【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及晶片清潔，尤其涉及一種晶片雙面清潔設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、再生晶片表面經(jīng)過去膜、拋光、清洗等工序能夠進行平整化，以達到再次使用的標(biāo)準，能夠減少資源浪費，降低生產(chǎn)成本。
2、通過清理條的方式能夠代替滾刷清潔的方式對再生晶片表面進行高效清潔，以去除其表面大部分的殘留顆粒。
3、但是，受限于晶片厚度尺寸以及加工方式，通過清理條進行清潔的過程中是對晶片單面進行清潔，再生晶片的兩側(cè)表面均需要進行深度清潔，在單面清潔后需要調(diào)整再生晶片的清潔位置，利用傳統(tǒng)的清潔設(shè)備難以穩(wěn)定有效地對晶片雙面進行清潔，降低了再生晶片清潔的效果以及效率。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、針對上述問題，本專利技術(shù)提供一種晶片雙面清潔設(shè)備，該專利技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)對再生晶片雙面的同步連續(xù)清潔，極大地提高了再生晶片清潔的效率。
2、為解決上述問題，本專利技術(shù)所采用的技術(shù)方案是：
3、一種晶片雙面清潔設(shè)備，包括支撐平臺，所述支撐平臺上端安裝有對再生晶片限位并且控制再生晶片圍繞自身軸線定向轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置，還包括對再生晶片表面清潔的清理條以及對清理條進行導(dǎo)向的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，所述導(dǎo)向結(jié)構(gòu)包括兩組第一導(dǎo)向裝置以及一組第二導(dǎo)向裝置，兩組所述第一導(dǎo)向裝置位于驅(qū)動裝置兩側(cè)對稱布置，所述第二導(dǎo)向裝置位于驅(qū)動裝置上方預(yù)定位置；所述清理條依次穿過第一個第一導(dǎo)向裝置、第二導(dǎo)向裝置、第二個第一導(dǎo)向裝置形成倒置的v字形結(jié)構(gòu)，所述第一導(dǎo)向裝置與清理條之間具有折彎點，所述折彎點位于再生晶片圓心或者圓心正下方位置；其中，
4、優(yōu)選地，所述第二導(dǎo)向裝置包括導(dǎo)向支架，所述導(dǎo)向支架內(nèi)壁安裝有兩組間隔布置的抵緊滾輪，還安裝有位于兩個抵緊滾輪上方的換向滾輪，所述清理條繞經(jīng)換向滾輪進行換向，兩個所述抵緊滾輪均位于清理條外側(cè)與清理條相抵。
5、優(yōu)選地，所述導(dǎo)向支架側(cè)壁開有調(diào)節(jié)開口，兩個所述抵緊滾輪均位于調(diào)節(jié)開口內(nèi)，且調(diào)節(jié)開口內(nèi)安裝有控制兩個抵緊滾輪之間距離的調(diào)節(jié)組件。
6、優(yōu)選地，所述導(dǎo)向支架上端安裝有定位桿，所述定位桿頂部連接有彈性的鎖緊結(jié)構(gòu)。
7、優(yōu)選地，所述清理條為環(huán)形的閉合結(jié)構(gòu)，所述支撐平臺下端安裝有位于清理條移動路徑上的凈化槽，通過凈化槽對清理條表面進行清潔。
8、優(yōu)選地，所述第一導(dǎo)向裝置包括安裝板，所述安裝板內(nèi)側(cè)安裝有對清理條導(dǎo)向的第二導(dǎo)向組件,安裝板外側(cè)安裝有對清理條導(dǎo)向的第一導(dǎo)向組件。
9、優(yōu)選地，所述第二導(dǎo)向組件包括伸縮桿，安裝于伸縮桿伸縮末端的導(dǎo)向底座，所述導(dǎo)向底座內(nèi)壁轉(zhuǎn)動連接有導(dǎo)向輪，所述伸縮桿伸縮方向與再生晶片自身軸線相同。
10、優(yōu)選地，所述支撐平臺上端安裝有控制安裝板線性移動的電動導(dǎo)軌，通過電動導(dǎo)軌控制安裝板沿著再生晶片自身軸線方向線性移動。
11、優(yōu)選地，所述驅(qū)動裝置包括驅(qū)動安裝座和多個驅(qū)動滾輪，所述驅(qū)動滾輪安裝于驅(qū)動安裝座側(cè)壁且多個驅(qū)動滾輪位于虛擬圓周線上。
12、本專利技術(shù)的有益效果為：
13、與現(xiàn)有技術(shù)相比較，通過上述方式，能夠控制清理條按照預(yù)定的軌跡進行移動，在再生晶片的外側(cè)形成倒置的v字形清潔結(jié)構(gòu)，能夠?qū)υ偕瑑蓚?cè)表面進行深度清潔，清理條定向移動的過程中能夠?qū)㈩w粒雜質(zhì)帶走，最大程度上避免了污染物質(zhì)的殘留，保證了成品再生晶片兩側(cè)的清潔度滿足要求；通過該方式能夠?qū)崿F(xiàn)對再生晶片雙面的同步連續(xù)清潔，極大地提高了再生晶片清潔的效率。
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1.一種晶片雙面清潔設(shè)備，包括支撐平臺（100），所述支撐平臺（100）上端安裝有對再生晶片（500）限位并且控制再生晶片（500）圍繞自身軸線定向轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置（400），還包括對再生晶片（500）表面清潔的清理條（700）以及對清理條（700）進行導(dǎo)向的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，其特征在于：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述第二導(dǎo)向裝置（600）包括導(dǎo)向支架（610），所述導(dǎo)向支架（610）內(nèi)壁安裝有兩組間隔布置的抵緊滾輪（620），還安裝有位于兩個抵緊滾輪（620）上方的換向滾輪（630），所述清理條（700）繞經(jīng)換向滾輪（630）進行換向，兩個所述抵緊滾輪（620）均位于清理條（700）外側(cè)與清理條（700）相抵。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)向支架（610）側(cè)壁開有調(diào)節(jié)開口（611），兩個所述抵緊滾輪（620）均位于調(diào)節(jié)開口（611）內(nèi)，且調(diào)節(jié)開口（611）內(nèi)安裝有控制兩個抵緊滾輪（620）之間距離的調(diào)節(jié)組件。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)向支架（6
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述清理條（700）為環(huán)形的閉合結(jié)構(gòu)，所述支撐平臺（100）下端安裝有位于清理條（700）移動路徑上的凈化槽（200），通過凈化槽（200）對清理條（700）表面進行清潔。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述第一導(dǎo)向裝置（300）包括安裝板（320），所述安裝板（320）內(nèi)側(cè)安裝有對清理條（700）導(dǎo)向的第二導(dǎo)向組件（340）,安裝板（320）外側(cè)安裝有對清理條（700）導(dǎo)向的第一導(dǎo)向組件（330）。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述第二導(dǎo)向組件（340）包括伸縮桿（341），安裝于伸縮桿（341）伸縮末端的導(dǎo)向底座（342），所述導(dǎo)向底座（342）內(nèi)壁轉(zhuǎn)動連接有導(dǎo)向輪（343），所述伸縮桿（341）伸縮方向與再生晶片（500）自身軸線相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述支撐平臺（100）上端安裝有控制安裝板（320）線性移動的電動導(dǎo)軌（310），通過電動導(dǎo)軌（310）控制安裝板（320）沿著再生晶片（500）自身軸線方向線性移動。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述驅(qū)動裝置（400）包括驅(qū)動安裝座（410）和多個驅(qū)動滾輪（420），所述驅(qū)動滾輪（420）安裝于驅(qū)動安裝座（410）側(cè)壁且多個驅(qū)動滾輪（420）位于虛擬圓周線上。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種晶片雙面清潔設(shè)備，包括支撐平臺（100），所述支撐平臺（100）上端安裝有對再生晶片（500）限位并且控制再生晶片（500）圍繞自身軸線定向轉(zhuǎn)動的驅(qū)動裝置（400），還包括對再生晶片（500）表面清潔的清理條（700）以及對清理條（700）進行導(dǎo)向的導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，其特征在于：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述第二導(dǎo)向裝置（600）包括導(dǎo)向支架（610），所述導(dǎo)向支架（610）內(nèi)壁安裝有兩組間隔布置的抵緊滾輪（620），還安裝有位于兩個抵緊滾輪（620）上方的換向滾輪（630），所述清理條（700）繞經(jīng)換向滾輪（630）進行換向，兩個所述抵緊滾輪（620）均位于清理條（700）外側(cè)與清理條（700）相抵。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)向支架（610）側(cè)壁開有調(diào)節(jié)開口（611），兩個所述抵緊滾輪（620）均位于調(diào)節(jié)開口（611）內(nèi)，且調(diào)節(jié)開口（611）內(nèi)安裝有控制兩個抵緊滾輪（620）之間距離的調(diào)節(jié)組件。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)向支架（610）上端安裝有定位桿（612），所述定位桿（612）頂部連接有彈性的鎖緊結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片雙面清潔設(shè)備，其特征在于，所述清理條（700）為環(huán)形的閉合...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：邵毅，馮校亮，王剛，
申請(專利權(quán))人：安徽富樂德長江半導(dǎo)體材料股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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