【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及一種排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，詳細(xì)而言，涉及一種用于對(duì)來(lái)自半導(dǎo)體制造工藝等的排氣進(jìn)行處理的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法。
技術(shù)介紹
1、自半導(dǎo)體、液晶、發(fā)光二極管(light?emitting?diode，led)、太陽(yáng)電池等的制造工藝中會(huì)排出包含全氟化合物等的排氣。此外，也存在于所述排氣中包含wf6、ch2f2、cl2、bcl3、f2、hf、sih4、nh3、ph3、四乙氧基硅烷(tetraethoxysilane，teos)、三乙氧基硅烷(triethoxysilane，tris)、ticl4等的情況。在對(duì)此種排氣進(jìn)行處理的除害裝置中，使用燃燒、電加熱、等離子體等而使全氟化合物等燃燒(氧化)或進(jìn)行熱分解反應(yīng)后，在嵌入所述裝置中的洗煙室中對(duì)排氣進(jìn)行清洗，而將氣體中的f2等吸收去除。
2、作為所述除害裝置，有水冷式燃燒方式的除害裝置，其構(gòu)成為：使水沿著燃燒室的內(nèi)壁面流下，防止燃燒產(chǎn)物附著于內(nèi)壁面，并且防護(hù)內(nèi)壁面免受燃燒熱的影響(專利文獻(xiàn)1)。
3、作為對(duì)來(lái)自除害裝置的排氣進(jìn)一步進(jìn)行凈化處理的裝置，廣泛使用濕式洗氣器(專利文獻(xiàn)2)。
4、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
5、專利文獻(xiàn)
6、專利文獻(xiàn)1：日本專利特開(kāi)2003-24741號(hào)公報(bào)
7、專利文獻(xiàn)2：日本專利實(shí)開(kāi)昭63-66132號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、專利技術(shù)所要解決的問(wèn)題
2、在排氣處理設(shè)備中，在對(duì)來(lái)自半導(dǎo)體制造工藝等的排氣進(jìn)行處理時(shí)，在洗煙室或濕式洗氣
3、在現(xiàn)有的排氣處理設(shè)備中，在生成堆積物的情況下，使裝置停止，由作業(yè)人員進(jìn)行清洗作業(yè)，從而花費(fèi)工夫、成本及時(shí)間。
4、特別是，當(dāng)排氣包含大量的wf6等鎢(w)化合物時(shí)，包含大量的w氧化物的固體物堆積于排氣處理設(shè)備，排氣配管或排水配管容易產(chǎn)生堵塞。
5、本專利技術(shù)的課題在于提供一種可抑制排氣處理設(shè)備中的堆積物或附著物等的生成的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法。
6、解決問(wèn)題的技術(shù)手段
7、本專利技術(shù)的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法為使對(duì)來(lái)自電子零件制造工藝的排氣進(jìn)行處理的排氣處理設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)的方法，且其特征在于，所述排氣處理設(shè)備具有包括灑水機(jī)構(gòu)的濕式排氣處理裝置，將所述濕式排氣處理裝置中的水的ph設(shè)為5～8。
8、在本專利技術(shù)的一實(shí)施例中，所述排氣處理設(shè)備具有：除害裝置，具有通過(guò)熱而對(duì)排氣進(jìn)行燃燒或分解處理的反應(yīng)室及對(duì)來(lái)自所述反應(yīng)室的排氣進(jìn)行處理的洗煙室；以及濕式洗氣器，被導(dǎo)入來(lái)自所述除害裝置的氣體，所述洗煙室及所述濕式洗氣器分別在上部包括作為所述灑水機(jī)構(gòu)的灑水噴嘴，將在所述洗煙室底部與所述灑水噴嘴之間循環(huán)的水及在所述濕式洗氣器的底部與所述灑水噴嘴之間循環(huán)的水的至少任意一個(gè)的ph設(shè)為5～8。
9、在本專利技術(shù)的一實(shí)施例中，所述除害裝置包括被導(dǎo)入所述排氣的反應(yīng)室及用于使水沿著所述反應(yīng)室的內(nèi)壁面流動(dòng)的所述灑水機(jī)構(gòu)，將自所述灑水機(jī)構(gòu)流出的水的ph及蓄積于所述反應(yīng)室的底部的水的ph設(shè)為5～8。
10、在本專利技術(shù)的一實(shí)施例中，所述排氣包含鎢化合物。
11、在本專利技術(shù)的一實(shí)施例中，將所述水的ph暫時(shí)設(shè)為ph10以上的高ph。
12、在本專利技術(shù)的一實(shí)施例中，向所述水中添加過(guò)氧化氫。
13、專利技術(shù)的效果
14、基于本專利技術(shù)，通過(guò)將濕式排氣處理裝置的水的ph設(shè)為5～8，可抑制排氣處理設(shè)備中的堆積物或附著物的生成。本專利技術(shù)特別是在對(duì)包含鎢(w)化合物的排氣進(jìn)行處理的情況下，可充分抑制包含大量的w氧化物的生成物的附著、堆積。
本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種濕式排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，使對(duì)來(lái)自電子零件制造工藝的排氣進(jìn)行處理的排氣處理設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)，且所述方法的特征在于，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其特征在于，所述排氣處理設(shè)備具有：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其特征在于，所述除害裝置包括被導(dǎo)入所述排氣的所述反應(yīng)室及用于使水沿著所述反應(yīng)室的內(nèi)壁面流動(dòng)的所述灑水機(jī)構(gòu)，
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其特征在于，所述排氣包含鎢化合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其特征在于，將所述水的pH暫時(shí)設(shè)為pH10以上的高pH。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其特征在于，向所述水中添加過(guò)氧化氫。
【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
1.一種濕式排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，使對(duì)來(lái)自電子零件制造工藝的排氣進(jìn)行處理的排氣處理設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)，且所述方法的特征在于，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其特征在于，所述排氣處理設(shè)備具有：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的排氣處理設(shè)備的運(yùn)轉(zhuǎn)方法，其特征在于，所述除害裝置包括被導(dǎo)入所述排氣的所述反應(yīng)室及用于使水沿著所述反應(yīng)室...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：原島慎吾，塚本和巳，中田耕次，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：栗田工業(yè)株式會(huì)社，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
還沒(méi)有人留言評(píng)論。發(fā)表了對(duì)其他瀏覽者有用的留言會(huì)獲得科技券。