整性和準(zhǔn)確性,從而增強(qiáng)系統(tǒng)的整體穩(wěn)定性。對(duì)差分過(guò)孔的差分信號(hào)與共模信號(hào)的性能進(jìn)行分析,有助于發(fā)現(xiàn)信號(hào)傳輸中的潛在問(wèn)題,如阻抗不連續(xù)、信號(hào)反射等,并且具有廣泛的適用性和環(huán)保節(jié)能的優(yōu)勢(shì)。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)屬于電路板設(shè)計(jì),涉及一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)


    技術(shù)介紹

    1、隨著信息技術(shù)的飛速發(fā)展,高速數(shù)據(jù)傳輸已成為現(xiàn)代通信系統(tǒng)、高性能計(jì)算和大數(shù)據(jù)分析等領(lǐng)域的關(guān)鍵需求。pcie(peripheral?component?interconnect?express)協(xié)議作為一種高速串行計(jì)算機(jī)擴(kuò)展總線標(biāo)準(zhǔn),其最新版本pcie?5.0提供了高達(dá)32gt/s的數(shù)據(jù)傳輸速率,具有ps級(jí)的邊沿速率,極大地提升了系統(tǒng)的數(shù)據(jù)傳輸能力和處理效率。在高速電路pcb主板設(shè)計(jì)中,由于主板層數(shù)多、厚度大,信號(hào)過(guò)孔的深度各不相同,這導(dǎo)致了過(guò)孔在信號(hào)傳輸過(guò)程中產(chǎn)生的寄生電容和電感也存在差異。這些寄生參數(shù)不僅會(huì)影響信號(hào)的傳輸速度和質(zhì)量,還可能導(dǎo)致信號(hào)的反射和失真,進(jìn)而影響整個(gè)系統(tǒng)的穩(wěn)定性和可靠性。

    2、當(dāng)前,針對(duì)高速信號(hào)差分過(guò)孔的優(yōu)化主要集中在優(yōu)化挖空反焊盤等單一措施上,而忽視了過(guò)孔深度對(duì)信號(hào)傳輸性能的影響。實(shí)際上,不同深度的過(guò)孔在信號(hào)傳輸過(guò)程中產(chǎn)生的寄生電容和電感是不同的,這直接影響了信號(hào)的傳輸質(zhì)量和系統(tǒng)的整體性能。當(dāng)信號(hào)通過(guò)過(guò)孔時(shí),電容和電感寄生效應(yīng)會(huì)導(dǎo)致信號(hào)的退化。通過(guò)圖1中的集總lc?pi型電路來(lái)說(shuō)明過(guò)孔電容和電感效應(yīng)。式(1)給出了通孔電容的經(jīng)驗(yàn)公式,式(2)給出了通孔電感的經(jīng)驗(yàn)公式,式(3)給出了阻抗的經(jīng)驗(yàn)公式。

    3、

    4、

    5、式中,cvia是寄生電容,lvia是寄生電感,z是阻抗,er是材料的介電常數(shù),d1是過(guò)孔盤的直徑,d2是反焊盤的直徑,t是過(guò)孔在pcb的厚度,h是過(guò)孔長(zhǎng)度,d是過(guò)孔筒直徑。

    6、過(guò)孔的寄生電容會(huì)延長(zhǎng)信號(hào)的上升時(shí)間,降低電路的運(yùn)行速度。而電容值的大小與過(guò)孔的直徑和pcb板的材料有關(guān),直徑越小、材料介電常數(shù)越低,電容值就越小,對(duì)信號(hào)的影響也就越小。另一方面,過(guò)孔的電感則主要由其長(zhǎng)度決定,長(zhǎng)度越長(zhǎng),電感值越大,對(duì)信號(hào)的影響也就越大。

    7、為了降低過(guò)孔對(duì)信號(hào)傳輸?shù)挠绊懀F(xiàn)有技術(shù)中采用差分過(guò)孔模型來(lái)計(jì)算差分阻抗。通過(guò)減小差分過(guò)孔的間距,增加孔間電容,匹配由于過(guò)孔長(zhǎng)度增加而產(chǎn)生的寄生電感。在一定程度上保證差分過(guò)孔阻抗的連續(xù)性,降低信號(hào)的插損和反射。然而在pcie?5.0高速信號(hào)傳輸過(guò)程中,鏈路中差分過(guò)孔的阻抗不連續(xù)成為影響信號(hào)完整性的重要因素。差分過(guò)孔作為高速pcb板中連接不同層間差分信號(hào)的關(guān)鍵結(jié)構(gòu),其阻抗不連續(xù)性會(huì)導(dǎo)致信號(hào)的反射、衰減和失真,從而影響到信號(hào)的傳輸質(zhì)量和系統(tǒng)的整體性能。

    8、針對(duì)上述問(wèn)題,現(xiàn)有技術(shù)中雖然已經(jīng)提出了一些優(yōu)化方法,如優(yōu)化過(guò)孔結(jié)構(gòu)、增加反焊盤等,但這些方法往往只考慮了單一因素,沒有綜合考慮信號(hào)過(guò)孔深度、寄生電容和電感等多種因素對(duì)信號(hào)完整性的影響。因此,如何在保證高速數(shù)據(jù)傳輸速率的同時(shí),實(shí)現(xiàn)差分過(guò)孔的低反射、高傳輸和阻抗穩(wěn)定,成為當(dāng)前高速電路設(shè)計(jì)領(lǐng)域亟待解決的問(wèn)題。


    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    1、本專利技術(shù)的目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)中在保證高速數(shù)據(jù)傳輸速率的同時(shí),實(shí)現(xiàn)差分過(guò)孔的低反射、高傳輸和阻抗穩(wěn)定的問(wèn)題,提供一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)。

    2、為達(dá)到上述目的,本專利技術(shù)采用以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn):

    3、一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,包括以下步驟:

    4、建立差分過(guò)孔的等效物理模型;

    5、根據(jù)差分過(guò)孔的等效物理模型,建立對(duì)應(yīng)的等效電路模型;

    6、將等效電路模型簡(jiǎn)化為耦合雙桿傳輸線模型,預(yù)測(cè)和優(yōu)化差分過(guò)孔對(duì)高速信號(hào)傳輸?shù)挠绊懀?/p>

    7、利用ads仿真軟件對(duì)差分過(guò)孔的差分信號(hào)與共模信號(hào)的性能進(jìn)行分析,根據(jù)分析結(jié)果調(diào)整過(guò)孔參數(shù),得到過(guò)孔模型。

    8、所述建立差分過(guò)孔的等效物理模型具體包括以下步驟:

    9、確定主板的層疊結(jié)構(gòu)和材料參數(shù),包括指定主板的厚度、層數(shù)以及各層的高速信號(hào)布線層,并設(shè)定用于構(gòu)建模型的材料屬性;

    10、建立3d模型,創(chuàng)建地層并設(shè)置地層材料屬性,構(gòu)建過(guò)孔,將地層和過(guò)孔結(jié)合成整體結(jié)構(gòu);

    11、設(shè)定參數(shù),包括孔徑尺寸、孔間距、焊盤和反焊盤尺寸,以及stub的長(zhǎng)度和信號(hào)路徑的長(zhǎng)度,建立差分過(guò)孔的等效物理模型。

    12、所述等效物理模型基于主板層疊結(jié)構(gòu),板厚為1.9mm,包含14層,并且l3、l5、l10、l12為高速信號(hào)布線層,pcie?5.0高速信號(hào)走線的目標(biāo)阻抗為85ohm。

    13、所述根據(jù)差分過(guò)孔的等效物理模型,建立對(duì)應(yīng)的等效電路模型具體包括以下步驟:

    14、識(shí)別等效物理模型中的參數(shù),包括孔徑尺寸、孔間距、焊盤和反焊盤尺寸,以及stub的長(zhǎng)度和信號(hào)路徑的長(zhǎng)度;

    15、確定等效電路元件,包括電感、電容和電阻,其中電感用于模擬過(guò)孔帶來(lái)的信號(hào)延遲,電容用于模擬過(guò)孔與地之間的耦合電容,電阻用于模擬信號(hào)在過(guò)孔中的能量損耗;

    16、根據(jù)差分過(guò)孔的等效物理模型中的參數(shù),設(shè)置等效電路模型中電感、電容、電阻的具體數(shù)值,構(gòu)建等效電路模型。

    17、所述將等效電路模型簡(jiǎn)化為耦合雙桿傳輸線模型具體包括以下步驟:

    18、確定耦合雙桿傳輸線模型的結(jié)構(gòu),其中每個(gè)桿代表差分信號(hào)中的正線或負(fù)線,并在兩根桿之間加入耦合電容和耦合電感以模擬差分信號(hào)之間的耦合效應(yīng);

    19、從等效電路模型中提取參數(shù),包括每根傳輸線的電感值、每根傳輸線與地之間的電容值以及差分對(duì)之間的耦合電容值,同時(shí)還包括信號(hào)在傳輸過(guò)程中的能量損耗,提取每根傳輸線的電阻值;

    20、將提取的電感值、電容值和電阻值映射到耦合雙桿傳輸線模型上,其中電感值映射到每根桿上并考慮電感之間的串聯(lián)和并聯(lián)關(guān)系,電容值映射到與地和差分對(duì)之間的相應(yīng)位置,電阻值映射到模型上以模擬信號(hào)的能量損耗;

    21、對(duì)簡(jiǎn)化后的耦合雙桿傳輸線模型進(jìn)行仿真驗(yàn)證。

    22、所述耦合雙桿傳輸線模型在預(yù)測(cè)和優(yōu)化差分過(guò)孔對(duì)高速信號(hào)傳輸?shù)挠绊憰r(shí),通過(guò)奇模阻抗、偶模阻抗、差分阻抗和共模阻抗進(jìn)行分析,具體表達(dá)式如下:

    23、

    24、zdiff=2*zodd?(6)

    25、

    26、其中,zodd為奇模阻抗;zeven為偶模阻抗;zdiff為差分阻抗;zcomm為共模阻抗;er為材料的介電常數(shù);s為過(guò)孔中心距;r為過(guò)孔半徑;w為反焊盤長(zhǎng)度;h為反焊盤寬度;d為反焊盤直徑。

    27、所述利用ads仿真軟件對(duì)差分過(guò)孔的差分信號(hào)與共模信號(hào)的性能進(jìn)行分析,具體包括以下步驟:

    28、在ads仿真軟件中建立或?qū)氚罘诌^(guò)孔結(jié)構(gòu)的pcb板模型,并設(shè)置模型中的層疊結(jié)構(gòu)和材料參數(shù);

    29、在模型中設(shè)置差分信號(hào)源和共模信號(hào)源,以模擬實(shí)際電路中的差分信號(hào)與共模信號(hào)輸入;

    30、設(shè)置仿真分析的頻率范圍和求解類型,并確保模型中不同材料之間的結(jié)構(gòu)正確覆蓋;

    31、啟動(dòng)仿真運(yùn)行,并等待仿真完成;

    32、分析仿真結(jié)果,包括差分信號(hào)的傳輸系數(shù)s21和反射系數(shù)s11,以及共模信號(hào)的相應(yīng)參數(shù),以評(píng)估差分信號(hào)與共模本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    1.一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,包括以下步驟:

    2.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述建立差分過(guò)孔的等效物理模型具體包括以下步驟:

    3.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述等效物理模型基于主板層疊結(jié)構(gòu),板厚為1.9mm,包含14層,并且L3、L5、L10、L12為高速信號(hào)布線層,PCIE?5.0高速信號(hào)走線的目標(biāo)阻抗為85OHM。

    4.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述根據(jù)差分過(guò)孔的等效物理模型,建立對(duì)應(yīng)的等效電路模型具體包括以下步驟:

    5.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述將等效電路模型簡(jiǎn)化為耦合雙桿傳輸線模型具體包括以下步驟:

    6.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述耦合雙桿傳輸線模型在預(yù)測(cè)和優(yōu)化差分過(guò)孔對(duì)高速信號(hào)傳輸?shù)挠绊憰r(shí),通過(guò)奇模阻抗、偶模阻抗、差分阻抗和共模阻抗進(jìn)行分析,具體表達(dá)式如下:

    7.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述利用ADS仿真軟件對(duì)差分過(guò)孔的差分信號(hào)與共模信號(hào)的性能進(jìn)行分析,具體包括以下步驟:

    8.一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化系統(tǒng),其特征在于,包括以下模塊:

    9.一種設(shè)備,包括存儲(chǔ)器、處理器以及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器中并可在所述處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述方法的步驟。

    10.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其特征在于,所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述方法的步驟。

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    【技術(shù)特征摘要】

    1.一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,包括以下步驟:

    2.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述建立差分過(guò)孔的等效物理模型具體包括以下步驟:

    3.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述等效物理模型基于主板層疊結(jié)構(gòu),板厚為1.9mm,包含14層,并且l3、l5、l10、l12為高速信號(hào)布線層,pcie?5.0高速信號(hào)走線的目標(biāo)阻抗為85ohm。

    4.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述根據(jù)差分過(guò)孔的等效物理模型,建立對(duì)應(yīng)的等效電路模型具體包括以下步驟:

    5.如權(quán)利要求1所述的一種高速差分過(guò)孔深度優(yōu)化方法,其特征在于,所述將等效電路模型簡(jiǎn)化為耦合雙桿傳輸線模型具體包括以下步驟:

    6.如權(quán)利要求1所述的一種高速...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:石家偉唐斌
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:深圳市同泰怡信息技術(shù)有限公司
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:

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